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对加速器生产111In所用镉靶制备工艺进行了研究.通过研究电沉积过程中影响Cd靶质量及厚度的各种因素,确定了最佳工艺条件.所研制的镉靶厚度大于57 mg/cm2,表面光亮、致密、牢固. 相似文献
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电沉积法制备233U同位素靶 总被引:1,自引:0,他引:1
对影响电沉积铀的主要因素进行了试验和讨论;用α能谱法分析了靶样品中的成分,提出了在较薄铝箔(9μm)上一次沉积厚度达8-15g/m^2的233U的制备工艺。 相似文献
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采用电沉积法对加速器生产109Cd所用Ag靶的制备工艺进行研究。实验研究了电沉积过程中影响Ag靶层质量及厚度的主要因素,确定了Ag靶制备工艺条件和工艺参数:ρ(Ag )=20~50 g/L,ρ(KNO3)=10~30 g/L,φ(NH4OH)=0.1~0.2;电流密度10~15 mA/cm2,电沉积时间2~3 h,室温。用此工艺条件制备出靶厚大于100 mg/cm2、表面光滑、镀层致密的Ag靶。 相似文献
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研究了在水溶液体系中采用电沉积法制备铀靶的方法。以0.15mol/L草酸铵为电解液,铂丝为电极,通过考察阴极处理工艺、电流密度、电沉积时间、pH、温度、搅拌速度、镀液中UO2(NO3)2浓度等对电沉积效率及镀层质量的影响,确定了制备电沉积铀靶的最佳工艺参数,其中,沉积效率通过紫外分光光度法测得。在pH=2~3、电流密度60mA/cm2、保持温度60℃、镀液中UO2(NO3)2浓度约1.67mg/mL时沉积效率可达约98%。采用红外光谱、X射线能谱和扫描电镜等对铀沉积层进行了测试。结果显示,铀以水合聚合物的形式存在,可能的结构为[UO2(H2O)4-O-UO2(H2O)4-O],铀的沉积层的纯度较高,除检测到铀(65.35%)、氧(27.38%)、碳(5.46%)和铂(1.81%)外未引入其他杂质,镀层表面平整、致密,与衬底结合牢固。单次铀的电沉积层厚度可达6mg/cm2,采用高温烧结后重复电镀的方法可将电沉积铀的密度提高到6~8mg/cm2。 相似文献
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陈玉清 《中国原子能科学研究院年报》2003,(1):115-115
银(Ag)靶用于加速器生产109Cd (制备标准源,用于校正仪器;制备低能 g 源,用于放射性同位素X射线荧光分析),其核反应为109Ag(p,n)109Cd。金属Ag是1B族元素,Ag e→Ag,其标准电极电位为E0=0.799 4 V。离子态Ag 易与铜靶托发生化学置换反应而沉积出金属Ag,使得沉积层致密较差。为 相似文献
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对电沉积铀靶进行了系统的检测技术研究.通过分光光度法测其电镀收率;运用扫描电子显微镜、X射线能谱和红外光谱对电沉积层的表面形貌、微区成分和结构组成进行分析和表征;采用低频振动试验检测铀沉积层的牢固性;考虑到入堆辐照的安全性,计算了靶件的发热量并用γ谱仪测试了靶件中铀分布的均匀性.介绍了这些无损检测技术的方法和检测结果. 相似文献
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对同位素Ni靶的制备工艺进行了研究。通过对电沉积过程中影响靶膜生长质量的因素与靶膜厚间的关系实验,确定出最佳制备工艺条件。用最佳工艺条件制备出了品质优良的大面积Ni同位素自支撑靶膜。 相似文献
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68Ge主要用于制备68Ge-68Ga发生器以及正电子发射型计算机断层显像(positron emission computed tomography)的校正放射源。采用69Ga(p,2n)68Ge反应制备68Ge,本研究建立了制备镓镍合金靶件的方法,以利用现有的回旋加速器生产68Ge。在酸性条件下通过电沉积法制备镓镍固体靶件,优化镀液组分以及电沉积条件,确定了电沉积工艺,制备了镓含量75%的镓镍固体靶件。经过三次辐照实验表明,此靶件可以生产68Ge。此工艺简便易行,制备的靶件质量稳定,可应用于回旋加速器生产68Ge。 相似文献
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针对目前核电站安全运行实时监测中对高分辨率241Am作为稳峰源的需求,建立了一种高分辨率α放射源制备方法--磁流体动力学电沉积法,并设计了磁流体动力学电沉积法制备放射源的装置和流程。以241Am为研究对象,对磁流体动力学电沉积法制备放射源的工艺条件进行了优化选择:在沉积槽单侧施加磁场使沉积源片中心处的磁感应强度B=0.193 T、(NH4)2SO4电解液浓度0.5 mol/L、电流密度180 mA/cm2、沉积液pH=2.0~2.5、电极间距5 mm、沉积时间1 h。结果显示,241Am可定量沉积在不锈钢阴极源片上,沉积效率近100%,且所制源的能量分辨率较不加磁场时提高了15.0%。所制源的牢固性和均匀性检验结果表明,磁流体动力学电沉积法所制备的241Am α放射源的牢固性和均匀性均良好。 相似文献
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微型核电池用镍-63放射源要求放射源表面发射率高、镀层薄、衬底小,以小体积、高比活度、低镍浓度的镍-63溶液作为电沉积液,建立一种直流恒流电沉积制备镍-63放射源的方法。采用该方法,衬底为紫铜材质、Ni2+浓度为1 g/L、电沉积液pH为3.5~4.5、氨基磺酸浓度为0.1 g/L条件下电沉积1 h,电沉积率可达95.8%。制备的镍-63放射源源片镀层紧密、光亮,厚度0.3~1.6 μm,其表面发射率最高可达2.40×107 s-1·(2πSr)-1,活度最高可达1.89×109 Bq,满足微型核电池的应用需求。同时,通过对剩余电沉积液进行回收、组分调节,实现了电沉积液的重复利用,减少了镍-63原料的浪费。 相似文献
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采用脉冲电沉积方法, 以N,N-二甲基甲酰胺(DMF)体系为电镀介质,研究了电极距离、溶剂DMF的体积、沉积时间、铀的质量浓度、阴极材料等对镀层性能和铀沉积率的影响,得到在DMF中脉冲分子镀铀的最佳条件, 制备得到的靶面平整、牢固.用扫描电镜分析了铀靶的形貌和组成,采用测厚仪分析了铀靶厚度的均匀性.结果表明,在脉冲电沉积中,铀是非均匀沉积,靶面密度为0.2~2.0 mg/cm2. 相似文献