从热电分开角度论述新型离子氮化炉的设计

本文论述一种新型离子氮化炉的设计。它主要由真空系统、辅助加热系统、专用电源系统、供气系统等组成。其特征在于采用了专门用于此目的而研制的幅度调制型直流脉冲电源，它可大大降低等离子体对工件升温的贡献，而工件按工艺要求所需的温度由辅助加热系统来平衡。这样结构的离子氮化炉在用于表面处理时，可完全实现工件加热和气体电离供电参数调整分开，即热电分开。电源参数调整的独立性使得寻求最佳工艺成为可能，以其提高等离子体表面渗氮的质量、缩短处理时间、节约能源。     

离子氮化+淬火的复合热处理工艺试验

本文介绍20~#、20Cr、45~#和40Cr四种钢经离子氮化+淬火的复合热处理后,能较大幅度地提高钢的强硬性。与单一氮化相比可提高硬度66～140%;与单一淬火相比可提高硬度40～59％。更为可贵的是经复合处理后,从表面至心部的硬度下降较缓慢,这是很有实用价值的。     

激光相变硬化对离子渗氮层的影响

采用ＸＰＳ研究了３５ＣｒＭｏ钢离子氮化加激光相变硬化复合处理后不同层深处氮的变化。结果指出，复合工艺可在表层获得更深的氧氮化物层，含氮层的深度也将加大，并且与原渗氮层相比可在更深的位置得到氮化物层。     

从热电分开角度论述新型氮化炉和设计

本文论述一种新型离子氮化炉的设计。它主要由真空系统，辅助加热系统，电源系统，供气系统等组成。其特征在于采用了专门用于此目的而研制的幅度调制型直流脉冲电源，它可大大降低等离子体对工件升温的贡献，而工件按工艺要求所需的温度由辅助加热系统来平衡。     

不锈钢等离子表面渗碳

不锈钢离子渗碳可以在表面形成弥散、细小、均匀的含铬碳化物组织 ,硬度达ＨＶ70 0左右 ,与ＧＣｒ1 5淬火钢相比耐磨性提高约 1 1倍 ,渗碳后不用进行热处理 ,工艺简便。渗层经ＳＥＭ分析 ,其形态主要为短棒状和粒状的碳化物 ,无共晶的莱氏体组织 ,表面平均含碳量可达 2 87% ,用Ｘ射线分析电解萃取样品证实 ,碳化物的主要类型为Ｍ2 3Ｃ6,Ｍ7Ｃ3,Ｍ3Ｃ。不锈钢的表面处理 ,一般多用离子氮化 ,主要是因为其表面有一致密的Ｃｒ2 Ｏ3膜 ,利用离子轰击 ,将这层膜破坏 ,达到渗氮的目的。铬与氮形成氮化物 ,提高了表面的耐磨性。但离子渗氮层薄 ,铬…     

氮化感应致n-MOSFETs Si/SiO2界面应力的研究

本文借助氩离子（Ａｒ＾＋）背表面轰击技术研究不同氮化处理所导致的ｎ－ＭＯＳＦＥＴｓＳｉ／ＳｉＯ２界面附近剩余机械应力。结果表明：ＮＨ３氮化及Ｎ２Ｏ生长的氧化物－硅界央附近均存在较大的剩余应力,前者来自过多的界面氮结合,后者来自因为初始加速生长阶段。Ｎ２Ｏ氮化的氧化物表现出小得多的剩余应力,从而有优良的界面和体特性。     

38CrMOAlA钢激光淬火+氮化复合处理

对38crMoAlA钢分别经激光淬火、气体氮化、氮化-激光淬火复合处理及激光淬火一氮化复合处理的硬化层深度及其表面硬度分布进行了比较分析。结果表明，试验条件下，激光淬火-氮化复合处理与氮化处理相比，表层硬度可提高100Hv左右，硬化层深度有少许增加；在氮化-激光淬火复合处理中，激光淬火可使预先氮化处理的硬化层深度有大幅度的提高，表层硬度有所下降；氮化-激光淬火复合处理比激光淬火的表面硬度高，硬化层深度较浅。     

钛表面激光氯化和飞行时间质谱分析

用１０ｎｓ激光脉冲辐照Ｎ２气氛中的钛使表面氮化，对形成的氮化层进行激光烧蚀并用飞行时间质谱进行分析，结合发射光谱和表面形貌观察讨论了氮化机理。     

快速热氮化超薄SiO_2膜的氮分布和氮化机理的研究

用卤素钨灯作辐射热源，对超薄SiO2进行快速热氮化（RTN）制备了SiOxNy膜．研究了不同RTN条件下制备的SiOxNy样品的AES测量的氮纵向分布．研究结果表明，在较低的温度下（＜900℃）氯化速率是缓慢的，而在界面处因应变键容易被打破，速率稍快可形成氮峰．当温度高于900℃时，氮化速率加剧，分别形成表面和界面两个氮峰．基于研究分析的结果，意图提出一种描述快速热氮化超薄SiO2的微观机理．     

氮化时间对RF-MBE法生长InN薄膜晶体结构的影响

采用射频等离子体分子束外延(RF-MBE)技术在蓝宝石(Al2O3)衬底上外延生长了InN薄膜,在生长之前对其进行不同时间的氮化处理.通过扫描电子显微镜(SEM)和X射线衍射(XRD)对薄膜的形貌和结构进行了表征,发现氮化时间小于60 min时获得的InN薄膜的晶体结构为多晶且表面粗糙,而氮化时间为60 min及120 min时获得的InN薄膜为单晶结构,表面粗糙度有所下降.分析表明,氮化时间对InN薄膜的晶体结构有很重要的影响.