玻璃表面装饰技术（五）

玻璃表面装饰技术（五）王承遇，陶瑛（大连轻工业学院玻璃及无机新材料研究所１１６００１）４．表面涂层本文在第一部分已指出，膜和涂层很难明确分开，因表面膜内容较多，故将其单独列入为一部份，除膜以外的涂层均在此叙述。表面涂层种类很多，可按成分和功能来分类。...     

基于EHD的PVA薄膜图案化及其在玻璃表面微结构制造中的应用

以电流体动力（EHD）诱导聚乙烯醇（PVA）薄膜表面微结构的形成为对象,研究了不同EHD工艺和氢氟酸刻蚀工艺对PVA薄膜微图案结构及玻璃表面微结构制备和光学性能的影响,提出了一种利用PVA微图案结构调控氢氟酸刻蚀玻璃表面制备光学微结构的新方法。结果表明,改变EHD诱导电压和PVA薄膜初始厚度可以得到区别化的PVA薄膜微图案,而改变氢氟酸浓度和刻蚀时间可以将微图案刻蚀到玻璃表面并在玻璃表面形成一系列不同的微结构;经处理后的玻璃表面较未使用PVA薄膜的玻璃具有更高的雾度和透射率。     

ITO和ZnO基底对电化学沉积氧化亚铜薄膜的形貌、结构的影响及作用机制

采用电化学恒电位沉积方法在ITO导电玻璃上和在ZnO薄膜上沉积氧化亚铜（Cu2O），并通过X射线衍射（XRD）和扫描电镜（SEM）对晶体的微观结构和表面形貌进行了分析．在ZnO基底上沉积得到了纳米级的Cu2O粒子并且具有明显择优取向，而在ITO导电玻璃上仅得到粒径为2—5胛的Cu2O粒子，没有明显的择优取向，对薄膜的生长机理进行了讨论．     

液相沉积法制备TiO2薄膜及杀菌性能

采用液相沉积法（LPD）在玻璃的表面制得透明的TiO2薄膜，以XRD和SEM等方法对薄膜的物相、结构、形貌和光催化性能进行表征。通过热处理后TiO2薄膜对金黄色葡萄球菌（S．Aureus）和大肠杆菌（E．Coli）杀菌试验研究发现，在自然光照射下经热处理的TiO2薄膜具有良好的杀菌活性，400℃热处理的薄膜杀菌性能最优，在24h内可达到99％。同时对TiO2薄膜的杀菌机理进行了初号分析。     

全球最轻玻璃基底薄膜光伏组件在河北问世

在河北省科技成果转化服务中心组织的新产品（技术）鉴定会上，聚合物背板太阳能电池组件（单片1．1×1．3mm）的轻量化技术被认定可保证硅薄膜组件在满足IEC标准要求的前提下，将重量降至9．79kg／m2，成为目前世界上重量最轻的玻璃基底薄膜光伏组件。     

浮法在线玻璃镀膜工艺技术的概况及发展

浮法在线玻璃镀膜工艺技术的概况及发展汪建勋秦皇岛玻璃工业设计研究院１．引言长期以来，人们已经认识到玻璃和薄膜之间有明显而密切的关系，与玻璃表面结合的透明薄膜可以用来产生各种透明的色彩及镜面效果，以达到实用的装饰和遮阳功能，此外，膜面所产生的表面压缩效...     

蔡斯工厂三位创业人的史事简介

蔡斯工厂三位创业人的史事简介于国成（大连玻璃制品厂）１小引卡尔·蔡斯１８１６．９．１１生于德国魏玛，从事精密机械制造，与研究光学的理论家厄恩斯特·阿贝（１８４０．１．２２生于艾森纳西）和研究玻璃的化学家奥托·肖特（１８５１．１２．１７生于鲁尔河畔的维...     

玻璃表面装饰技术（四）

玻璃表面装饰技术（四）王承遇，陶瑛（大连轻工业学院玻璃及无机材料研究所１１６００１）（８）离子镀法是蒸发法与溅射法相结合的一种新方法。１９３８年Ｂｅｒｇｈａｕｓ最先研制，并获专利，１９６３年Ｍａｔｔｏｘ对此法进行了改进，并用于生产。我国８０年代开始应...     

