A.A-AM-AN-SH共聚物的反相乳液合成及性能研究

研究了以环己烷为分散介质,油/水比例为1.4,Span80-Tween80为乳化剂,过二硫酸钾为引发剂,以丙烯酸(AA)、丙烯酰胺(AM)、丙烯腈(AN)和次亚磷酸钠(SH)为单体反相乳液合成共聚物AA.AM-AN-SH阻垢剂.通过静态阻垢实验评定该共聚物对水中CaCO3垢、Ca3(PO4)2垢的阻垢效果,探讨了共聚物浓度、温度、溶液pH值、水体硬度等因素对阻垢性能的影响及共聚物分散氧化铁的性能,并对其结构进行了表征.结果表明,共聚物AA-AM-AN-SH具有较好的分散性能及耐高温、耐高硬度、耐宽pH值的优良阻垢性能.     

一种新型阻垢分散剂的反相乳液聚合及性能

以环己烷为分散介质,油/水比例为1.5,Span 80—Tween 80为乳化剂,过硫酸钾为引发剂,用反相乳液聚合合成了马来酸酐—牛磺酸—丙烯酰胺—烯丙基磺酸钠共聚物。通过静态阻垢实验评定了该共聚物对水中CaCO3,Ca3(PO4)2的阻垢效果。讨论了共聚物分散氧化铁的性能及药剂用量,温度,pH值,水体硬度对碳酸钙阻垢率的影响。结果表明:合成的阻垢剂具有较好分散性能及耐高温,高硬度,高pH值的优良阻垢性能。     

共聚物MA-SA-AM-AA的反相乳液聚合及其阻垢分散性能

研究了以环己烷为分散介质,油/水比例为1.5,Span80-Tween80为乳化剂,过硫酸钾为引发剂,用反相乳液聚合合成了多功能马来酸酐-氨基磺酸-丙烯酰胺-丙烯酸共聚物（MA-SA-AM-AA）.通过静态阻垢实验评定了该共聚物对水中CaCO3、CaSO4和Ca3（PO4）2的阻垢效果.探讨了共聚物分散氧化铁的能力及共聚物的用量、温度、pH值.水体硬度对阻垢率的影响.共聚物的合成工艺及应用符合环保要求,合成的阻垢剂具有耐高温、高硬度、宽pH值等优良阻垢性能.     

三元共聚物的合成及阻垢分散性能研究

以过硫酸铵为引发剂,采用水溶液聚合法,合成马来酸酐(MA)、丙烯酰胺(AM)和甲基丙烯酸甲酯(MMA)三元共聚物。经红外分析测试证实所得产品为三元共聚物。选择两种共聚物和AA/AMPS对常见无机垢进行阻垢分散实验,聚合物具有低剂量效应,对抑制碳酸钙、硫酸钙和磷酸钙垢沉积效果显著,同时分散氧化铁性能较好。     

高分子马来酸酐-牛磺酸-丙烯酸共聚物反相乳液合成及阻垢分散性能研究

研究了以环己烷为分散介质、油水比为1．6、Span80-Tween80为乳化剂、过硫酸钾为引发剂,反相乳液聚合 合成高分子马来酸酐-牛磺酸-丙烯酸共聚物(MA-TA-AA)。通过静态阻垢实验评价了该共聚物时水中CaCO3、 Ca3(PO4)2的阻垢效果。探讨了共聚物的药剂用量、温度、pH值、水体硬度对阻垢率的影响以及分散氧化铁的性能。并 用IR法对其结构进行了表征。该合成工艺符合环保要求,能减少副反应、提高产率,合成的阻垢剂具有耐高温、高硬度、 高碱度、宽pH值的优良阻垢性能。     

