第六届国际光学薄膜技术及应用研讨会通知

2012年10月11-13日中国苏州在现代光学技术领域,光学薄膜技术在需求的牵引下已经成为产业化技术。随着高精尖光学系统和光学技术的飞速发展,对光学薄膜提出了更为苛刻的要求。这对促进我国光学薄膜技术的发展和产业化具有非常重要的意义。中国宇航学会光电技术专业委员会联合有关单位于2012年10月11-13日在苏州市举办"第六届国际光学薄膜技     

第六届国际光学薄膜技术及应用研讨会通知

2012年10月11-13日中国苏州在现代光学技术领域,光学薄膜技术在需求的牵引下已经成为产业化技术。随着高精尖光学系统和光学技术的飞速发展,对光学薄膜提出了更为苛刻的要求。这对促进我国光学薄膜技术的发展和产业化具有非常重要的意义。中国宇航学会光电技术专业委员会联合有关单位于2012年10月11-13日在苏州市举办"第六届国际光学薄膜技术及应用研讨会"。此次会议旨在进一步推动我国光学薄膜技术领域最新成果的展示和交流。中国宇航学会光电技术专     

中国光学学会2008年学术年会将于下月召开

由中国光学学会主办,华侨大学、泉州市人民政府、福建省光学学会联合承办的中国光学学会2008年学术年会将于2008年11月20日～25日在福建省泉州市召开。本次会议共设工程光学和光学制造,生物医学光子学,光电技术与系统,光学薄膜技术新进展,光纤与集成光学理论,器件及应用,精密光学测量新进展,光传感器技术及其     

第十六届全国半导体集成电路、硅材料学术会议将于今年九月在杭州举行

中国兵工学会2009年光学与光电技术交流会将于2009年8月2日-6日在北京举行。本次会议将以工程光学与光学制造、数控光学加工系统,光学薄膜技术新进展,精密光学测量新进展,新型光学材料及其应用,光电技术及系统,激光物理、技术及应用,全息与光信息处理,颜色科学与成像技术,光纤传感与光通信,生物医学光子学,非线性光学以及白适应光学与大气光学等专题组织交流与讨论。     

中国科学院上海光学精密机械研究所2006年光学设计高级讲习班(第一轮通知)

光学设计中的基本概念和问题：光学系统的基本要求及指标,高斯光学,象差理论,成像质量和发展各种不同结构的光学系统的意义等,结合现在流行的光学软件设计的基本功能进行介绍,立足于当前具有代表性的产品设计进行实例的分析和讲解。朱健强研究员主讲光机系统设计和光学加工(Optomechanical System Design and Optical mamufacture)A．目前国际上已形成光机设计的专门学科,其主要内容是如何实现光学系统设计的功能。本课程的内容涵盖了光机设计的原理、设计方法及常规内容。B．介绍各类光学元件加工的各个工艺环节及其相关测控技术,培养光学工程师所需掌握的必要光学加工工艺知识。范正修研究员主讲光学薄膜(Optical Thin Films)A．从光学薄膜的一般性质出发,讲述光学薄膜在激光系统,光通信系统,显示系统中的应用,介绍极紫外和软X射线薄膜,功能性光学薄膜。分析激光对光学薄膜的破坏过程。B．平面、球面、透镜、棱镜等光学元件加工技术,非球面加工技术,特种光学元件加工技术,光学检测技术。王之江王之江,中国科学院院士,物理学家、光学专家,我国激光事业的开拓者之一。在光学设计、激光科学技术、光学信息处理等领域有很高的造     

北京光学学会召开八六年学术年会

北京市光学学会第二属理事会从八五年十月选举成立后，决定第二年召开学术年会。经过几个月的准备，共收到报告115篇（特邀报告11篇），其中激光技术44篇，红外技术14篇，基础光学22篇，光学薄膜技术15篇，激光技术20篇。     

会议报导

北京光学学会光学薄膜专业委员会于1982年12月18日举行成立大会。在京的高等院校、科研单位、工厂企业等38个单位80多人出席了大会。1411所付总工程师杨臣华同志向大会报告了筹备经过以及1983年的活动计划,清华大学韩丽瑛副教授应邀作了“光学薄膜技术的发展和应用”的学术报告。中国光学学会光学薄膜专业委员会副主任林永昌同志向大会表     

高精尖探索铸就技术摇篮产学研联动发展镀膜产业——记中科院上海光机所光学薄膜技术研究与发展中心

中科院上海光机所光学薄膜技术研究与发展中心(以下简称薄膜中心)专门从事光学薄膜技术的研究与开发,其前身是1964年组建的、并集结了当时全国从事激光薄膜研制大部分骨干力量的上海光机所技术光学研究室"镀膜组".经过40多年的发展,薄膜中心在光学薄膜制备方面拥有雄厚的研究基础和完善的测试平台;特别是高性能、高损伤阈值激光薄膜的研究处于国内领先水平.在稳抓基础研究、完善镀膜工艺的同时,薄膜中心积极转化研究成果,推进薄膜产业化,特别是在1999年成立了薄膜事业部.该部目前已经实现了汽车车灯薄膜、强光防护滤光片、透明导电膜、紫外激光薄膜和高品质激光波长分离薄膜产品等多个系列薄膜产品和器件的量化生产.     

