高强度碳涂覆光纤的研制

高强度碳涂覆光纤的制造工艺是在拉丝过程中碳沉积在光纤表面，然后再涂覆紫外固化涂料，整个工艺在拉丝过程中完成。此种光纤显示出高的抗疲劳特性和抗氢渗透特性，并能经受高的长期工作应力而强度不降低。碳涂层能保持光纤的传输性能不变，我们９５年已能拉制长度大于５ｋｍ，筛选强度为１．３８ＧＰａ的高强度碳涂覆光纤。     

氢通过硅基光纤密封碳涂层的扩散模型

用光纤在拉丝过程中沉积密封碳涂层的方法来保护光纤的ＳｉＯ２以避免分别由Ｈ２和Ｈ２Ｏ引起的光纤损耗增加和强度衰退已得到了实验证实。在升温和氢压下把碳密封涂层光纤暴露到Ｈ２气氛中，光纤的损耗特性与Ｈ２有关，或者与Ｈ２和ＳｉＯ２中的缺陷反应后形成的ＯＨ基团有关。     

氢向石英光纤密封碳涂层扩散模

光纤在拉丝过程中，用沉积密封碳层的方法保护光纤，可以避免Ｈ２和Ｈ２Ｏ引起的光纤损耗增加和强度衰退。在升温和氢压条件下，把碳密封涂层光纤暴露到Ｈ２气中，光纤的损耗特性与Ｈ２或与Ｈ２和ＳｉＯ２中的缺陷反应形成的ＯＨ基因有关。     

影响光纤涂层固化度的几个因素的讨论

主要讲述了拉丝塔提高光纤拉丝速度过程中，影响光纤表面涂层固化度的几个因素。     

Pt／TiO2二极管湿敏传感器

Ｐｔ常被用来在金属氧化物半导体上做肖特基接触，在常温下，Ｐｔ／ＴｉＯ２界面处的电子电导对Ｐｔ／ＴｉＯ２肖特基势垒高度的变化非常敏感，本文描述了利用该性质制造的湿敏传感器的性能，并讨论了因水在Ｐｔ／ＴｉＯ２界面处的化学吸附，引起表面Ｆｅｒｍｉ能级改变，影响Ｐｔ／ＴｉＯ２肖特基势垒的高度，从而导致了Ｉ－Ｖ曲线变化的物理过程，对器件制造过程中的工艺问题所论述。     

光纤拉丝中的冷却和涂覆技术

光纤拉丝技术历经40余年的发展，已达到相当成熟的阶段。现代拉丝工艺采用的光纤预制棒尺寸：直径／长度为由150—200mm／3m：拉丝速度为1700—2000m／min；光纤直径控制精度为125±0．5um；涂层直径控制精度为245±5um，拉丝塔高度约30m。为降低单模光纤的PMD，在光纤拉丝塔上采用在线光纤扭转技术。本文探讨光纤拉丝技术中光纤冷却和涂覆的两个热点课题。     

化学法镀银光纤的制造工艺研究

本文介绍了一种用化学法在光纤表面镀银的工艺及其设备。这种工艺的主要特点是不纤在拉丝过程中同时涂敷金属银，可得到有良好导电性的、连续的镀银光纤。     

等离子喷涂Al2O3+13wt%TiO2陶瓷涂层的 激光重熔处理

本文用Ｘ射线衍射、扫描电镜和显微硬度研究了等离子喷涂Ａｌ２Ｏ３＋１３ｗｔ％ＴｉＯ２陶瓷涂层激光重熔处理后陶瓷熔化层的组织结构及硬度变化特征。激光重熔区亚稳相Ｙ－Ａｌ２Ｏ３转变成为稳定相α－Ａｌ２Ｏ３：ＴｉＯ２与Ａｌ２Ｏ３反应生成ＴｉＡｌ２Ｏ３陶瓷熔化层致密,无孔隙、少裂纹或无裂纹;熔化层硬度有较大提高,且随激光能量密度的增大而增大,而涂层设计对其影响很小。此外,激光重熔能极大地提高陶瓷的涂层的耐磨     

光纤拉丝生产中影响POD的因素

讨论了在光纤拉丝生产过程中，影响内涂层直径（POD）的几个重要因素。     

γ-TiAl金属间化合物合金激光表面合金化制备Al_2O_3/TiAl耐磨复合材料涂层研究

以镍包Ａｌ_２Ｏ_３粉末为原料对γ－ＴｉＡｌ金属间化合物合金进行激光表面合金化,制得无裂纹、表面光滑、内部组织致密、厚度可达１．０ｍｍ、以快速凝固Ａｌ_２Ｏ_３硬质相为增强相的“原位”耐磨复合材料合金层,通过预热及缓冷可以消除涂层开裂现象。涂层与基体的结合为完全冶金结合,激光表面合金化后ＴｉＡｌ合金硬度及在滑动磨损及磨料磨损条件下耐磨性均大幅度提高。     

TiO2薄膜的光触媒作用

本文介绍了ＴｉＯ２薄膜的光触媒机理和特性以及ＴｉＯ２薄膜的制造和应用。ＴｉＯ２作为光触媒应用于照明光源和灯具等处，它可以净化空气杀菌、去除表面的污垢，减少了照明系统的污染，提高照明效率。     