共聚物MA-TA-AA-AM-SH的反相乳液合成及其阻垢分散性能研究

以环己烷为分散介质,油∶水为1∶1.5,Span80-Tween80为乳化剂,过氧化氢为引发剂,以马来酸酐(MA)、牛磺酸(TA)、丙烯酸(AA)、丙烯酰胺(AM)和次亚磷酸钠(SH)为单体反相乳液合成共聚物(MA-TA-AA-AM-SH)阻垢剂。通过静态阻垢实验表明:综合经济因素,阻垢剂投加量达到10 mg/L对CaCO3、Ca3(PO4)2和CaSO4的阻垢效果较佳,分别为82.3%,95.9%和78%;在高温条件下对碳酸钙和磷酸钙分别有56.6%,68.9%较佳阻垢率;高pH、高硬度恶劣条件下对碳酸钙仍分别有40.8%,57.9%的较好阻垢率;投加量达到8 mg/L时对氧化铁的分散性能最佳,透光率为56.7%。并利用IR对其结构进行表征。该阻垢剂是一种较好耐苛刻条件的多功能阻垢分散性剂。     

共聚物阻垢分散剂的合成与性能

以水为溶剂,过硫酸盐为引发剂,丙烯酸（AA）和2丙烯酰胺基2甲基丙磺酸（AMPS）及丙烯酸羟丙酯（HPA）为单体合成了AA AMPS HPA三元共聚物阻垢分散剂。研究了单体配比、引发剂用量和反应温度及分子量调节剂用量对共聚物阻垢分散性能的影响,得出了较佳的合成条件。以此条件合成的共聚物既具有较好的阻碳酸钙及磷酸钙垢性能,又具对氧化铁有很好的分散性能。     

含磷AA/AMPS共聚物的合成及阻垢性能研究

以水为溶剂，丙烯酸（AA），2-丙烯酰胺基-2-甲基丙磺酸（AMPS）和次磷酸钠为原料，合成了含磷AA/AMPS共聚物阻垢分散剂。探讨了单体配比，引发剂用量，反应温度等对共聚物阻垢性能的影响。得出了最佳合成条件：m(AA);m(AMPS)=75:25，引发剂与单体（AA和AMPS）的质量比为10%，反应时间4h，反应温度90℃，并采用静态实验法评价了共聚物的阻垢性能，结果表明，含磷AA/AMPS共聚物阻垢性能优良。     

乌头酸-丙烯酸共聚物的合成及性能研究

以柠檬酸为原料,经分子内脱水生成乌头酸,与少量丙烯酸合成了乌头酸一丙烯酸共聚物(AA—AA)。对共聚物的阻垢、分散、缓蚀及生物降解性能进行了测试,结果表明,AA—AA不仅有优良的阻垢分散性能,而且具有很好的生物降解性能,28d的生物降解率可达56．73％。     

高效水稳剂YSS-96的合成及性能研究

以水为溶剂，过硫酸铵为引发剂，丙烯酸（AA）、2－丙烯酸胺－2－甲丙基磺酸（AMPS）和马来酸酐（MAn）为单体，合成了AA／AMPS／MAn三元共聚物（代号YSS－96），并对其阻垢和缓蚀性能进行了评定。结果表明，该共聚物不仅具有优良的阻垢分散性能，而且对碳钢也有较好的缓蚀作用，是一种性能优异的稳定剂。     

共聚物MA-AM-AA-MMA的反相乳液合成及其阻垢分散性能

以环己烷为分散介质,油/水比例为1.5,Span 80-Tween 80为乳化剂,过硫酸钾为引发剂,用反相乳液合成了功能高分子马来酸酐-丙烯酰胺-丙烯酸-甲基丙烯酸甲酯。通过静态阻垢实验表明,阻垢剂投加量达到8 mg/L对CaCO3、Ca3(PO4)2和CaSO4的阻垢效果较佳,分别为90.5%,93.2%和86%;在高温、高pH、高硬度等恶劣条件下对碳酸钙仍分别有40.4%,32.4%,37.6%的较好阻垢率;投加量达到3 mg/L时对氧化铁的分散性能最佳,透光率为69.7%。并用IR法对其结构进行表征。该阻垢剂是一种耐严酷条件的优良多功能阻垢分散剂。     

