钛合金表面TiAlN膜层的制备

为了研究不同偏压对TiAlN薄膜性能的影响以及薄膜体系膜基硬度比随载荷的变化关系,采用多弧离子镀的方法在Ti6Al4V合金表面制备TiAlN薄膜,利用扫描电子显微镜、x 射线衍射仪、全自动显微硬度计等设备对膜层的微观组织结构和力学性能进行了测试.结果表明,TiAlN膜层由Ti2AlN(hcp)相组成.在恒定载荷条件下,体系的膜基硬度比随载荷的增加而减小.当载荷小于300g时,偏压对膜基硬度比与载荷关系曲线呈不规则影响.载荷超过300g以后,几乎没有影响.     

脉冲N离子束轰击对TiAlN膜层显微硬度影响的研究

采用俄罗斯UVN 0.5D2I脉冲离子束辅助电弧离子镀沉积设备,在高速钢W18Cr4V基材上沉积TiAlN膜层。研究了膜层沉积之前N离子束轰击基材以及膜层沉积过程中N离子束辅助轰击对TiAlN膜层显微硬度的影响。结果表明:膜层沉积之前,N离子轰击得到高度洁净的表面,使基材的显微硬度由原来的900HV0.01提高到1230HV0.01。膜层沉积过程中,脉冲N离子束轰击,消除了膜层中的硬度"软点"及阴影效应,增加(Ti,Al)N相的含量,膜层的内部产生了压应力,这些因素显著提高了膜层的硬度,膜层的最高硬度为2530HV0.01。但轰击能量不能过高,否则会降低膜层的显微硬度。     

钛合金表面电弧离子镀TiAlN涂层的组织与抗氧化性能

运用电弧离子镀技术,采用独立Ti、Al靶材,在TC4钛合金表面制备出厚度为6.5μm的TiAlN涂层,利用SEM、EDS对涂层微观组织进行了分析,并测试了涂层的力学和抗氧化性能.结果表明,涂层表面存在由粒子撞击时所产生的凹坑和由液滴碰撞表面而铺平、凝固形成的层片状组织;多弧离子镀试样表面粗糙度有升高的趋势.使用电加热马弗炉对试样进行800℃空气氧化试验并做出了试样的增重率曲线图,证明试样的抗氧化性能经表面电弧离子镀TiAlN后得到了大幅的提高.     

CrAlN/TiAlN 纳米多层膜的微结构及其性能研究

采用磁控反应溅射法制备了不同调制周期的CrAlN/TiAlN纳米多层膜,并通过X射线衍射仪 、显微硬度计、扫描电镜分析了调制周期对多层膜的微结构、力学性能和高温抗氧化性能的影响。结果表明：CrAlN/TiAlN纳米多层膜共格外延生长,呈现CrAlN（或TiAlN）面心立方结构,且呈（111）择优取向;CrAlN/TiAlN纳米多层膜在某些调制周期出现硬度异常升高的超硬度效应;CrAlN/TiAlN纳米多层膜比CrAlN, TiAlN单层膜具有更好的高温稳定性,高温时仍具有较高的硬度。     

V元素对TiAlVN膜层组织和抗热震性能的影响

为了拓展火炮身管延寿,利用磁控溅射技术在炮钢表面沉积了TiAlN膜层,并添加V元素来改善膜层性能.利用扫描电子显微镜附加能谱仪和X射线衍射仪分析了膜层的成分、相结构和表面形貌,研究了V元素对TiAlN膜层抗热震性能的影响.结果表明,TiAlN和TiAlVN膜层主要以TiN为主相择优生长.TiAlVN膜层属于面心立方和微弱六方密排二重结构,晶粒尺寸比TiAlN膜层略大,而晶格常数比TiAlN膜层小,因而TiAlVN膜层质量相对较好.TiAlVN膜层不易产生裂纹,抗开裂性能较好.此外,TiAlVN膜层的抗热震循环次数约为TiAlN膜层的1.4倍.     

铜合金表面Ti/TiN多层膜的制备、结构及其性能

为了研究多层膜的腐蚀性能,促进多层膜在生产中的应用,采用电弧离子镀技术,通过调整环境N₂和Ar气的时间比例在铜衬底上成功制备了不同调制周期的Ti/TiN多层膜.利用x 射线衍射谱和交流阻抗谱研究了该多层膜的结构和腐蚀性能.表面形貌显示,沉积的Ti/TiN多层膜具有明显的周期性,环境中N2和Ar气的时间比例决定了多层膜的调制周期,N₂气时间越长,多层膜中TiN相层越厚.腐蚀性能测定表明,多层膜的调制周期影响其耐蚀性,当调制周期为550nm时,沉积膜的耐腐蚀性最好.     

