氯化氢的纯化方法

本发明涉及的是氯化氢的纯化方法。通常，氯化氢是用硫酸分解岩盐或盐酸来制备，或者由氯和氢合成。合成用的氢气有时用含氢量高的工业气代替。同样，氯化氢也可从许多有机洽成的废气中获得。粗氯化氢气总是含有一些杂质，其成分和数量取洗于氧化氢的制备方法，一般含有水汽和N1、H2等杂质。由氯和氢合成的氯化氢财比较纯净，     

氯化氢的纯化工艺研究进展

高纯氯化氢在电子工业中有着非常广泛的用途。简介了氯化氢的物性和应用领域;介绍了氯化氢的合成方法;按照杂质的分类对氯化氢的纯化工艺进行了介绍;对氯化氢产业的发展前景进行了展望。     

太和气体(荆州)有限公司电子级氯化氢项目正式投产

太和气体(荆州)有限公司(以下简称"公司")投资建设的高纯电子级氯化氢项目于2014年9月正式投产,产品纯度最高可达到99.999%,设计产能800 t/a,为国内最大的电子级氯化氢制造商。电子级氯化氢主要用于外延生长前硅和砷化镓高温气相刻蚀,清除钠离子。另外高纯氯化氢也用于金属表面化学处理,激光用混合气、胶片生产及碳纤维表面处理。随着半导体市场需求的增加,氯化     

电子级氯化氢精制工艺的研究进展

电子级氯化氢是电子工业常用的高纯化学气体,随着集成电路的快速发展,对氯化氢的杂质含量要求越来越严格。简述了电子级氯化氢的主要用途和现状,简介了工业级氯化氢的生产方法,介绍了电子级氯化氢生产过程中各种精制方法及其研究进展,主要是低温精馏法、吸附法和化学反应法。最后对三种方法进行了讨论和对比,指出了精制工艺的研究重点是针对其中不同的微量杂质选用不同的工艺或工艺组合,并展望了电子级氯化氢的国产化前景。     

高纯氯化氢制备技术研究进展

高纯氯化氢用途广泛,不仅是集成电路生产中硅片刻蚀、钝化、外延、气相抛光、吸杂和洁净处理等工艺的重要材料,也可用于金属冶炼,光导通讯和科学研究等领域。近年来,随着集成电路产业的飞速发展,对高纯氯化氢的需求量大增的同时,对于产品纯度的要求也是越来越高。本文主要从氯化氢的理化性质、用途及主要的制备方法入手,对目前几种常用的氯化氢的制备工艺技术及研究进展进行总结,以期对我国高纯氯化氢的制备和技术提升提供参考。     

电子级高纯氯化氢的研制

一引言高纯氯化氢是电子工业中制造大规模集成电路所需的重要材料之一。我国电子工业所用高纯氯化氢过去大多是从美、日等国进口。由于进货不及时,且价格昂贵,国内只好采用硫酸洗涤除氯化氢中的水,或用盐酸脱析制得纯氯化氢气体,这就使水份等杂质含量高,严重影响了电子元件的质量。1983年,我所接受了研制高纯氯化氢的任务。经过3年努力,已于1986年制得合格产品,即     

用冷凝技术测定氯化氢气中微量水

氯化氢气中痕量水的测定,对半导体材料制造厂来说一直是相当重要的。对氯化氢中水的检测采用过许多不同的方法,包括卡尔·费休滴定法、红外光谱技术和使用干燥剂的重量测定法等。尽管它们在1000ppm(V/V)以上的高湿含量范围取得了不同程度的成功,但对测量水含量在1～1000Ppm范围的氯化氢时,这些方法就显得繁琐和不可靠。我们已找到一种测定氯化氨中水含量的方法,它类似于惰性气的露点测定。本法迅速,且易重复。氯化氢中ppm浓度的水含量,对应其冷凝温度的标定曲线,是低湿度ppm级含水的氮标准气与干氯化氢气由动态混合而建立起来的。此外,用干的氮气稀释干的氯化氢时,要鉴测     

单点和多点式有毒气体检测器

该有毒气体检测器对氯气、氯化氢、氟化氢、溴、溴化氢和其它有毒气体(将其水解为氯化氢和氟化氢)能迅速而准确地进行检测。这种检测器采用电化学探示器尤其适用于上述气体的检测。在化工厂或用户使用的化学制品中,含有的石油成份或有机溶剂一般不影响检测。这种多点式检测器具有如下     

含氯化氢废气的净化及综合利用

氯化氢气体危害人体的健康、危及动植物生长，也损害各种器材、器具，是一种有毒有害的气体。本文首先阐述了它的性质、危害和产生它的污染源，第二介绍了国内外治理含氯化氢的污染的实用技术和应用实例。由于氯化氢又是有用的工业资源，文中重点介绍了氯化氢废气的综合利用技术，并将德、美、法、日等国开发的，已经工业化生产的以含ＨＣｌ废气生产氯气、以副产稀盐酸用于工业生产和含ＨＣｌ废气的直接利用的方法为借鉴，供国人参考     

工业氯化氢气体的生产

概述了工业氯化氢气体在近代工业中的得要性,讨论了工业氯化氢气体生产的基本原理及其工业生产操作对技术经济指标的影响。     

两项电子气体国标颁布

<正>2015年元旦前夕,国家质检总局、国家标准化管理委员会发布公告,《电子工业用气体高纯氯》和《电子工业用气体氯化氢》正式颁布。参与这两项标准制修订工作的中昊光明化工研究设计院有限公司相关人士表示,高纯氯和氯化氢是电子工业的重要原材料,它们主要在半导体制备过程中用作刻蚀剂和清洗剂等。这两项国家标准的制修订对于规范高纯氯和氯化氢产品的研发、生产     