硅橡胶涂覆高强度光纤技术研究

随着光纤在军事领域应用的不断扩大，对光纤可靠性和温度特性的要求也更为苛刻。本文从工艺角度讨论了光纤的结构、预制棒表面的处理方法、石墨发热体的清洁处理以及涂覆工艺等制备条件对光纤强度的影响，建立了国内第一套符合军事领域运用的高强度大长度光纤制备工艺，用该工艺拉制出经２％（１．４ＧＰａ）应变筛选的高强度光纤，最大幸存长度达７．７ｋｍ。     

用Ti（OC3H7）4制备Ti（CN）涂层研究

文章叙述了采用金属有机物四异丙基钛（Ｔｉ［ＯＣ３Ｈ７］４］为钛温，在外加热ＰＣＶＤ设备上沉积Ｔｉ（ＣＮ）涂层。并对涂层进行了其显微硬度测量，扫描电镜（ＳＥＭ）观察和Ｘ射线衍射（ＸＲＤ）分析。结果表明，此法制备的Ｔｉ（ＣＮ）涂层其显微硬度可达标１５６００Ｎ／ｍｍ２，膜层结构仍为在状晶，Ｔｉ（ＣＮ）晶体的ｄ（２００）随着炉温的升高和Ｈ２．Ｎ２比的增大在逐渐变化。     

生长气氛对Ti^3＋：Al2O3单晶光纤质量的影响

在不同性质的气氛下，用激光加热基座法，生长Ｔｉ＾３＋：Ａｌ２Ｏ３单晶光纤，作了显微观察，拍摄了透视照片，同时对其钛离子浓度进行了光谱定量分析。并研究了不同性质的气氛对Ｔｉ＾３＋：Ａｌ２Ｏ３单晶光纤的内部缺陷（气泡，散射颗粒等）、外部形貌、钛离子浓度的影响。     

生长气氛对Ti~（3＋）：Al_2O_3单晶光纤质量的影响

在不同性质的气氛下，用激光加热基座法（ＬＨＰＧ法），生长Ｔｉ３＋：Ａｌ２Ｏ３单晶光纤。作了显微观察，拍摄了透视照片，同时对其钛离子浓度进行了光谱定量分析．并研究了不同性质的气氛对Ｔｉ３＋：Ａｌ２Ｏ３单晶光纤的内部缺陷（气泡，散射颗粒等）、外部形貌、钛离子浓度的影响。     

光纤光栅的在线制作方法

本文提出一种光纤光栅在光纤拉丝过程中的在线制作方法。与传统的光纤光栅的单个制作方法相比，其制作效率高，成本低，涂层均匀，是实现光纤光栅规模化生产的唯一可行的方法。     

SnO2：TiO2薄膜氨气敏光纤传感器的研究

本文作者利用ＳｎＯ２：ＴｉＯ２气敏光学薄膜设计制成气敏光纤传感器，并用它测定氨蒸汽浓度，传感器的灵敏范围为１５０￣６０００ｐｐｍ，灵敏度为２００ｐｐｍ。     

石英玻璃光纤金属涂层在线制备工艺

金属涂层光纤较传统有机涂层光纤具有高热稳定性、抗振动干扰等显著优势，但金属涂层光纤的连续在线制备技术在国内仍处于探索研发阶段，这也直接导致金属涂层光纤无法大批量连续生产，一定程度制约了我国高功率光纤激光器的飞速发展。提出并研制了一种基于熔融金属冷凝涂覆法的金属涂层光纤在线制备装置，经与光纤拉丝塔耦合，能够实现边拉丝边涂覆金属，并且涂层厚度可控。基于该工艺成功拉制了涂层均匀、涂层表面质量良好、直径稳定的铝涂层光纤。通过实验和模拟计算，探讨了影响光纤金属涂覆层质量的影响因素，主要包括了光纤入口温度、液铝温度、模具孔径、接触距离等。通过研究，确定了最佳铝液温度为663~690 ℃，且发现涂覆厚度与铝液温度的线性递减关系；计算了拉丝速度与冷却距离的关系；给出了陶瓷上下模具螺丝的孔径大小、光纤与液态铝接触深度的最佳值。研究成果为金属涂覆光纤的批量生产问题提供了解决方案，为打破国际技术垄断奠定了基础。     

中温烧结CaO－TiO_2－ZnO系陶瓷

用自制ＣａＴｉＯ３与ＴｉＯ２、ＺｎＯ按电子陶瓷通用工艺制备出晶粒均匀致密的热补偿陶瓷。Ｘ射线分析表明其主晶相为Ｃａ２Ｚｎ４Ｔｉ（１６）Ｏ（３６）（简称为ＣＺＴ），此外还有ＣａＴｉＯ３以及少量的金红石（ＴｉＯ２）。     

低压反应离子镀新工艺及其设备

采用低压反应离子镀沉积技术，制备光学薄膜质量有着显著的改善。我们利用此技术沉积的ＴｉＯ２、ＳｉＯ２和Ａｌ２Ｏ３膜，其折射率分别为２５５、１４９（５５０ｎｍ）和１６７（１１００ｎｍ），比传统的电子束蒸发好得多。用此方法，在ＣＲ３９基片每面沉积４层ＴｉＯ２／ＳｉＯ２抗反薄膜，剩余反射率≤０５％。本文简要介绍其工艺过程和相应的ＬＶＲＩＰＤ装置