相变型光盘的高密度化技术方向

相变型光盘是出非晶态光痕和晶态间的光反射率的变化进行信号重放。由于这个特征，使相变型光盘和检出凹凸坑光反射率变化的只读光盘ＣＤ－ＲＯＭ、ＤＶＤ－ＲＯＭ兼容的驱动系统成为可能。     

改写型双层光盘用快速相变材料

开发了GeSnSbTe膜。它是在传统的相变材料GeSbTe中添加Sn的新型相变材料,具有优良的快速晶化特性。该薄膜厚度即使减薄到5μm,仍可在50ns内的激光照射时间之内晶化。GeSnSbTe膜（6nm）宜用于第一记录层;GeSbTe(12nm）宜用于第二记录层。采用青紫色激光（λ=405nm,NA＝0.65）。按照容量27GB、数据记录速率33Mbps的标准,试制了双层相变光盘。每个存储层都能得到50dB以上的C／N和好于30dB以上的抹除率,此时,第一和第二记录层的记录功率分别为6mw和11mw。     

高密度光盘原盘制作工艺研究

为了开发优于DVD的下一代高密度光盘，需要新的原盘制作工艺－－采用分辨率高于传统激光的曝光光源。开发了用电子束作曝光光源的原盘制作装置－－EBR（Electron Beam Recorder),采用2P复制及注塑成型方法，试制了CD尺寸容量25GB的光盘，且性能良好。进而完善制作条件，显示处具有超过200GB高密度记录的可能性。     

磁光盘存储技术;跨世纪的竞争

一、前言 光盘是70年代发展起来的信息存储介质,具有存储密度高、容量大、检索方便、价格低、存档寿命长等特点,是当今信息社会一种十分理想的多用途存储介质,用它可以存储人类社会的各种信息,如文件、图像、声音、工程图纸、科学数据等。光盘的应用打破了磁性存储介质一统天下的格局,为信息存储技术注入了新的活力。 世界光盘产业的发展十分迅速,现已成为光电子产业的重要支柱,年产值大大超过了光纤通信等产业。在光盘产品中,最有发展前途的首椎可抹重写型磁光盘,它的问世,是对     

纳米技术助力高密度存储

专家认为，常规磁存储技术在2010年左右会达到极限，未来磁存储密度能否获得突破性的发展，几乎完全取决于相关领域纳米材料的研究成果。     

细微结构的复制--高密度光盘复制的条件

在整个光盘产业前途都展现一片光明的时候．细微结构的复制成为实现光存储介质小型化十分重要的研究方向。一个新近的研究计划显示母盘和模具的不同将导致碟片复制结构的变化。     

大容量可擦写双层相变光盘

开发了可擦写型大容量双层相变光盘。该光盘激光束入射面的记录层（Layer O)具有“透射率平衡构造”。这种盘结构可减少Layer O的记录／未记录状态下的投射率变化。这种功能是通过采用Ge-Sb-Te记录膜、优化设计电介质层膜厚的办法实现的。通过读出信号振幅的观察，确认这种结构可以抑制Layer O的记录状态对深层记录层（Layer 1)的影响。还确认两记录层具有良好的适用性能和记录性能，最大记录量有可能达到55GB。     

高密度光盘的注塑工艺

目前光盘的容量越来越大,新格式的光盘在碟片直径不变的情况下,单面单层的容量已经超过22GB,这给光盘基片的注塑工艺带来了挑战。 新格式的生产技术研究发展工作要从两个方面进行:高密度格式所需要的原料和复制生产用的复制设备。而生产厂商欢迎的是一个综合的厂家为他们提供统一的服务和解决方案。     

可擦写型双层相变光盘高透射率记录层技术

可擦写型双层相变光盘的前记录层(激光入射面的记录层,或称前层)需要一个相变光记录层。该记录层具有高投射率的反射率反差[设结晶部的反射率为Rcry、非结晶部的反射率为Ramo,则反射率反差的定义为(Rcry-Ramo)/(Rcry+Ramo)]。从激光入射面来看,该前层的结构依次是ZnS-SiO_2层、界面层、GeTe-Sb_2Te_3相变材料层(6nm)、界面层、Ag合金反射层(10nm)。和传统的结构相比,其特点是最上层为具有稿投射率的TiO_2层(20nm)。TiO_2层与反射层之间可产生光学干涉,非晶部和结晶部可实现高投射率,分别达到54％和51％。而且,为了增大反射率反差,采用使信号极性成为Rcry>Ramo的所谓“High to Low结构”,获得了超过0.7的巨大的反射率反差(Ramo=0.7％,Rcry=5.7％)。该前层采用波长405nm、NA=0.85的光学系统,记录最短标记(记录畴)长为0.149μm的1-7PP调制信号(双层相当于50GB的密度)时,在10mW的记录功率条件下,可获得7.4的抖晃值。     

新一代的蓝色光盘的测试仪

开发新一代光盘媒体必须具备相应的测试设备．Thomas Weber分析和叙述了一种“静态测试仪”，该仪器可望在蓝色(BLU-RAY)光盘的检测中获取应用。     

磁光盘市场前景乐观

在所有个人电脑使用的可擦写介质中,3.5英寸磁光盘(MO)和驱动器在日本的使用率最大。这种产品在日本出现在任何其它大容量可擦写介质系统之前,并且可靠性得到广泛的认可。MO系统在日本有许多型号,在计算机商店和电子零售店均能买到。随着5.25英寸MO盘和驱动器的价格下调,MO盘的性能价格比己经上升。     

磁光盘抗腐蚀研究的进展

介绍了国内外磁光盘抗腐蚀研究的进展，比较了目前常用的几种保护材料的基本特性，分析了对磁光盘进行优化设计的关键技术，在对现有的磁光保护层材料的不足进行分析的基础上，预测了磁光盘保护材料研究发展的未来趋势。