氯化氢中微量有机和无机杂质的色谱分析

由于在半导体材料生产中所使用的氯化氢要求纯度高，这就决定了对其中的杂质(特别是含氧物，如O2、CO、CO2等)含量作直接高灵敏的控制和检测的必要性。     

双核酸性离子液体催化麻疯树果油制备生物柴油

设计合成了种双核酸性离子液体[MIM]2C4[HSO4]2、[BPy]2C4[HSO4]2、[MIM]2C4[PTSA]2和[BPy]2C4[PTSA]2,将其用于催化麻疯树果油和甲醇的酯交换反应,比较了不同离子液体间的酯交换催化性能,离子液体[MIM]2C4[HSO4]2的催化性能最好。在离子液体[MIM]2C4[HSO4]2作为酯交换反应的催化剂时,考察了反应温度、醇油摩尔比、离子液体用量和反应时间对酯交换反应的影响。结果表明:在反应温度为130℃,醇油摩尔比为12,离子液体用量为4%,反应时间为5h时,生物柴油收率可达94.8%。离子液体[MIM]2C4[HSO4]2具有较好的循环使用能力,循环使用6次后,生物柴油收率没有明显降低。     

低温氯化氢储罐的保冷设计

对-40℃氯化氢储罐的保冷设计进行了论述,选取了合适的保冷材料,分别考察了保冷厚度和环境温度与冷损失、氯化氢蒸发量的关系.     

离子色谱法测定空气中的氮氧化物和氯化氢含量

阐述了离子色谱法测定空气和废气中氮氧化物、氯化氢的含量的方法与步骤。测定结果显示,氮氧化物和氯化氢的检测限分别为0.08mg/L、0.02mg/L,该方法的回收率分别为96.5%～102.1%,98.5%～103.7%,线性范围分别为0.00-l00mg/L,0.00-100mg/L,是一种简单、快速、可靠测定空气和废气中氮氧化物、氯化氢含量的好方法。     

巨化股份投建高纯电子气体项目

巨化股份近日发布公告:拟设立全资子公司并由其投资1.5亿元实施高纯电子气体项目(一期),以加快电子化学品业务培育,促进转型升级,优化产业结构。该项目拟新建1000 t/a医药级氯化氢、1000 t/a高纯氯化氢、500 t/a高纯氯气等系列产品的生产装置及相关配套设施。其中,高纯氯化氢主要用于半导体芯片生产过程中的清洗和外延生长工艺;高纯     

深冷文献消息(国外部分)

20 0 110 0 1　采用过滤和 /或吸附方法纯化低温液体的流程美国专利　№ 5 913893　 (英 )2 0 0 110 0 2　空气纯化流程美国专利　№ 5 9144 5 5　 (英 )2 0 0 110 0 3　手握式低温外科探头装置美国专利　№ 5 916 2 12　 (英 )2 0 0 110 0 4　从高压储槽将液态二氧化碳输送至低压可移动储槽中去的系统和方法美国专利　№ 5 916 2 46　 (英 )2 0 0 110 0 5　分离和回收全氟化合物的流程和系统美国专利　№ 5 85 80 6 5　 (英 )2 0 0 110 0 6　从气体混合物中分离和回收碳氟化合物和氯化氢的流程美国专利　№ 5 85 80 6 6　 (英 )2 0 0 110 0…     

实验室氯化氢气体制备工艺探讨

讨论了实验室中氯化氢气体的制备工艺。给出了每种工艺的原理、装置和实例,通过对比它们的优缺点,得出了合理有效的制备工艺:浓盐酸滴入浓硫酸的方法。此外探讨了使用氯化氢钢瓶供气的方法。     

多晶硅生产中副产物SiCl4的综合利用

在氯化氢（HCl）合成制备三氯氢硅（SiHCl3）过程中,除主要产品SiHCl3外,还有大约15％左右的四氧化硅（SiCl4）副产品,另外还有二氯氢硅（SiH2Cl2）等。在SiHCl3氢还原中,还伴随有SiHCl3的热分解而生成的SiCl4、SiH2Cl2和HCl等,     

油溶性离子液体作为润滑油添加剂的摩擦学性能研究

为解决离子液体在基础油中溶解性差、不宜用作润滑添加剂的问题,通过分子设计制备了极性较小的十六烷基三辛基季膦磷酸二异辛酯盐和十六烷基三辛基季胺多库酯钠盐2种油溶性离子液体,其在碳氢润滑油聚ɑ烯烃(PAO10)中均具有较好的溶解性。采用铜片腐蚀试验考察了2种离子液体的腐蚀性;通过Optimol SRV-IV往复振动摩擦磨损试验机测试了2种离子液体作为PAO10基础油添加剂的摩擦学性能,通过多功能X射线光电子能谱仪(XPS)和原位接触电阻(ECR)表征推导了离子液体添加剂在PAO基础油中的润滑机理。结果表明:2种离子液体作为PAO10的添加剂无腐蚀,完全符合对润滑添加剂的要求。2种离子液体添加剂比空白基础油和传统工业添加剂ZDDP均具有更好的减摩抗磨性能。2种离子液体添加剂会在摩擦副表面形成有效的吸附膜和发生复杂的摩擦化学反应,因而使离子液体具有优异的减摩抗磨性能。