铝硅酸溶胶－MgSiF_6－H_3PO_4系统的~（27）Al、~（29）Si、~（31）PNMR和XRD研究

用２７Ａｌ、２９Ｓｉ和３１Ｐ核磁共振和ＸＲＤ研究了铝硅酸溶胶－ＭｇＳｉＦ６－Ｈ３ＰＯ４系统的物相组成及Ａｌ、Ｓｉ、Ｐ在其中所处的结构状态。结果表明：在铝硅酸溶胶中加入ＭｇＳｉＦ６会导致Ａｌ＋３离子从溶胶胶粒中溶出，溶胶胶粒结构的破坏，从而引起溶胶胶粒中Ａｌ／Ｓｉ比和Ａｌ、Ｓｉ所处结构状态的变化。ＭｇＳｉＦ６与从溶胶胶粒溶出的Ａｌ３＋、Ｎａ＋离子作用形成水溶性很低的ＮａＭｇＡｌＦ６，从而使得铝硅酸溶胶－ＭｇＳｉＦ６－Ｈ３ＰＯ４系统Ｎａ、Ｆ溶出率较低。Ｈ３ＰＯ４的加入也会促进Ａｌ３＋的溶出，但系统中不发生ＰＯ４四面体聚合状态的变化     

铝硅酸溶胶—MgSiF6—H3PO4系统的^27Al,^29Si,^31PNMR和XRD研究

用＾２７Ａｌ、＾２９Ｓｉ和＾３１Ｐ核磁共振和ＸＲＤ了铝硅酸胶－ＭｇＳｉＦ６－Ｈ３ＰＯ４系统的物相组成及Ａｌ、Ｓｉ、Ｐ在其中所处的结构状态。结果表明，在铝硅酸溶胶中加入ＭｇＳｉＦｔ会导致Ａｌ＾＋５离子从溶胶胶粒中溶出，溶胶胶粒结构的破坏，从而引起胶胶粒中Ａｌ／Ｓｉ比和Ａｌ、Ｓｉ所处结构状态的变化。ＭｇＳｉＦ６与从溶胶胶粒溶出的Ａｌ＾３＋、Ｎａ＾＋离子作用形成水溶性很低的ＮａＭｇＡｌＦ６从而使得铝硅酸     

MgSiF_6对铝硅酸溶胶凝胶化的影响及其机理

实验研究了ＭｇｓｉＦ６对铝硅酸溶胶凝胶化的影响，并用２７Ａｌ、２９Ｓｉ核磁共振和ＸＲＤ研究了铝硅酸溶胶－ＭｇＳｉＦ６凝胶的物相组成及Ａｌ、Ｓｉ在其中所处的结构状态。结果表明：在铝硅酸溶胶中加入ＭｇＳｉＦ６会导致Ａｌ３＋离子从溶胶胶粒中溶出，溶胶胶粒结构的破坏，从而引起溶胶胶粒中Ａｌ／Ｓｉ比和Ａｌ、Ｓｉ所处结构状态的变化。ＭｇＳｉＦ６与从溶胶胶粒溶出的Ａｌ３＋、Ｎａ＋离子作用形成水溶性很低的ＮａＭｇＡｌＦ６，从而降低了液相中Ａｌ３＋离子的浓度，减弱了Ａｌ３＋对溶胶的絮凝作用，同时使得铝硅酸溶胶－ＭｇＳｉＦ６系统的Ｎａ、Ｆ溶出率降低。     

耐磨Ni－SiC复合电镀及其应用

含ＳｉＣ最高达１１％的Ｎｉ－ＳｉＣ复合镀层的镀液配方及操作条件为：Ｎｉ（ＳＯ_３．ＮＨ_２）_２·４Ｈ_２Ｏ４１０，ＮｉＣｌ_２·６Ｈ_２Ｏ１０，Ｈ_３ＢＯ_３５０，ＯＰ－１００．４及ＳｉＣ（３μｍ）２０－１２０ｇ／Ｌ，ｐＨ４，５５±２℃，５Ａ／ｄｍ￣２，需搅拌．     

