半水基非ODS液晶清洗技术的应用研究

本文就COG-STN等精细线路高档LCD液晶屏狭缝液晶、电极引脚及玻璃表面的清洗,从非ODS清洗剂、清洗工艺和清洗设备三个方面进行了研究,结果表明使用半水基非ODS清洗剂Fisher2000-1和UEA-8090八槽式水基超声波清洗机清洗能满足产品品质的要求.     

锅炉化学清洗技术的发展(二)——综述及相关问题分析

本文就COG-STN等精细线路高档LCD液晶屏狭缝液晶、电极引脚及玻璃表面的清洗,从非ODS清洗剂、清洗工艺和清洗设备三个方面进行了研究,结果表明使用半水基非ODS清洗剂Fisher2000-1和UEA-8090八槽式水基超声波清洗机清洗能满足产品品质的要求。     

真空开关管生产线上CFC-113替代清洗技术

本文通过几种非ODS清洗剂与CFC-115清洗剂性能的比较，同时简要说明了真空开关管的生产过程中各种清洗剂的使用情况，说明了HEP-2清洗剂替代零部件清洗和整管带电清洗中使用的CFC-115清洗剂的情况。     

半水清洗替代ODS清洗PCB的技术探讨

本文主要叙述了ODS清洗剂对大气臭氧层的破坏，从而导致对人类生存环境的危害，介绍了目前替代ODS清洗剂的几种方法。其中半水清洗替代ODS清洗PCB的技术是一种比较好的工艺方法。本文着重对我公司在实施这种方法过程中，设备的选型、清洗荆的选择、清洗技术参数的设定、清洗效果等进行了探讨。     

水基金属清洗剂的清洗机理

本文介绍了水基金属清洗剂的性能，组成及水基金属清洗剂的清洗机理和选用。     

使用半水基清洗剂的清洗技术 (第二次报告)

在电子仪器的助焊剂清洗作业中,日本使用得最多的是半水基清洗剂。首先就半水基清洗剂的概念和特点加以说明,并介绍清洗剂。其次介绍数例在封装电路板的清洗作业中遇到的问题及其解决办法。     

电子工艺用清洗剂的现状及发展趋势

在综合国内外文献资料的基础上,着重介绍了电子工艺的清洗技术和电子工艺用清洗剂的现状及发展趋势.从而了解到电子工艺用清洗剂目前还存在许多不足及我国的水基清洗剂在技术上急需突破的诸多难题.但是,水基清洗剂具有安全环保、清洗范围广、与大多数被清洗物相容性好和价格低等优点,同时基于相关法律政策,它将成为今后发展的趋势.     

非ODS液晶清洗技术中超声波频率的选择

氟利昂等ODS(指CFC-113,1,1,1-三氯乙烷,四氯化碳)物质正在被逐步淘汰,替代的主要有水基型、半水基型和溶剂型等三种非ODS清洗技术.由于受清洗剂的性能限制以及LCD高清洗要求,在清洗设备上,要求使用浸入式超声波来加强清洗时的物理、化学作用.对于LCD器件,为了防止超声波对LCD器件的结构产生破坏作用,应用超声波时,超声波的主要性能指标-功率和频率的选择显得非常重要.本文重点就LCD器件的非ODS液晶清洗与超声波频率的关系进行了讨论,并对清洗工艺中需要注意的其他因素进行了简单说明.     

非ODS液晶清洗技术中超声波频率的选择

氟利昂等ODS(指CFC-113,1,1,1,-三氯乙烷,四氯化碳)物质正在被逐步淘汰,替代的主要有水基型、半水基型和溶剂型等三种非ODS清洗技术。由于受清洗剂的性能限制以及LCD高清洗要求,在清洗设备上,要求使用浸入式超声波来加强清洗时的物理、化学作用。对于LCD器件,为了防止超声波对LCD器件的结构产生破坏作用,应用超声波时,超声波的主要性能指标—功率和频率的选择显得非常重要。本文重点就LCD器件的非ODS液晶清洗与超声波频率的关系进行了讨论,并对清洗工艺中需要注意的其他因素进行了简单说明。     

液晶显示屏的非ODS清洗技术研究

本文对液晶显示器行业ODS物质的三种替代技术进行了分析比较,重点对水基清洗技术进行了研究。通过加入适量的脂肪醇聚氧乙烯聚氧丙烯嵌段聚醚和脂肪醇聚氧乙烯聚氧丙烯嵌段聚醚磷酸酯,得到渗透性较高,乳化率和发泡性适中的水基型液晶清洗剂。