0.4～1.1微米高透、3～15微米高反的宽光谱带分色滤光片的设计

本文利用金属膜具有高反射率的特点和可以进行诱增透的原理来设计并计算出0.4～1.1微米高透、3～15微米高反的宽光谱带分色滤光片所需要的膜系,并给出分光性能良好的分色滤光片的试验结果。     

中红外全介质高反射膜

用在红外激光技术中的反射镜,一般用金属膜即能满足要求。但金属膜的吸收较大,质软,容易划伤。而全介质反射膜具有高的反射率和低的吸收率,还有选择反射的性质。硒化锌(ZnSe)材料具有较宽阔的透明区(0.5～22μ),用它制作光学元件,安装在光学系统中,用肉眼就能进行观察,使光学系统的安装,调校工作十分容易,因此,在红外光     

聚甲基丙烯酸甲脂制的干涉和保护膜

随着向远红外光谱区的扩展,必须制取8～10微米或更厚的薄膜。用无机材料制这样厚的膜很复杂,有时实际上不可能实现。因此,在1959～1960年,苏联以及其他国家的研究人员对短波光谱区高透的聚合物进行了研究。随着波长的增加,在聚合物的光谱     

介质金属膜波导在G波段和4.3THz的传输特性

制作了具有不同介质膜厚度的大口径柔性介质金属膜波导,测试了金属膜波导和介质金属膜波导在G波段、4. 3 THz和中远红外等频段的传输特性.结果表明,波导的传输损耗在G波段随介质膜厚的增加而增加,孔径2. 6mm的金属膜波导在160 GHz传输损耗为2. 1 d B/m且在G波段波导的传输损耗对弯曲不敏感.在4. 3 THZ频点波导的传输损耗随介质膜厚的增加而减小,镀制介质膜可以大幅减小波导的传输损耗以及弯曲附加损耗,孔径3. 6mm介质膜厚为1. 2μm的介质金属膜波导的传输损耗为2. 84 d B/m.光斑能量则随介质膜厚的增加更加集中于低阶传输模式.     

基于高光谱成像芯片中布拉格反射镜的设计和制备

针对传统高光谱成像系统体积质量大、光机结构复杂、成本高等缺点,亟待微小型化的需求,开展高光谱成像芯片中布拉格反射镜设计和制备的研究,根据布拉格分布膜系理论开发的多层膜系结构的模拟器,并根据结构设计完成了5层和7层膜系布拉格反射镜的制作,利用可见/近红外分光光度计,对布拉格反射镜的反射率进行测量,与模拟器进行对比,由于布拉格镜的实际制备存在瑕疵,导致误差 3%,多层膜系结构模拟器可以指导实际布拉格反射镜的制备,为高光谱成像芯片化奠定基础。     

透可见、反红外宽带分色滤光片的设计

本文用金属膜具有高反射特性同时又可以进行诱增透的原理,设计了透可见、反红外宽带分色滤光片所需要的实际组合膜系——|介质|金属|介质|组合膜系。并给出分色片的实验结果:可见区的透过率为80～88%,中、远红外区的反射率为90%。     

各向同性介质反射镜理论

本文从理论上指出研制能满足“各向同性”条件的介质反射镜的可能性。这种反射镜由二元和三元膜系组成。膜层折射率的数值,原则上是现实的。膜系的层数,按一般镀制工艺也是可以实现的。研究了选用偶数层或奇数层的二元膜系基片对制作各向同性反射镜的影响。     

供高重复频率Nd3+:YAG激光器用的介质选频聚光腔的研究

介质选频聚光腔是用真空镀膜方法,在石英腔体表面镀制多层介质膜堆而成.膜系对氙灯光谱有选择滤光作用:只反射氙灯中引起激光作用的光谱带,而透射不需要的红外和紫外光谱带.这提高了氙灯泵浦激光器的效率,特别适用于高重复频率Nd3+:YAG激光器.文中给出了聚光腔的膜系设计和计算结果,讨论了斜入射光的聚光效率,最后介绍镀膜方法和测试结果.     

窄带反射滤光片

在窄光谱带中具有高反射、且两边相邻的光谱区域受抑制的干涉反射镜,在许多情况下可以得到重要的应用。它能用于红外光谱学。在宇宙研究系统中,用光电法借助于窄带反射滤光片,可分离出需要的明亮谱线。抑制其余辐射(背景)。这种多层膜滤光片可用作激光器的反射镜,用以消除激光束中一定的谱线等等。     

极薄薄膜光学特性与微结构的研究(Ⅰ)——光学常数和微结构的联系

本文利用衰减全反射(ATR)技术研究了极薄金属膜(Ag和Al)以及极薄介质膜(ZnS和SiO_2)的光学常数随膜厚的变化规律,并从等效洛伦兹振子原理和Maxwell-Garnett理论出发,得到了极薄金属膜的微结构参数,从而揭示了成膜过程中微结构变化与光学常数变化的关系。本文还分析了束缚态电子对金属膜光学常数的影响。     