浅谈光纤通信中的光学薄膜技术

薄膜在现代科学技术中扮演着重要的角色,随着光纤通信技术和激光技术的发展,薄膜在这个领域的应用越来越广泛。在这种背景下,文章探讨了光纤通信中的光学薄膜技术及光学薄膜的设计与制造,以求为光学薄膜技术的更好研发提供必要的借鉴与参考。     

可见区的高级减反射膜：各种沉积技术的比较

对光学薄膜硬度和环境稳定性的要求不断地提高,促使人们开发离子辅助镀膜技术。今天的用户越来越注意膜层的坚固性和耐久性。典型的要求是优良的光学性能加上最好的环境稳定性和较低的价格。     

用激光制造高质量光学薄膜

该项新技术,系东洋大学教授村山洋一的研究成果,它是根据可以制成粘合性、硬度好薄膜的高频离子喷镀技术,进一步使光学薄膜的激光弹性极限应力大幅度提高,用激光制造光学薄膜的一种技术。以往光学薄膜的激光屈服点小,为4～6J/cm~2,在提高激光系统的高输出功率时,进一步提高光学薄膜的激光屈服点,便成为一重大科研课题。对于制造大量用于包括高输出激光系统在内的半导体加工等的YAG激光器和钕玻璃激光器用的光学元件,针对有关膜形成技术,以     

软X射线波段的光学薄膜

由于正入射X光光学发展的迫切需要及超精细拋光与超薄多层膜制备技术的成就,适用于软X射线波段的光学薄膜已获得飞速发展并趋于成熟、走向市场。这一波段的光学薄膜具有十分重要面广阔的应用前景,它已成为整个光学薄膜领域中一个令人瞩目的新分支。本文介绍了这些光学薄膜的成膜与监控工艺及对其特性的测试技术,并对我国在这方面的工作进展作一个概要的回顾与展望。     

电子束蒸发Ar离子辅助沉积Si光学薄膜的特性

对用常规电子束蒸发和Ar离子辅助沉积所得的非晶硅光学薄膜的光学常数、表面形貌、热稳定性和湿度稳定性等进行了研究.结果发现Ar离子辅助沉积所得非晶硅光学薄膜的折射率大大提高,表面粗糙度明显降低,湿度稳定性和热稳定性也得到较大改善,但是光学带隙变窄,光学吸收增加.     

背投显示技术及其用光学薄膜

对比了背投领域几种主要技术的原理和性能特点，同时介绍了多媒体投影系统所需要的各类光学薄膜的作用，参数和光学性能；并针对该领域国内外最新研究状况进行了调研，给出了现在所面临的关键技术难题并对其发展前景做了预测。     

产业资讯

2009光学薄膜前沿国际会议在西安召开10月11~15日,2009年光学薄膜前沿国际会议(Frontiers of Optical Coatings,FOC2009)在西安召开。FOC2009由中国光学学会光学薄膜专委会举办,浙江大学现代光学仪器国家重点     

光学薄膜进展

本文就消偏振截止滤光片在多通道光纤通讯中的应用、远紫外及软x-射线反射镜的突破、离子束辅助的蒸发技术的兴起以及薄膜微结构的研究等方面综述了光学薄膜技术近十年来所取得的主要进展。高能激光对光学薄膜提出了苛刻的要求,连续式磁控溅射大批量制造建筑物窗口玻璃上的阳光薄膜有着巨大的市场,记录介质薄膜仍然是开发光学信息存贮的关键,所有这些都是对光学薄膜技术的挑战。     

剩余反射率测量装置

剩余反射率是对光学零件上所镀的增透膜而言的。为了提高光学仪器的成象质量和效率,在光学系统的光学零件表面敷镀上一层或几层适当的光学薄膜,以提高光学零件的透过率。这光学膜层即为增透膜。通常,镀制增透膜后,以剩余反射率来衡量光学薄膜的效果。而剩余反射率测量装置就是为了测量这剩余反射率大小的一种光度测量仪器。     

美国第三届光学干涉薄膜讨论会论文简介

六十年代以来,光学薄膜科学与技术进入了异常活跃的发展时期。随着激光技术、红外技术、彩色技术、光学仪器、遥感技术、光通讯等技术的发展,对光学薄膜提出了更高的要求。这促进了光学薄膜在理论、淀积技术、监控技术、测试技术、膜层生长及结构的研究等方面的进展。 1984年4月在美国加利福尼亚州蒙特里会议中心召开的第三届光学干涉薄膜专题讨论会就是这种进展的一个体现。在这次会议上共发     

中国科学院上海光学精密机械研究所光学薄膜技术研究与发展中心

中国科学院上海光学精密机械研究所光学薄膜技术研究与发展中心(以下简称中心)集基础研究与应用开发于一体,是国内最早发展薄膜光学技术的单位之一,也是国内有能力提供全套高功率激光薄膜的主要研究机构之一。本中心从事的领域是光学薄膜的设计、制备以及性能检测;在光学薄膜的应用波长上,跨越了整个光波段,从软x射线多层膜到红外波段;中心的研究特色主要体现在强激光薄膜,以追求高光学性能、高激光损伤闻值的强激光薄膜为主攻方向。     

实现光学薄膜吸收损耗绝对测量的新方法

光学薄膜吸收损耗的绝对测量对光学薄膜的优化设计与应用至关重要,以光热失调技术实现光学薄膜吸收损耗的绝对测量为研究目的,采取连续激光加热的方式,理论与实验相结合,提出了一种利用反射率或透射率、温度变化和加热光功率之间的3个线性关系,实现吸收损耗绝对测量的方法。针对设计的高反射光学薄膜实验样品,获得样品对加热光功率的吸收率绝对值为1.64×10-2,并分析了影响测量精度的主要因素。研究表明,提出的方法可以实现光学薄膜吸收损耗的绝对测量,特别适合于具有较大反射率或透射率温度系数的样品,测量准确性依赖于样品表面温度理论模型的建立和实验测量的精度,研究结果为光热失调技术的进一步应用提供了理论和实验支持。