化学镀Ni—Cr—P合金结构及耐蚀性能

利用电化学测试及ＸＲＤ、ＸＰＳ等方法，研究了化学镀Ｎｉ－Ｃｒ－Ｐ合金的结构及耐蚀性能，结果表明：在碱性溶液中使用络合剂可以获得化学镀Ｎｉ－Ｃｒ－Ｐ合金，其结构主要决定于合金中的磷含量，高磷合金为非晶结构。铬显著地提高了合金的耐蚀性能，铬在合金表面膜中富集是合金在１ｍｏｌ／Ｌ ＨＣｌ溶液中产生钝化的主要原因。     

“电沉积Ni－W、Ni－W－P非晶态合金”简介

“电沉积Ｎｉ－Ｗ、Ｎｉ－Ｗ－Ｐ非晶态合金”简介文献报道，Ｎｉ－Ｗ－Ｐ非晶态合金具有优良的高耐蚀、高耐磨性能，在汽车ＣＡＳＳ抗蚀试验中，Ｎｉ－Ｗ与Ｎｉ－Ｗ－Ｐ镀层的抗蚀性能至少为相同厚度化学镀Ｎｉ－Ｐ合金的三倍，硬度超过镀硬Ｃｒ，为１０００～１３００Ｈ...     

化学沉积Ni─Mo─P合金结构和耐蚀性的关系

本文采用Ｘ射线衍射和全浸试验方法，对化学镀Ｎｉ－Ｍｏ－Ｐ合金层的结构和抗蚀性能进行研究。结果表明：在硫酸溶液中，三元非晶态Ｎｉ－Ｍｏ－Ｐ合金层的耐蚀性高于二元非晶态Ｎｉ－Ｐ合金层的耐蚀性。     

电镀Ni－Cr－P合金添加剂的研究

对电镀Ｎｉ－Ｃｒ－Ｐ合金的有机和无机添加剂进行研究。结果表明，添加剂有助于获得铬含量较高的合金镀层，并使镀层的表面形态得到改善。最后，给出了电镀Ｎｉ－Ｃｒ－Ｐ合金的新工艺配方。     

化学镀Co－P／Ni－P磁记录介质的研究

对用化学镀制取Ｎｉ－Ｐ／Ｃｏ－Ｐ磁记录介质的工艺进行了研究。结果表明，对基片进行合适的预处理后，首先化学镀一层Ｎｉ－Ｐ合金层，厚度在２４μｍ左右，然后再化学镀Ｃｏ－Ｐ磁性合金，可获得良好的磁记录性能。     

化学镀Ni－Mo－P合金阳极溶解行为的XPS研究

利用ＸＰＳ等手段研究了化学镀Ｎｉ－Ｍｏ－Ｐ合金在Ｈ＿２ＳＯ＿４溶液中的阳极溶解行为。结果显示，稳定电位下阳极形成稳定致密的钝化膜，其主要成分为Ｎｉ（ＯＨ）＿２，其余为Ｎｉ（ＰＯ＿４）＿２、ＭｏＯ＿２及部分结合水。阳极电位正移，阳极表面膜厚度增加，结合水减少，在０．２Ｖ左右，阳极溶解电流剧增，局部腐蚀严重。此时，表面膜的主要成分为Ｎｉ＿３（ＰＯ＿４）＿２，其余为Ｎｉ（ＯＨ）＿２及ＭｏＯ＿２。合金在阳极溶解过程中出现磷（钼）在合金的富集。     

化学沉积Ni—Mo—P合金结构和耐蚀性的关系

本文采用Ｘ射线衍射和全浸试验方法，对化学镀Ｎｉ－Ｍｏ－Ｐ合金层的结构和抗蚀性能进行研究。结果表明：在硫酸溶液中，三元非晶态Ｎｉ－Ｍｏ－Ｐ合金层的耐蚀性高于二元非晶态Ｎｉ－Ｐ合金层的耐蚀性。     

化学镀Ni－Sn－P合金镀层耐蚀性的研究（Ⅱ）

研究了化学镀Ｎｉ－Ｓｎ－Ｐ合金镀层的耐蚀性、并同高磷Ｎｉ－Ｐ合金（１１．９ｗｔ％Ｐ）镀层进行了比较。结果表明：Ｎｉ－Ｓｎ－Ｐ合金镀层孔隙率低，在酸性、中性和碱性介质中的耐蚀性优于Ｎｉ－Ｐ合金镀层。     

钨的共沉积对化学镀镍层性能的影响

研究了共沉积钨对化学镀Ｎｉ－Ｐ合金结构和性能的影响，研究结果表明，Ｎｉ－Ｗ－Ｐ合金镀层的晶化程度主要由磷含量决定而与钨含量无关；钨的共沉积对镀层硬度影响不大；在相同含量的情况下，Ｎｉ－Ｗ－Ｐ合金镀层的耐蚀性，耐磨性和热稳定性能都优于Ｎｉ－Ｐ合金。     

化学镀Ni－Sn－P合金的工艺研究（Ⅰ）

研究了以复合配位剂的化学镀Ｎｉ－Ｓｎ－Ｐ合金镀液、镀液组分和操作条件对沉积速度的影响。综合考虑镀层的组成，镀液的稳定性，确定了化学镀Ｎｉ－Ｓｎ－Ｐ合金的镀液最佳组成和工艺条件。     

