一种降低渐变折射率反射膜表面电场的方法

为了解决渐变折射率反射膜表面电场不为0,容易造成表面损伤的问题,提出了反射相移补偿方法,即不引入另外界面,在渐变折射率反射膜表面增加一层适当厚度的均匀膜,来降低渐变折射率反射膜的表面电场。结果表明,该方法确实降低了渐变折射率反射膜的表面电场;缺点是导致了渐变折射率反射膜中心波长的略微漂移,但该漂移相比于反射带宽而言可以忽略。该研究对制备高损伤阈值的渐变折射率反射膜具有参考价值。     

半导体衬底上薄膜折射率的测量

本文用已知折射率的折射液体与半导体衬底上薄膜折射率相匹配的方法测得锗上等离子体阳极氧化膜的折射率为1.66,硅上氧等离子体氧化膜及热氧化SiO_2膜的折射率均为1.458。与激光椭偏仪的测量结果符合得很好。本文还用TP—83型椭偏仪的通用程序B算出砷化镓上等离子体氧化膜的折射率为1.80～1.90。     

针式优化技术：历史和未来

设计时需解决的问题即是寻找可提供所要求光谱特性的膜层层数,折射率和膜层厚度。膜层层数用m表示,折射率和厚度为n_j,d_j(j=1…,m)。假定膜层层数和折射率为确定的,那么可改变的设计参数就是膜层的厚度。为定     

单层介质膜保偏全反射直角三棱镜膜介质材料的选择

选择合适的玻璃基和膜介质可以制成单层介质膜保偏全反射直角三棱镜。其中，膜介质的选择受几方面的限制，并且合适膜材料的折射存在一个上限－临界膜折射率。本文利用数值计算的方法，给出了临界膜折射率和基底玻璃折射率的关系曲线和拟合公式。     

反应磁控溅射制备SiOx渐变折射率红外梳状滤光片

梳状滤光片是一种特殊的非均匀光学薄膜器件,其膜层折射率渐变分布结构使它与常规均匀光学薄膜相比具有更好的光学和机械性能.利用反应磁控溅射工艺,改变沉积SiOx(0≤x≤2)膜氧化程度,获得折射率从2.74逐渐变化到1.58(λ=1550 nm)的SiOx渐变折射率薄膜材料.通过调制膜层折射率振幅和引入膜层-外部介质折射率匹配层,成功地设计并制备了具有较好光学性能的SiOx渐变折射率红外梳状滤光片光学薄膜器件.使用单一的硅溅射靶材,通过改变氧化程度获得可变折射率材料的方法,为特殊光学薄膜器件的制备提供了一种经济实用的工艺路线.     

双源电子束蒸发制备Si/SiO2光学薄膜的工艺

用双源电子束蒸发的方法,在K9玻璃基片上蒸镀Si和SiO2的混合膜.通过改变两种膜料蒸发速率的比例,得到的各个膜层,其折射率大小在两种膜料折射率之间的范围内变化.从实验上得出了混合膜层的折射率随Si和SiO2蒸发速率比变化的规律,并讨论了这种淀积方法的优越性.     

双源电子束蒸发制备Si/SiO2光学薄膜的工艺

用双源电子束蒸发的方法,在K9玻璃基片上蒸镀Si和SiO2的混合膜.通过改变两种膜料蒸发速率的比例,得到的各个膜层,其折射率大小在两种膜料折射率之间的范围内变化.从实验上得出了混合膜层的折射率随Si和SiO2蒸发速率比变化的规律,并讨论了这种淀积方法的优越性.     

不同取向金刚石薄膜的红外椭圆偏振光谱特性研究

采用红外椭圆偏振光谱仪对HFCVD方法所制备的不同取向金刚石薄膜的光学参数进行了测量.结果表明(001)取向金刚石薄膜具有较佳的光学质量,在红外波段基本是透明的.在2.5~12.5μm红外波长范围内,(001)取向金刚石膜的折射率和消光系数几乎不随波长的改变而变化,折射率为2.391,消光系数在10-5范围内;对于(111)取向金刚石膜,其折射率和消光系数随波长的改变有微小变化,折射率和消光系数都低于(001)取向膜.通过计算拟合得到(001)取向金刚石膜的介电常数为5.83,优于(111)取向膜.     

均匀混合光学介质膜折射率的一种计算方法

为了简单起见,我们假定混合膜只有两种成分,其折射率分别为n1和n2,相对介电常数分别为ε1(r)和ε2(r)。因为混合膜是均匀的,我们研究混合膜的折射率时可以从膜层中取出一个单位立方体元素来考虑。     

对称膜系的解析设计

对称膜系的特征矩阵具有单层膜特征矩阵的性质.尽管对称膜系的透射带和反射带的等效折射率分别为实数和虚数,其实都是数学上的而不是物理上的等效.完全可利用等效折射率理论,讨论对称膜系在全波段上的光谱特性.     

