单型掺杂柱电极的3D硅像素探测器的器件与制造工艺研究
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    设计了一种新的3D硅像素探测器的器件结构以简化制造工艺。该结构仅包含一种掺杂类型的柱状电极。通过工业级TCAD仿真对这种结构的电学特性进行了深入研究,阐述了它的技术优势及潜在缺陷。同时研究了制造这种3D硅像素探测器的特殊工艺流程和相关关键工艺,并给出了主要工艺结果。

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  • 收稿日期:2014-05-07
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  • 在线发布日期: 2015-05-08
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