炮钢表面电弧离子镀TiAlN薄膜的摩擦磨损性能

为了提高PCrNi3Mo钢的耐磨性,利用电弧离子镀技术在其表面沉积了Ti_(0.7)Al_(0.3)N和Ti0.5Al0.5N薄膜,分析了沉积态和磨损态薄膜膜层的微观结构和形貌.结果表明,两种薄膜膜层均属于晶粒细小的柱状晶结构.Ti_(0.7)Al_(0.3)N和Ti0.5Al0.5N薄膜的硬度分别比PCrNi3Mo钢提高了4.75和4.22倍,而弹性模量分别比PCrNi3Mo钢提高了88%和84%.Ti_(0.7)Al_(0.3)N薄膜的稳定摩擦系数较小,两种薄膜具有显著的减摩耐磨作用.PCrNi3Mo钢的磨损机理主要为严重粘着磨损,而两种薄膜的磨损机理属于轻微粘着磨损.Ti0.5Al0.5N薄膜因脆性断裂局部产生了更大面积的剥落区,低硬度的PCrNi3Mo钢基体对膜层的支撑力变小是导致薄膜局部发生开裂破坏的主要原因.     

降低DLC薄膜应力的方法研究

为了沉积出高硬度、低应力、高膜-基结合强度的类金刚石硬质薄膜,利用脉冲电弧离子镀技术在高速钢基底上制备类金刚石薄膜,采用退火、增加Ti过渡层、Ti离子轰击等方法减小DLC薄膜应力.结果表明:单层DLC薄膜的应力可达7.742 GPa;以Ti为过渡层的DLC薄膜的应力减小为2.027 GPa;对Ti/DLC薄膜进行退火热处理,薄膜应力减小到0.359GPa.利用Ti作过渡层,并且对薄膜进行退火处理,可以使DLC薄膜产生的高应力在Ti层中得到明显减小,提高膜-基结合力,增加硬度.     

含过渡层TiAlN和CrAlN硬质膜的制备及其抗氧化性能研究

采用磁控溅射技术制备TiAlN、CrAlN及含Ti、Cr过渡层的TiAlN、CrAlN四种薄膜,并对其进行850℃大气热处理实验,通过激光共聚焦显微镜、纳米压痕仪对热处理后的试样进行测试。表征结果显示:热处理后的TiAlN薄膜及含有Ti过渡层的TiAlN薄膜硬度及弹性模量都大幅降低,前者比后者的表面粗糙度小、抗氧化性能更优;热处理后CrAlN薄膜的硬度和弹性模量大幅下降,而含Cr过渡层的CrAlN薄膜热处理后的硬度、模量相对较高,表面粗糙度也相对较小。     

回火热处理对TiAlN膜层硬度和耐磨性影响的研究

采用SX-4-13箱式回火电阻炉,在氮气保护条件下对电弧离子镀技术沉积的TiAlN膜层进行回火热处理。研究回火温度对TiAlN膜层表面形貌、粗糙度、显微硬度、耐磨性的影响。结果表明:回火温度为300℃时膜层表面形貌连续、光滑、粗糙度最低,粗糙度值为0.30。力学试验结果表明:回火温度为300℃时膜层的表面显微硬度最高,由未回火热处理前的1800HV0.01升高到2000HV0.01,此温度下膜层的耐磨性最好,回火温度过高或者过低都会降低膜层的表面质量。     

离子势对某些离子化合物稳定性的影响

根据离子的离子势,离子极化率和化合物的结构,定性的判断某些离子化合物稳定性的变化规律。     

几种金属离子对高效产氢细菌产氢能力的促进作用

金属离子Fe2 + 、Ni2 + 、Mg2 + 在生物产氢机制中有着重要作用 .在适当浓度下 ,研究金属离子对高效产氢细菌产氢能力的促进作用 ,是解决细菌产氢效率不高这一关键问题的有效手段之一 ,也加快了发酵法生物制氢技术产业化进程 .间歇实验结果表明 ,铁、镍和镁等金属离子对高效产氢细菌———B4 9产氢能力有明显的促进作用 ,使B4 9的最大产氢速率和平均产氢速率分别由 8 6 5和 0 36mmol·(g·h) -1提高到 2 8 0 1和1 95mmol·(g·h) -1.3种离子对B4 9产氢能力促进作用的顺序为Fe2 + >Ni2 + >Mg2 + ,Fe2 + 和Ni2 + 是促进发酵产氢的直接因素     

