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本文以石墨粉为原材料,采用改良版的Hummers法制备了氧化石墨烯,并通过抗坏血酸还原氧化石墨烯制备了还原石墨烯。采用透射电镜(TEM)、X射线光电子能谱分析(XPS)、傅里叶变换红外光谱(FT-IR)、拉曼光谱(Raman)等测试方法对氧化石墨烯和还原石墨烯的形貌、结构与组成进行了对比分析。研究结果表明,氧化石墨烯被抗坏血酸还原成还原石墨烯后,氧化石墨烯的一部分含氧官能团被去掉,氧含量百分比下降,还原石墨烯表面出现褶皱重叠,紊乱程度增加。 相似文献
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Hummers法在制备氧化石墨烯过程中会产生有毒气体且存在废液难处理的问题。本文对浓硫酸、硝酸钠、高锰酸钾三种氧化剂的氧化效果进行研究,发现浓硫酸和硝酸钠对石墨的氧化作用非常有限,Hummers法中起主要作用的氧化剂是高锰酸钾,进一步用不含硝酸钠的改进Hummers法制备氧化石墨烯,通过拉曼光谱、X射线衍射和傅里叶红外光谱等表征方法证实该方法制备的氧化石墨烯被氧化程度较高、含氧官能团丰富,可有效解决氮氧化物等有毒废气的产生,以及含硝酸根离子和钠离子废液难处理的问题,制备过程更为简洁、更加绿色环保,对大规模制备氧化石墨烯有重要意义。 相似文献
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采用Hummers修正法制备氧化石墨烯(GO),用壳聚糖(CS)作为“绿色”无毒还原剂,以反应温度和反应时间来控制氧化石墨烯的还原程度。用红外光谱、紫外可见吸收光谱、拉曼光谱和X射线衍射等多种表征手段研究不同还原程度的还原氧化石墨烯的结构与性能。结果表明,改变温度不能有效地控制氧化石墨烯的还原程度;在50℃低温环境下,控制反应时间可以得到不同还原程度的还原氧化石墨烯,为进一步研究不同还原程度还原氧化石墨烯的非线性光学性质奠定了基础。 相似文献
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以氧化石墨烯溶胶为前体,通过旋涂工艺制备薄膜型气敏元件,在低温80~180℃下进行热处理,获得系列不同还原程度的还原氧化石墨烯气敏元件,采用XRD、AFM、FT-IR、XPS对样品的层结构、薄膜厚度及含氧官能团变化属性进行表征,将气敏薄膜元件在相对湿度为11.3%~93.6%的范围内进行预湿处理,并测定元件对甲醛气氛的敏感性能。结果表明:随热还原处理温度的升高,氧化石墨烯的结构逐渐向类石墨结构转变,含氧官能团逐渐脱失,缺陷增多,薄膜的方块电阻呈数量级地减小,从41 MΩ减小至928 Ω;经不同湿度预处理的气敏元件置于甲醛气氛中产生了水分子与甲醛分子的竞争吸附,从而导致电阻的明显变化;在10?4甲醛气氛下,未还原或热还原温度较低的气敏元件适用于低、高湿环境下甲醛气氛的气敏测试,最大灵敏度为69.1%,而还原温度适中的元件则适用于中湿环境的甲醛测试,最大灵敏度为80.3%。 相似文献
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在石墨烯的多种制备方法中,我们选用氧化-还原法制备以保留石墨烯上的某些官能团,获得较高的电导率。我们采用改进Hummers法,以高锰酸钾与石墨粉质量比9∶1为原料,浓硫酸为溶剂更安全高效地制备氧化石墨烯(GO),避免高温氧化时大量破坏石墨的面内共轭结构。采用氢碘酸法、氢碘酸乙醇法、氢碘酸乙酸法三种途径来制备还原氧化石墨烯(r GO),比较发现氢碘酸乙酸还原法是温和高效的还原策略,即在一定量乙酸及55%的氢碘酸的混合液中,氧化石墨烯粉末在40℃下还原2d,其电导率达14600S/m,高于其它两法。通过改进氧化还原条件,制备了仅边缘修饰,面内共轭结构几乎无破坏的石墨烯。制备的r GO在邻二氯苯中能够很好地分散,其后用含溴修饰剂对其进行了边缘修饰,引入了可作为反应位点的溴原子。 相似文献
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利用改进Hummers法制备了氧化石墨烯,通过傅里叶变换红外光谱(FTIR)和X-射线衍射谱(XRD)对其进行了表征分析,结果表明在石墨层间和边缘引入一定数量的含氧官能团,石墨烯(GR)表面已被羟基、羧基和环氧基等含氧官能团所修饰,层间距明显大于石墨层间距;在功率为20mW,波长分别为404nm、650nm、808nm的激光照射下分别测试了表征氧化石墨烯(GO)光响应特性的I-V和I-t曲线,并计算了不同波长光照下氧化石墨烯(GO)的量子效率和光电流响应度,测试和计算结果表明:氧化石墨烯(GO)在近红外光区具有很高的光敏性及良好的重现性,进一步说明GO在红外光电探测方面具有较大的应用潜力。 相似文献
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