溶胶－凝胶法制备莫来石晶须

用正硅酸乙酯、硝酸铝为原料，采用溶胶－凝胶工艺制备了Ａｌ＿２Ｏ＿３－ＳｉＯ＿２干凝胶，通过高温热处理制得了直径为０．５～２．５μｍ，长径比为５～４０的莫来石晶须。采用ＸＲＤ，ＳＥＭ，ＴＥＭ和ＳＡＤＰ等手段研究了莫来石晶须的晶相组成、形貌与生长方向，发现莫来石晶须是沿其ｃ轴方向生长的。用４ｍｏｌ／ＬＮＨ＿３·Ｈ＿２Ｏ催化的Ａｌ＿２Ｏ＿３－ＳｉＯ＿２溶胶的凝胶化时间越短，经高温热处理后莫来石晶须含量越高。     

混凝法处理高浊度水

研究了单独使用Ａｌ２（ＳＯ４）３．１８Ｈ２Ｏ，无水ＡｌＣｌ３，ＫＡｌ（ＳＯ４）２．１２Ｈ２Ｏ，ＦｅＳＯ４．７Ｈ２Ｏ，Ｆｅ２（ＳＯ４）３．ｘＨ２Ｏ，ＦｅＣｌ３．６Ｈ２Ｏ混凝剂和用无机铝盐（铁盐）与聚丙烯酰胺（ＰＡＭ）联合处理高浊度水的混凝性能。研究表明，使用无机混凝剂和有机高分子混剂复合处理的混凝效果优于单独处理，且前者的投药顺以混凝效果和再稳作用有影响，以先加无机混凝剂，后加有机高分了混凝剂时的效     

O‘—赛隆对MgO—C耐火材料的抗氧化作用

本文提供了Ｏ‘－赛隆材料单独或与Ａｌ或与Ａｌ－Ｍｇ同时加入至ＭｇＯ－１８％Ｃ耐火材料中，在温度升到１５００℃和１６００℃时，与Ａｌ－Ｍｇ和ＳｉＣ或Ｓｉ３Ｎ４的混合物相比较的初步结果。当Ｏ’－赛隆材料与铝同时加入时，可以获得更好的抗腐性能，在这种情况下，Ｍｇ－Ｓｉ－Ａｌ－Ｏ－Ｎ系统中的玻璃组织区域明显扩大。     

高压溶样－ICP／AES测定高纯Al_2O_3粉末中杂质元素含量

采用硫酸作溶剂，高压密封溶解９９．９９％Ａｌ２Ｏ３，以电感偶合等离子体发射光谱（ＩＣＰ／ＡＥＳ）测定高纯Ａｌ２Ｏ３中痕量杂质元素（Ｃａ，Ｍｇ，Ｆｅ，Ｍｎ，Ｃｕ，Ｓｉ，Ｎａ）含量。方法加标回收率８９％～１０７％，相对标准偏差４．６％～８．４％。该法具用溶样简便、无污染、基体干扰小、数据可靠、能同时测定多种元素等优点。     

铝改性硅溶胶胶粒组成与结构关系研究

用ＦＴ－ＩＲ，＾２７Ａｌ－ＮＭＲ和＾２９Ｓｉ－ＮＭＲ研究了不同Ａｌ／Ｓｉ摩尔比的铝改性硅溶胶胶粒结构。结果表明：在Ａｌ／Ｓｉ比为０．２￣０．５的范围内，铝改性硅溶胶胶粒中Ａｌ主要是以在第二配位圈上与［ＳｉＯ４］四面体相连接的［ＡｌＯ４］四面体的形式存在；Ａｌ／Ｓｉ比的不同，其中铝硅酸阴离子结构也各异，根据＾２９Ｓｉ－ＮＭＲ测定结果能较好地定量计算出各种结构的铝硅酸阴离子的分布；ＩＲ谱的８４０￣１３     

Na2O—Al2O3—B2O3—SiO2系统溶胶,凝胶涂层的振动光谱研究

本文用振动光谱分析了Ｎａ２Ｏ－Ａｌ２Ｏ３－Ｂ２Ｏ３－ＳｉＯ２系统溶胶中的化学反应和用浸渍法制备的凝胶涂层结构。结果表明：部分硼、铝在溶胶陈化初期就与Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）４的水解或缩聚产物反应形成线性聚合物，宜于浸涂。热处理时涂层中继续形成Ｓｉ－Ｏ－Ｓｉ、Ｓｉ－Ｏ－Ａｌ和Ｓｉ－Ｏ－Ｂ键；基本结构单元为［ＳｉＯ４］、［ＢＯ４］、［ＢＯ３］和［ＡｌＯ４］。