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TFT-LCD摩擦工艺过程中静电放电不良分析及改善设计
引用本文:王国磊,陈鹏,李恒滨,王景棚,杜化鲲,马力,宋红花,王勇辉,张熠点,李宁.TFT-LCD摩擦工艺过程中静电放电不良分析及改善设计[J].液晶与显示,2019(8).
作者姓名:王国磊  陈鹏  李恒滨  王景棚  杜化鲲  马力  宋红花  王勇辉  张熠点  李宁
作者单位:合肥鑫晟光电科技有限公司
摘    要:本文对摩擦工艺过程中的线不良进行了分析,通过切割验证、设计方案变更验证了降低ESD风险的两个方向。通过实际的验证结果分析发现,减小填充图形的面积或者将填充图形连接到公共电极,同时搭配填充图形到信号线的距离增加到大于60μm,可以大大降低静电放电发生的概率,不良率由20%降低到0%。结果充分表明,此设计方案可应用于实际产品设计中以降低摩擦工艺过程中的ESD风险。

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