各种铝反射镜在斜入射下8～14微米区的红外反射率

多年来,用介质膜保护的铝外反射镜在光学仪器和设备中得到了广泛的应用,最常用的保护材料是SiO、SiO在O_2气氛中反应蒸发(SiO_x)和SiO_2。过去对这种反射镜在垂直入射下、或近于垂直入射下的反射率测量过很多,它表明保护膜的光学厚度在2500A以下时,这种铝镜在8～14微米区的反射率和未镀保护膜的     

离子辅助淀积介质保护膜

热蒸发或溅射制得的光学透明介质膜,由于它的渗透和不稳定,使其在许多应用上受到限制。本文报导了由离子束辅助淀积的介质保护膜,与通常淀积技术制得的薄膜相比具有相当大的改进。这一结论能用离子辅助淀积薄膜的填充密度比通常蒸镀方法获得的松散柱状微细结构膜层的填充密度大来解释。另外,金属膜层用离子轰击获得相当稳定的结构,并大大改善了膜层的附着力。基底表面的光洁度影响了这些膜层的抗化学腐蚀能力。     

锗基底3～5μm和8～12μm双波段红外增透膜研究

文中简要叙述了双波段(3～5μm 和8～12μm) 红外增透膜的膜料选择以及锗基底上红外双波段增透膜的设计与镀制,介绍了离子束辅助沉积技术制备该薄膜的过程。提出了采用脉冲真空电弧离子镀技术镀制无氢类金刚石膜作为红外增透膜的保护膜,并讨论了镀制类金刚石膜后,镀膜元件的光谱特性。     

宽带干涉膜的散射损耗

测量了0.4～1.0微米间介质宽带镀膜的散射特性。它表明散射特性完全由表面粗糙度和膜系光学特性所决定。ZnS,ThF_4和MgF_2单层膜的散射损耗大约为10~(-2)％。但是,由于多层结构中的共振条件,宽带反射镜的散射可超过10％。为了计算任何多层膜的散射特性和降低宽带镀层的散射损耗,研制了一种散射模型,其计算值和实验结果一致。     

红外前视系统

在红外前视系统通常所采用的波长区域中(3～5微米和8～14微米大气窗),由于反射率和自身发射差异所引起的可见光和近红外光谱区辐射亮度差或发光度差是主要的。在此种情况下,被观测景物各部分的发射率或温度差是红外前视系统“信号”的由来。图4.3-12是白天所测某些目标的光谱辐射亮度曲线图。小于～3微米波长的辐     

全波段快响应激光功率计

介绍一种新型热电型激光功率计,其时间响应快(小于1秒)、灵敏度高(大于18毫伏/瓦),在从紫外到红外的光谱区上(1900埃～25微米)具有平坦的光谱响应。     

铜基底上的金属-介质高反射镜

近年来,在仪器制造中采用了反射物镜,与使用透镜比较,其优越性在于象差小,体积小,反射表面少。反射物镜的透光率,在很大程度上取决于增透零件,特别是高反零件的光谱特性。薄膜光学的任务之一,就是要制备在宽的光谱范围具有高反射率R的反射镜,特别是要在可见光和红外光谱区同时具有高反射率。在红外光谱区具有高反射率的膜料中,金是特别受人关注的。     

超大规模集成电路的平坦化技术

介绍了一种超大规模集成电路层间介质膜的平坦化技术 ,通过对双层布线中复合膜(CVD- Si O2 膜和 SOG膜 )的回刻 ,使器件在具有高的沟或接触孔的深宽比 (aspect ratio)条件下 ,在双层金属膜之间的层间介质膜上获得了好的台阶覆盖性。     

低温PECVD法形成纳米级介质膜微观结构研究

采用俄歇电子能谱 ( AES)和傅里叶红外光谱 ( FTIR)分析低温 PECVD法形成纳米级 Si Ox Ny 介质膜的微观组分结构及其与制膜工艺间关系 ,通过椭圆偏振技术测试该薄膜的物理光学性能。研究结果表明 :该介质膜中氮、氧等元素均匀分布 ,界面处元素含量变化激烈 ;高、低反应气压变化对膜内微观组分影响有异 ;该薄膜是既含有类似 Si3N4 、又含有类似 Si O2 的非晶状态 ,呈现无序网络结构 ;随着含氮量或含氧量的增多 ,该膜分别向Si3N4 或 Si O2 成分较多的结构转化 ;优化制膜工艺形成的富氮 Si Ox Ny 膜的性能与结构方面得到提高。     

金属膜滤光片反射相移的自动补偿

本文研究了制备滤光片的简捷控制方法——直接法的应用范围,指出它不仅适用于介质膜系,也适用于吸收膜(金属膜)系.从实验上已证实,用此法控制膜厚,可使金属膜与介质膜之间的界面反射相移自行补偿,从而提高了滤光片的主峰波长定位精度.