溶液pH值对化学镀Ni-Co-P合金的影响

在化学镀中镀液的ＰＨ值不仅影响施镀过程的沉积速度,而且还将直接影响镀层成分及镀层性能。着重研究了溶液ＰＨ值对化学镀Ｎｉ－Ｃｏ－Ｐ的影响,比较了化学镀Ｎｉ－Ｃｏ－Ｐ和Ｎｉ－Ｐ镀层的性能,以及热处理对镀层性能的影响。     

化学镀Ni－P－B合金工艺的研究

研究化学镀Ｎｉ－Ｐ－Ｂ合金工艺，对镀液的稳定性以及镀层的结构和耐蚀性进行了分析。实验表明：采用含稳定剂硫酸镉的镀液施镀，可得到结合力强、非晶态结构的Ｎｊ－Ｐ－Ｂ合金镀层，并具有优良的耐蚀性。     

化学镀Co—P／Ni—P磁记录介质的研究

对用化学镀制取Ｎｉ－Ｐ／Ｃｏ－Ｐ磁记录介质的工艺进行了研究，结果表明，对基片进行合适的预处理后，首先化学镀一层Ｎｉ－Ｐ合金层，厚度在２４μｍ左右，然后再化学镀Ｃｏ－Ｐ磁性合金，可获得良好的磁记录性能。     

纳米氧化镁合成工艺条件的研究

常温碱性条件下化学镀所得的低Ｐ含量的Ｎｉ－Ｐ／Ｃｏ－Ｐ阴极具有优良的析氢性能。为提高其稳定性，本文采用Ｆｅ基体上内层为化学镀Ｎｉ－Ｐ，外层为化学镀Ｃｏ－Ｐ的镀层结构。与单一镀层阴极相比，该复合阴极具有较好的抗反电流性能和长期的电位稳定性。     

脉冲电镀Ni－Co合金的研究

研究了脉冲参数对电沉积Ｎｉ－Ｃｏ合金镀层的钴含量与硬度的影响。确定了最佳的脉冲参数。应用Ｘ射线和扫描电镜分析了Ｎｉ－ＣＯ合金镀层的结构和形貌。比较了脉冲电流（ＰＣ）和直流电流（ＤＣ）电镀Ｎｉ－Ｃｏ合金镀层的各种性能。     

柠檬酸盐－三乙醇胺化学镀Ni－P合金

研究了在碱性柠檬酸盐溶液中，以三乙醇胺代替氨水的Ｎｉ－Ｐ合金化学镀工艺条件。讨论了镀液组成、添加金属离子对镀速、镀层性能及其中磷含量的影响。该工艺应用于铝及铝合金工件上取得良好效果。     

化学镀Ni－P合金层耐蚀性能的研究

通过中性盐雾试验、极化曲线测验、Ｘ射线衍射和扫描电镜等手段研究了影响化学镀Ｎｉ－Ｐ合金镀层耐蚀性能的各种因素。认为镀层的含磷量随镀液中次磷酸钠浓度、络合剂浓度或镀液温度的增高而提高，但随镀液ｐＨ值的增高而减低。而含磷量较高的镀层具有较高的耐蚀性能。研究还表明，镀件在化学镀前经过抛光处理会有助于提高镀层的耐蚀性。而镀后在高温度下的热处理，则会使镀层的耐蚀性变差。     

化学镀非晶态Co-Ni-P薄膜磁性的研究

化学镀Ｃｏ－Ｎｉ－Ｐ薄膜镀态下为非晶态结构,Ｃｏ－Ｎｉ－Ｐ薄膜的矫顽力较低,矩形比较高,其易磁化方向与膜面垂直。薄膜越厚,矫顽力越高,矩形比越低;镀液的ｐＨ值越高,矫顽力越高;当以化学镀Ｎｉ－Ｐ合金作为中间镀层时,可获得较高的矫顽力和矩形比。     

化学镀非晶质电阻膜的现状与展望

叙述了化学镀非晶质电阻膜分类和制作技术，其中包括Ｎｉ－Ｐ，Ｎｉ－Ｗ－Ｐ，Ｎｉ－Ｍｏ－Ｐ，Ｎｉ－Ｃｒ－Ｐ，Ｎｉ－Ｂ，Ｎｉ－Ｗ－Ｂ，Ｎｉ－Ｍｏ－Ｂ，Ｎｉ－Ｂ－Ｐ，Ｎｉ－Ｐ－ＳｉＣ以及Ｎｉ－Ｂ－ＳｉＣ等非晶质电阻膜的化学镀技术。介绍了化学镀非晶质电阻膜的形成机理。归纳了化学镀非晶质电阻膜的优点，指出了今后的发展方向。     

光亮Cu—Sn／Ni／Cr层在大气曝露试验中的耐蚀性

例举了电镀光亮Ｃｕ－Ｓｎ合金、镀光亮Ｎｉ、套装饰Ｃｒ体系的新配方及工艺参数。着重研究了该镀层在大气曝露试验中的防腐耐蚀性能，与常规镀Ｃｕ／Ｎｉ／Ｃｒ及镀双层Ｎｉ／Ｃｒ体系的试验比较，具有优良的防护能力和装饰效果。