多步旋涂CsPbBr3薄膜复光学常数的椭偏光谱研究 |
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引用本文: | 管悦,韩培高,孙晓娟,王梦茹,杨军营.多步旋涂CsPbBr3薄膜复光学常数的椭偏光谱研究[J].激光技术,2023(6):866-871. |
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作者姓名: | 管悦 韩培高 孙晓娟 王梦茹 杨军营 |
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作者单位: | 曲阜师范大学物理工程学院物理系 |
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基金项目: | 国家自然科学基金资助项目(11104160); |
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摘 要: | 为了研究多步旋涂法制备的CsPbBr3薄膜的光学常数,以溴化铅和溴化铯为原料,采用多步旋涂法在硅和FTO衬底上制得CsPbBr3薄膜。利用光弹调制式椭偏光谱仪对硅衬底上的薄膜进行了椭偏光谱分析,使用Tanguy和Tauc-Lorentz 3组合模型对变角度的椭偏光谱进行参数拟合,得到了薄膜光学常数在1.00 eV~5.00 eV范围内的色散关系,并利用荧光发射光谱、吸收谱验证椭偏拟合结果。结果表明,多步旋涂法制备的CsPbBr3薄膜的光学常数与其它方法相比具有一定的差异性,其中折射率可能与薄膜表面粗糙度呈负相关;椭偏拟合所得带隙为2.3 eV,验证了荧光光谱、吸收谱的计算结果。该研究为多步旋涂法制备的CsPbBr3薄膜椭偏光谱拟合分析提供了参考。
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关 键 词: | 光谱学 光学常数 椭圆偏振光谱 CsPbBr3薄膜 多步旋涂法 |
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