原位分散聚合制备纳米PANI-SiO2薄膜的性能

采用纳米二氧化硅（SiO2）作空间稳定剂，通过苯胺的原位分散聚合在玻璃表面直接制备PANI-SiO2透明导电纳米复合膜。薄膜的表观形态和组成通过扫描电镜（SEM）、红外光谱分析（FTIR）、紫外可见光谱分析（UV-Vis）进行了表征。结果发现，薄膜的形成经历了成核、生长、生长饱和3个明显的过程，薄膜表面光滑致密，膜厚在3～300nm；SiO2对薄膜表面质量有良好改善作用，对薄膜的导电率稍有影响。此外对成膜机理进行了讨论。     

卤化物玻璃形成区域的计算机辅助分析与设计

卤化物玻璃形成区域的计算机辅助分析与设计周忠益，姜中宏，唐永兴（中科院上海光机所２０１８００）一、前言利用玻璃形成体含量较高的共熔点且易生成玻璃这一原理出发，文献￣［１］曾用相图热力学原理推导了玻璃的形成区，因卤化物形成玻璃的能力很差，目前国内外仍然...     

Fe_2O_3－SrO－TeO_2系半导体玻璃电导的研究

用准急压冷法制成Ｆｅ_２Ｏ_３－ＳｒＯ－ＴｅＯ_２系半导体玻璃并对其直流电导率进行了测定。玻璃形成范围为（以摩尔计）；０≤Ｆｅ_２Ｏ_３≤２３％；０≤ＳｒＯ≤１８％；７５％≤ＴｅＯ_２＜１００％。通过Ｓｅｅｂｅｃｋ系数的测定确认Ｆｅ_２Ｏ_３－ＳｒＯ－ＴｅＯ_２系玻璃为ｎ型半导体玻璃。２００℃的直流电导率为３．７２×１０￣（－５）～１．８２×１０￣（－６）Ｓ·ｃｍ￣（－１）。直流电导率随着Ｆｅ_２Ｏ_３含量的增加而增加，１６５℃时的载流子迁移率和浓度分别为１．１２×１０￣（－９）～３．６７×１０￣－７ｃｍ￣２·Ｖ￣（－１）·Ｓ￣（－１）和２．１７×１０￣（２１）～８．３３×１０￣１９ｃｍ￣（－３）．讨论的结果表明Ｆｅ_２Ｏ_３－ＳｒＯ－ＴｅＯ_２系玻璃的电导机理符合小极化子跳越理论。     

电沉积Cu_（2x）In_（2－2x）Se_2薄膜的光电化学研究

用电沉积法制得Ｃｕ＿（２ｘ）Ｉｎ＿（２－２ｘ）Ｓｅ＿２（铜铟硒）（０＜ｘ＜１）薄膜￣［１］并用ＥＤＡＸ对其组成进行分析．对薄膜电极的光电化学性能、光谱响应、能隙与ｘ的依赖关系进行了研究．借助于现场微区扫描光电流谱观察了热处理、薄膜厚度、光极化对薄膜电极的光电性能影响．研究了Ｐｂ（ＮＯ＿３）＿２有效的浸渍对薄膜光电性能的影响．     

硫化锑微晶掺杂硅凝胶玻璃及其薄膜的制备与光谱性质

采用溶胶－凝胶法成功地制备出Ｓｂ２Ｓ３微晶掺杂硅凝胶玻璃及其薄膜．通过Ｘ射线粉末衍射（ＸＲＤ）和高分辨透射电镜（ＨＲＴＥＭ）分析观察到,正交晶系的Ｓｂ２Ｓ３纳米微晶均匀分布于玻璃基质中;由薄膜的室温透射光谱发现,随着热处理温度的提高和时间的延长,该薄膜的特征透射谱谷逐渐向长波方向移动（红移）,表现出明显的量子尺寸效应．     

新玻璃的现状和发展

20世纪50年代以后，随着科学技术的发展，研制了一些新的玻璃品种，为了与传统玻璃区别，采用了新玻璃（New glass）或特种玻璃（Special glass）名词。由于功能材料（Functional Material）的出现，而玻璃是一种重要的功能材料，因此也就出现了功能玻璃（Functional glass）这一名词。功能（Function）这一名词覆盖面比较宽，传统玻璃也具有很多功能，如平板玻璃用于建筑上，具有采光、透视和挡风雨等功能，既是建筑材料也是装饰材料，因此有的文献上采用新型功能玻璃或特种功能玻璃，为了简便起见，笔者建议采用新玻璃或特种玻璃为宜。     