用椭圆仪测量绝缘膜(上)

1.前言 椭圆仪与其他光学方法不同的是它可以同时测出膜的折射率和厚度,因此在对绝缘膜的测试和评价中是一种有用的方法。 椭圆仪在测试和评价绝缘膜上所起的作用举例说明如下: (a)可以非破坏性地较精确地测出绝缘膜的折射率和膜厚。在测试中评价热氧化膜的精度为     

多层膜中电场的分布和激光损伤的减小

用特征矩阵法计算了多层膜中电场的分布。提出了采用光学非均匀膜来减小各高折射率和低折射率层间界面处材料性质和吸收的不连续性,以提高激光损伤阈值。     

光学增透膜

本文就1973～1980年间发表的几篇美、英、西德专利介绍数种光学增透膜。其中有四种是全可见光波段用,其它是可见光区间的单波长用。衬底有一种是人造树脂,其它均为折射率在1.42～1.85的玻璃。膜材料用MgF_2、SiO_2、ThF_4、LaF_2、NdF_3、BeONa_3(AlF_4)、Al_2O_3、CeF_3、LaF_3、LiF,折射率为1.32～1.62。中等折射率膜材料用MgO、ThO_2H_2、InO_2及MgO-Al_2O_3混合料,折射率为1.7～1.9。能用的高折射率膜材料有CeO_2、ZrO_2、TiO_2、Ta_2O_5、ZnS、ThO_2,折射率为2～2.3。膜层是2～9层。有一种1/4波长结构四层膜系,最佳反射在500nm波长处为0.06％,在440～620nm波段处为0.14％。另一种膜系,最差反射在500nm波长处为0.5％。     

氮化硅在触摸屏中的应用分析(英文)

研究了氮化硅材料在触摸屏领域中的应用,利用等离子体化学气相沉积技术,在一定厚度的玻璃表面沉积不同厚度的氮化硅薄膜。通过理论分析和试验测试的方法得到了氮化硅膜层厚度和折射率对触摸屏透过率以及表面宏观颜色的影响。分析结果表明,氮化硅膜层折射率对触摸屏的平均透过率影响明显,而膜层厚度对触摸屏的平均透过率影响很小,但是膜层厚度的改变对触摸屏特定波长处透过率和膜层宏观颜色影响很明显。在实际生产中可以通过改变沉积条件获得合适折射率及厚度的氮化硅薄膜材料。     

LBO晶体上1064 nm,532 nm二倍频增透膜的设计及误差分析

采用矢量合成法设计了LiB3O5(LBO)晶体上1064 nm,532 nm二倍频增透膜,在1064 nm处的反射率为0.0014%,532 nm处的反射率为0.0004%。根据误差分析,薄膜制备时沉积速率精度控制在 6.5%时,1064 nm处的反射率增加至0.22%,532 nm处增加至0.87%。材料折射率的变化控制在 3%时,1064 nm处的反射率达0.24%,532 nm处达0.22%。沉积速率和折射率控制的负变化不增大特定波长处的剩余反射率。与膜层折射率相比,薄膜物理厚度对剩余反射率的影响小。低折射率膜层的厚度变化对特定波长处的剩余反射率影响最明显,即为该膜系的敏感层。为改善膜基之间的附着力,选择Y2O3或SiO2作为过渡层,从过渡层的厚度匹配和膜层的折射率匹配两方面进行了相应的膜系匹配设计。     

等效折射率图解法在多层滤光片设计中的应用

无吸收对称性的三层薄膜堆的等效折射率已作为高、低折射率膜层的厚度比和折射率之比的关系图示出来。这对深入理解等效折射率特性是有一些用处的,并且在设计抗反射涂层和截止滤光片时也是有用的。     

线性共蒸法制备渐变折射率薄膜的光学特性分析

利用德鲁德理论和洛伦兹一洛伦茨理论，从介电常数分析人手，探讨了混合介质膜的折射率表达式，给出利用双源共蒸法镀制的渐变折射率薄膜在混合介质膜的总沉积速率恒定、两种膜料的单分子大小近似相等和沉积速率均为线性变化时的折射率表达式；从正变和负变、单周期和多周期、不同的周期数和不同的单周期厚度几个方面对渐变折射率薄膜的光学特性进行了模拟分析和讨论；对渐变折射率薄膜的实现、应用以及实验制备中有待进一步解决和处理的问题进行了讨论。     

大陡度透镜表面膜层折射率均匀性分析

集成电路与光刻机系统中通常会设计并使用很多小曲率半径的大陡度透镜,以实现大数值孔径,这对镀制于其表面的紫外薄膜的性能提出了很高的要求。本文分析了行星夹具转动过程中大陡度凸透镜从中心到边缘位置的薄膜沉积角度的变化规律,研究了MgF_2膜层的折射率随沉积角度的变化规律,明确了大陡度凸透镜从中心到边缘位置的膜层折射率不均匀性对深紫外增透膜的影响。针对小曲率半径大陡度凸透镜表面的膜层沉积特性,通过升高基底温度提高了折射率分布的均匀性,为大陡度透镜膜层折射率不均匀性修正提供了理论和实验依据。     

变折射率膜层的获得——实用气相混合蒸镀技术之二

引方在使用两个蒸发源对膜料进行气相混合蒸镀的过程中,如果使两种膜料的淀积速率之比随时间的增加而不断地变化,则可以得到折射率随膜层厚度变化的非均匀混合膜层,具有变折射率的非均匀混合膜层,为薄膜光学开辟了一个新的领域,它在一定程度上使传统的膜系设计得到翻新,它的独特性能对薄膜的发展有着重要意义.     

傅里叶合成法设计渐变折射率薄膜

傅里叶合成方法是一种可以根据期望的光谱特性曲线设计渐变折射率薄膜的方法.叙述了该方法的原理和Q函数的选择.介绍了修正方法使设计膜层折射率在可获得薄膜材料折射率范围内和把膜层匹配到入射介质和基底两端界面的技术.并用该方法设计ZnSe基底3～12μm红外增透渐变折射率薄膜,在设计波段平均透射率达到95%.最后对该方法作了相关评论.