阳离子壳聚糖对铅、汞、镉离子吸附的研究

采用自制的阳离子壳聚糖对铅、汞、镉离子进行吸附试验和共吸附试验,研究了阳离子壳聚糖对铅、汞、镉离子的吸附能力和共吸附情况.结果表明:阳离子壳聚糖对汞、铅、镉单独存在时吸附效果好,最大吸附量分别为1.310,1.140,1.000 mmol/g;汞、铅、镉离子共存时,阳离子壳聚糖对汞、铅、镉离子的吸附能力和总吸附量明显下降,阳离子壳聚糖优先吸附汞、铅离子.     

霍尔无栅离子源的离子束性能测试

介绍了一种新型离子源－霍尔无栅离子源，并论述了其工作原理。这种源不仅具有大束流、低能量和大辐照面积等优点，而且克服了现有的有栅离子源的技术局限性。实验结果证明，霍尔无栅离子源的离子流分布均匀性较好，离子束能量在30－120eV范围内。     

多头小离子源和离子束辅助蒸发新工艺

提出了多头离子源的方案和离子束合成技术,即选用几个小离子源组合应用,以满足大尺寸镀膜机的要求.该方案经在A700Q和BAK760镀膜机上试验,获得良好效果,已镀制出性能良好的铝、银金属高反膜、棱镜分光膜、308nm激光高反膜、透明导电膜、高级立体声磁头绝缘膜、长波通滤光膜、超宽带增透膜等.并且,简化了镀膜工艺,提高了生产效率.     

脉冲多弧离子镀研究

介绍一种新型镀膜方法的工作原理及相关参数，介绍了采用这种新型镀膜方法镀制的类金刚石膜层的性能．     

IBAD工艺中离子参数与薄膜折射率研究

采用五栅网离子能量测量装置和法拉第筒测量了宽束冷阴极离子源的离子能量和离子束流密度.当Ar气流量为20 sccm,在不同的放电电压和引出电压下,测得离子能量分布范围为400～820 eV,束流密度分布范围为7.8～52.8μA/cm2.在O2气流量为20 sccm时,沉积在不同离子能量辅助下的TiO2薄膜,研究了离子能量对于薄膜光学特性的影响,得到了折射率为2.3的薄膜,接近块状材料的折射率.     

Anticoagulation property and security of artificial heart valve material

Cardiovascular disease becomes one of the primary diseases that cause human death.Artificial heart valve’s replacement is the only way to save lives of the patients whoseheart valve is badly pathologically changed by rheumatic heart disease, retrogressiveheart disease, and bacterium caused endocarditis disease. The clinically used artificialheart valves are classified into biomedical heart valve and mechanical heart valve. Thebiocompatibility and anti-thrombus property of the biomedical heart…     

黄瓜中溴离子的离子色谱法测定

在优化前处理方法的基础上,研究了以水为提取溶剂,SAX-SPE柱净化,AS 9-HC柱分离,电导检测器测定黄瓜中溴离子含量的离子色谱分析方法。Br-标准溶液浓度0.5~300 mg.L-1,标准曲线方程为Y=-306 756+2 639 978X,r=0.998 4,方法的最低检出浓度为0.2 mg.kg-1。样品(低于方法最低检出浓度)添加1,100 mg.kg-1Br-的平均回收率分别为98.6%,90.6%;相对标准偏差为13.47%,9.67%,准确度和精密度符合要求。测定的青岛5个菜市场黄瓜样品中溴离子浓度均低于方法的最低检出浓度。     

4 MV静电加速器用高频离子源的研制

设计和调试了一台4MV静电加速器用高频离子源;研究了诸因素对离子源起弧的影响,发现保持放电管内壁的清洁、先加载横向磁场、缩短铜辫的长度并进行镀银处理可明显降低最低起弧板压;测试了束流强度与振荡器板压、离子源气压和引出电压的关系,发现流强随板压的升高而升高,随气压的变化有一极大值,而随引出电压的变化呈二极管的伏安特性;上机试验表明引出电压的加卸载方式对离子源的起弧状况也将产生明显影响;分析了上述各现象出现的原因;经综合调试,在580V板压、8×10-4Pa气压、1.65kV引出电压和21kV聚焦电压的状态下,得到了束流为178μA的稳定离子束.