MA-TA-AA-AM-SAS共聚物的反相乳液合成及其性能

为了提高产率,减少副反应,以环己烷为分散介质,油/水比例为1.6,Span80-Tween80为乳化剂,使用过硫酸钾作为引发剂,用新方法反相乳液合成了高分子聚合物马来酸酐-牛磺酸-丙烯酸-丙烯酰胺-烯丙基磺酸钠。通过静态阻垢实验评定表明:阻垢剂投加量达到10 mg/L时对碳酸钙和磷酸钙阻垢率较佳,分别为90.4%和91.8%;在高温、高pH、高硬度等恶劣条件下对碳酸钙仍分别有60.2%,46.4%,53.2%的较好阻垢率;投加量达到5 mg/L时对氧化铁分散性能最佳,透光率为46.1%。该共聚物是一种耐恶劣条件的优良阻垢分散剂。     

PAA—PESA对阻Ca3（PO4）2垢性能的评定

通过对磷酸钙的静态阻垢实验,对PESA—PAA的阻垢效果进行了评价。结果表明,PAA—PESA有良好的阻磷酸钙垢效果。综合实际考虑在80℃,浓缩时间10h,PAA和PESA加入量分别为2mL和10mL时,阻垢率最理想。在浓缩时间和浓缩温度一定的情况下,随着阻垢液的加入量的增加,阻垢率随之升高;在浓缩时间和阻垢液的加入量的一定的情况下,阻垢率在80℃之前是呈上升趋势,在80℃达到最高,在80℃之后随着温度的上升而降低;在浓缩温度和阻垢液的加入量一定的情况下,阻垢率随着浓缩时间的增加而降低。     

铕(III)三元活性配合物/丙烯酸凝胶的制备

以氧化铕(Eu2O3)、邻菲罗啉(phen)和丙烯酸(AA)为原料,制备了含铕(III)三元活性配合物Eu(AA)3phen,与丙烯酸-丙烯酰胺凝胶体系进行UV共聚,制备了含铕水凝胶。研究了凝胶中Eu(AA)3phen含量对其吸水性、温敏性及荧光性能的影响,同时探讨了温度及溶胀时间对其荧光性能的影响。结果表明,随Eu(AA)3phen含量的增加,凝胶吸水率先增加后减少,荧光强度逐渐增强;对于特定的凝胶体系,其12 h溶胀度随温度增加而增加,凝胶的荧光强度随溶胀时间和温度增加而减弱。当Eu(AA)3phen的添加量为3.5%时,凝胶综合性能最佳:平衡溶胀度为631 g/g,4 h内吸水率达90%以上,荧光强度为175 a.u.。所研制的水凝胶在吸水及荧光性能方面对温度均具有良好的响应性。     

无磷阻垢剂在云南解化循环水系统中的应用

针对云南解放军化工厂补充水硬度较高、碱度较高、结垢现象严重的问题,开发出了由聚甲基丙烯酸(PMAA)、氧化烯、苯并三氮唑和有机胺等合成的无磷阻垢剂TS-117。并进一步探讨了阻垢率随阻垢剂用量、水质以及溶液温度的变化关系。实验表明:这种阻垢剂具有良好的阻垢性能。     

基于水性光敏聚合物的MCNTs分散液的制备及性能研究

以丙烯酸(AA)、对苯乙烯磺酸钠(SS)、甲基丙烯酸缩水甘油酯(GMA)为原料合成了一种水性光敏聚合物PSAG用于分散多壁碳纳米管(MCNTs)。采用核磁共振对PSAG进行了结构表征。研究发现,在水溶液中,PSAG对MCNTs有很好的分散性能,在相同分散条件下,其分散性能不逊色于商用聚合物分散剂:聚乙二醇辛基苯基醚(Triton X-100)和聚苯乙烯磺酸钠(PSS)。并且,PSAG-MCNTs涂层经紫外光曝光后可以形成交联结构,大大提高涂层的耐水性,同时具有较高的导电性能。