溶胶-凝胶方法制备ZnO：Al薄膜及其制备工艺条件研究

采用Sol—Gel工艺在玻璃基片上制备出C轴择优取向性、高可见光透过率以及高电导率的Al^3＋离子掺杂的ZnO透明导电薄膜ZnO：Al（ZAO薄膜）．并研究了退火温度、Al掺杂量等对其光电性能的影响．结果表明，溶胶-凝胶法制备ZAO薄膜的最佳工艺条件为：溶胶浓度0．75mol／L、掺杂量1．5atm％，镀膜层数10层（厚度约为136nm）、退火温度600℃．     

Te—Se—X系统远红外光学玻璃的几个应用基础问题的研究

采用现代分析测试手段对Ｔｅ－Ｓｅ－Ｘ系统玻璃在实际应用开发中的几个基础问题进行了研究，得到以下结果：（１）即使采用高纯的元素原料来制备玻璃，合适的表面提纯处理工艺也是必需的。（２）Ｔｅ－Ｓｅ－Ｘ（Ｘ＝Ｃｌ，Ｂｒ，Ｉ）三个系统玻璃都在摩尔比（Ｔｅ＋Ｓｅ）／Ｘ＝２下存在一个综合性最佳的玻璃组成点。该最佳组成点的玻璃形成了一种类似于Ｔｅ２Ｘ晶体的链状结构，卤素以双键的形式参与形成玻璃网络。     

论唐宋时代陶瓷花鸟装饰（二）

论唐宋时代陶瓷花鸟装饰（二）孔六庆（南京艺术学院·２１００１３）１．４象生性造型意匠的装饰作为模仿自然中某个特定自然形的装饰意匠，在唐宋时代更走向细腻。唐代的灰釉斑彩葫芦瓶，三彩双鱼瓶，三彩鸳鸯壶，五代“官”字款莲瓣纹盖罐，白瓷莲花式盘。定窑灰...     

夹层玻璃

夹层玻璃（Laminated），是由两片或多片浮法玻璃，用一层或多层聚乙烯醇缩丁醛薄膜（简称PVB，美国杜邦或首诺公司之品），经高压窑等设备的加压和加热工序组合而成。由于这种粘结材料具有良好的抗冲击性能和粘结性能．当玻璃受到冲击破裂时，其两片普通玻璃中间夹的PVB膜的粘接作用，不会像普通玻璃破碎后产生锋利的碎片伤人。     

外国专利

聚酰亚胺薄膜的粘合和聚酰亚胺制的线路板Ｇｕｒｉｔ－Ｅｓｓｅｘ　Ａ．－Ｅ．，ＤＥ４０１６５４８（１９９１．９．１２），６页．用６７：３３Ｎ，Ｎ－亚甲基－对－亚苯基双（苯并　嗪）－３．４－环氧环己基羧酸３．４－环氧环己甲基酯化合物使０．０３５ｍｍ铜箔与０．０２ｍｍＫａｐｔｏｎ薄膜结合，在２００℃压１小时，强度为３．８Ｎ／ｍｍ．触变性聚酰胺—降氨酯Ｈｅｎｋｅｌ　Ｋ．－Ｇ．ａ，Ａ，ＤＥ４０２３００５（１９９２．１，２３），８页．蓖麻油２３，聚氧丙烯化丙三醇（分子量４５０）２３，弗石浆料４，层状硅酸盐０．…     

NCAS系统玻璃陶瓷烧结晶化模型探讨

文章通过ＮＣＡＳ体系尾矿玻璃陶瓷体系设计基础讨论，确定了合理的配方化学组成，进行了烧结晶化实验和动力学分析。从有限结晶体系出发，提出将时间参数引入晶体生长速度公式，结合试验结果，通过数学拟合，得到了晶化率公式ｐ＝３（γ／ｒ）．ａ０．（１－ｅ＾－ｔ）「１－ｅｘｐ（－ΔＧ／ＫＴ）」，可更准确地反映实际玻璃陶瓷体系晶化行为。