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超光滑超精密玻璃抛光新技术 总被引:2,自引:0,他引:2
超光滑抛光玻璃表面粗糙度为纳米量级,超精密抛光加工精度达到分子级或原子级。超光滑和超精密抛光新技术包括数控小工具抛光、应力盘抛光、浴法抛光、磁流变抛光、离子束抛光、电子束抛光、激光抛光和等离子辅助抛光等。本文重点阐述采用20KeV、1×10^14ions/cm^2和1×10^16ions/cm^2的N^+离子对钠钙硅酸盐和铅玻璃进行离子束抛光的原理与工艺,抛光后粗糙度仅为几十纳米。采用高束流脉冲电子束抛光时,当束流超过10^12W/cm^2时,玻璃表面Griffith裂纹扩张,粗糙度反而增加,必须严格控制抛光时电子束能量。 相似文献
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本文采用了AAS、IRRS、XPS、EPM、SEM和EPMA研究了影响两种钠钙铝镁玻璃(浮法和压延玻璃)及两种铅玻璃(高铅光学和中铅器皿玻璃)风化的因素(温度、湿度、时间)。在相同的风化条件下,含碱量较高的中铅器皿玻璃最易风化。求出四种玻璃风化析碱量与温度和时间的经验式,并得出高铅玻璃风化前后表面桥氧、非桥氧和自由氧的比例。对钠钙玻璃和铅玻璃的风化机理也进行了讨论。 相似文献
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Li2S-SiS2锂离子导电玻璃被认为是实现二次高能电池全固体化的最佳固体电解质材料之一,但由于二元系玻璃的化学稳定性差,很难投入工业化应用.在总结二元Li2S-SiS2快离子导电玻璃制备、结构和性能的基础上,分析了含氧酸盐以及第二种网络形成剂对这种玻璃结构和电性能的影响.结果表明:60Li2S·40SiS2玻璃中加入少量(摩尔分数约5%)像Li4SiO4一类的含氧酸盐,不仅使材料的室温离子电导率提高到1.5×10-3 S/cm,而且材料的电化学稳定性和热稳定性同步提高.加入像P2S5之类的第二种网络形成剂,则在基本不改变材料离子电导率的情况下提高了玻璃的稳定性. 相似文献
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张兆玉 《建筑玻璃与工业玻璃》2005,(3):26-27
1概述 离线溅射镀Low—E玻璃具有较高的可见光透过率和很低的热辐射率,其热辐射率比在线镀膜的Low—E玻璃更低,保温隔热性能更好。在镀膜后进行高温热处理方面,溅射镀Low—E玻璃性能处于劣势。探索可钢化热弯的Low—E玻璃一直是离线溅射镀膜玻璃行业的迫切要求。 相似文献
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研究常温下He离子辐照对Ti3AlC2材料形貌和结构的影响并对其机理进行了分析.采用能量为70 keV,剂量为1×1017ions/cm2,位移损伤峰值为16.4 dpa的He离子注入Ti3AlC2材料;发现Ti3AlC2材料辐照损伤和He离子浓度有关,随着He离子浓度增大,辐照损伤程度越大;Ti3AlC2材料经过He离子辐照后产生会有孔洞、凸起和氦气泡产生;与此同时,Ti3AlC2结构上发生ɑ相到β相的转变,并对Ti3AlC2材料的损伤机理进行分析. 相似文献
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采用射频磁控溅射法在普通玻璃衬底上制备了Ga2O3含量为3wt.%的掺镓氧化锌透明导电薄膜(GZO).通过X射线衍射仪(XRD)、场发射扫描电子显微镜(SEM)、四探针测试仪、台阶仪、UV-Vis-NIR3600型紫外-可见分光光度计研究了溅射时间对薄膜结构、表面形貌及光电性能的影响.结果表明,溅射时间为40 min时制备的GZO薄膜的光电综合性能最好,可见光区透过率峰值86%,方阻为16.4Ω/□,电阻率为1.18 ×10-3Ω·cm,性能指数ΦTc为4.73 ×10-3 Ω-1;随着溅射时间增加,薄膜光学带系从3.69 eV减少到3.56 eV.在溅射时间60 min时结晶度最高,方块电阻为9.0Ω/□,电阻率最低为9.7×10-4 Ω·cm,可见光透过率峰值为81%. 相似文献
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随着手机材质的不断发展,曲面手机玻璃已经成为一种趋势,越来越多的厂家将曲面玻璃手机作为旗舰级手机配置。在曲面手机玻璃整个工艺流程中,抛光是其重要的一个环节,直接制约着成品率。本文给出了一种使用柔性抛光垫,在化学机械抛光机理下进行曲面手机玻璃抛光的方法。该方法能满足曲面手机玻璃的平面和弧面同时抛光,提高了抛光效率。 相似文献
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通过高温熔化工艺制备了Ce、Sm、Eu、Tb、Dy 5种稀土离子不同浓度掺杂的钠钙硅玻璃,利用荧光光谱仪测试了玻璃的发射光谱,并分析研究了这5种稀土离子在不同掺杂浓度下的光谱特性以及浓度淬灭效应。 相似文献
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综述了威尼斯玻璃、威尼斯地区玻璃、威尼斯式玻璃的特征、成分和制备。网纹是威尼斯地区玻璃的特有装饰形式,介绍了网纹装饰的工艺过程。 相似文献
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介绍了全氧燃烧技术的特点和高硼硅玻璃的生产现状,探讨了全氧燃烧高硼硅浮法玻璃窑炉的结构特点,指出了全氧燃烧技术在高技术玻璃生产上的应用前景。 相似文献