首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
相似文献
 共查询到10条相似文献,搜索用时 31 毫秒
1.
化工合成制药是支撑社会稳定发展的重要组成部分,对社会经济稳定增长具有重要作用。随着化工合成制药规模逐渐扩大,致使产生的废水量大幅度增加,严重破坏生态环境。近些年,药品种类逐渐多样化,由于不同药品的生产原材料和生产工艺存在很大不同,导致废水成分不同,给废水处理带来一定难度,这也是废水处理效率降低的重要原因。因此,要结合化工合成制药实际情况,深入研究废水类型和特点,不断提升废水处理技术,以满足化工合成制药行业的发展需求,从根源上减少对环境的污染程度,为我国环保事业不断取得进步奠定基础。主要围绕化工合成制药废水处理技术展开了讨论。  相似文献   

2.
目的:为了探究化工合成制药废水使用fenton法处理的效果。方法:取8个样本的制药废水,进行fenton法处理后比较COD的清除率。结果:8个样本的废水处理后均达到了排出标准,且清除率约在70%左右。结论:利用Fenton法可以高效的处理化工合成的制药废水,且成本低易操作,值得推广。  相似文献   

3.
建峥嵘 《贵州化工》2012,37(4):23-26,32
合成制药废水水质特点为有机物浓度高、难生物降解,废水处理难度大、出水不易达标。为使合成制药废水达标排放,指导工程设计,通过对国内外合成制药废水的处理技术进行对比,推荐合成制药废水处理的工艺路线为物化-高效厌氧-好氧联合处理技术。  相似文献   

4.
对于现在化工制药废水的处理中,光催化臭氧的应用非常广泛,通过这样的方式能够对化工的制药废水进行全面的解毒,避免环境被制药废水污染。由于化工的制药废水中包含许多的有害化学物质,通过相关的资料与数据表明,光催化臭氧能够合理地抑制细菌与病毒的生长与蔓延,具备强力的杀毒功能,因此得以在化工厂广泛应用。本文主要探究光催化臭氧在化工制药废水处理过程中的解毒和降解。  相似文献   

5.
化工制药的废水主要是指药品在生产以及加工过程中形成的废水。近几年,我国经济日益增长,医药行业也得到了高速发展,药品的种类以及产量日益增加。因此,化工制药所形成的废水处理难度增加,本文主要结合化工制药对废水的处理工艺提出优质合理的解决方案,以此来提升我国环境质量。  相似文献   

6.
目前,合成制药废水污染问题已相当严重。本实验采用ABR-SBR组合反应器对合成制药废水进行处理,考察了组合反应器处理合成制药废水的可行性和最佳运行条件。结果表明:在ABR的水力停留时间为9 h,SBR的曝气时间为12 h的条件下,系统的处理效果最佳;污泥培养期,化学需氧量(COD)去除率最终稳定在95%左右,污泥培养成熟;含25%合成制药废水的污泥驯化期,COD浓度的平均值从711.6 mg/L降为45.9 mg/L;含50%合成制药废水的污泥驯化期,ABR出水的COD去除率最终仅稳定在26%左右,合成制药废水的生物抑制性明显;在整个工艺的运行期间,出水COD可以达到国家环境保护标准(GB 21904-2008)的要求。  相似文献   

7.
随着社会经济和科学技术的发展,我国的化工合成制药工艺也取得了长足的进步。药物是民生的根本,精湛的制药工艺是保证药物质量的前提,而制药装置则是制药工艺能够稳定推进的基础。结合过往经验及实际情况,对化工合成制药工艺的优化方法进行分析和探究。  相似文献   

8.
光催化臭氧法对化工制药废水的解毒和降解研究   总被引:5,自引:0,他引:5  
采用光催化臭氧法(O_3/UV)对某化工制药高浓度毒性废水进行生化系统前的预处理的实验研究,考察了臭氧气体流量对有机物降解影响、O_3/UV对废水可生化性的影响。实验结果表明:光催化臭氧法(O_3/UV)对含有杀菌剂等的高浓度有毒化工制药废水的解毒效果明显,可明显提高废水的可生化性(BOD_5/COD)。  相似文献   

9.
紫外氧化技术原理在石化废水中处理中的应用范围广,可以处理诸如:化工电镀废水、化工制药废水、化工染料废水、石油开采废水等含有机污染物废水。通过这一技术的运用可以有效提高石化废水中污染物的清除率,减少处理时化工试剂的投放量,降低运营成本。适合污水量处理量不大,但污染严重的石油、化工废水的分布式处理系统,具有良好的经济效益和发展前景。  相似文献   

10.
Fenton氧化技术处理难降解工业有机废水研究进展   总被引:15,自引:0,他引:15  
系统地分析了各种Fenton氧化技术对有机污染物的降解机理,概述了Fenton氧化技术在处理化工废水、印染废水、制药废水、农药废水和含油废水等难降解工业有机废水中的应用研究进展,认为拓宽Fenton氧化体系的pH响应范围,开展Fe2 /Fe3 固定化技术研究是今后的研究重点,Photo-Fenton和E1ectro-Fenton将是今后Fenton氧化体系的两大发展方向.  相似文献   

设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号