恒电位－恒电流瞬态响应技术研究钝化膜多层结构──Ⅱ．2．5mol／LH_2SO_4溶液中2205和316L不锈钢钝化膜的结构与生长规律的研究

采用恒电位－恒电流（Ｐ－Ｇ）瞬态响应技术研究了２２０５和３１６Ｌ不锈钢在２．５ｍｏｌ／ＬＨ２ＳＯ４溶液中钝化膜的结构．研究结果证实这两种体系的钝化膜均具有多层结构．利用由Ｐ－Ｇ响应曲线计算得到的各特征参数随极化电位和极化时间的变化关系，有效地分析了两种体系钝化膜的稳定性及生长规律．     

STUDY ON MULTIPLE-LAYER STRUCTURE OF PASSIVE FILM ON STAINLESS STEELS BY POTENTIOSTATIC-GALVANOSTATIC (P-G)TRANSIENT TECHNIQUE Ⅱ. Structure and Growth of Passive Film for 2205 and 316L Stainless Steels in 2.5 mol / L H_2SO_4

采用恒电位－恒电流（Ｐ－Ｇ）瞬态响应技术研究了２２０５和３１６Ｌ不锈钢在２．５ｍｏｌ／ＬＨ２ＳＯ４溶液中钝化膜的结构．研究结果证实这两种体系的钝化膜均具有多层结构．利用由Ｐ－Ｇ响应曲线计算得到的各特征参数随极化电位和极化时间的变化关系，有效地分析了两种体系钝化膜的稳定性及生长规律．     

恒电位—恒电流瞬态响应技术研究钝化膜多层结构

采用恒电位－恒电流（Ｐ－Ｇ）瞬态响应技术研究了２２０５和３１６Ｌ不锈钢在０．５和１．０ｍｏｌ／ＬＮａＣＩ溶液中钝化膜的结构和稳定性。研究结果证实，体系的钝化膜均具有多层结构。讨论了氯离子在钝化膜生长和破坏过程中的作用。并提出可能的作用模式和破坏机制。由Ｐ－Ｇ响应曲线计算得到的各特征参数随极化电位的变化关系表明。２２０５双相钢在ＮａＣＩ介质中的耐蚀性明显高于３１６Ｌ不锈钢。另外，初步探讨了２２０５钢     

恒电位—恒电流瞬态响应技术研究钝化膜多层结构：Ⅰ.多层结构钝化膜…

采用恒电位－恒电流瞬态响应技术研究了具有多层结构钝化膜的体系，分析了这类体系在钝化过程不同阶段的Ｐ－Ｇ瞬态响应特征。提出了阉断钝化膜多层结构的方法以及表征钝化膜不同层稳定性的特征参数，并建立了描述复杂钝化体系Ｐ－Ｇ响应曲线的数学模型。研究结果证实所建立的模型能很好地反映体系的Ｐ－Ｇ响应特征。     

恒电位──恒电流瞬态响应技术研究钝化膜多层结构Ⅲ．氯化钠溶液中2205和316L不锈钢钝化膜稳定性的研究

采用恒电位－恒电流（Ｐ－Ｇ）瞬态响应技术研究了２２０５和３１６Ｌ不锈钢在０．５和１．０ｍｏｌ／ＬＮａＣｌ溶液中钝化膜的结构和稳定性．研究结果证实，体系的钝化膜均具有多层结构．讨论了氯离子在钝化膜生长和破坏过程中的作用．并提出可能的作用模式和破坏机制．由Ｐ－Ｇ响应曲线计算得到的各特征参数随极化电位的变化关系表明，２２０５双相钢在ＮａＣｌ介质中的耐蚀性明显高于３１６Ｌ不锈钢．另外，初步探讨了２２０５钢的组织结构与钝化膜稳定性的关系．     

复杂钝化体系P－G响应特征的研究

采用恒电位－恒电流（Ｐ—Ｇ）瞬志响应技术研究了多层结构钝化膜和存在吸附层钝化膜的复杂钝化体系提出了判断钝化膜多层结构的方法以及表征钝化膜不同层稳定性的特征参数，并建立了描述复杂钝化体系Ｐ—Ｇ响应特征的数学模型．研究了２２０５和３１６Ｌ不锈钢在２．５ｍｏｌ／ＬＨ２ＳＯ４中钝化膜的结构，以及吸附型缓蚀剂哌啶和癸胺对３０４不锈钢在０．５ｍｏｌ／ＬＮａＣｌ介质中孔蚀的抑制作用研究结果证实所建立的模型能很好地反映研究体系的Ｐ—Ｇ响应特征．利用提出的特征参数随极化电位和极化时间的变化关系，有效地分析了钝化膜的生长规律和稳定性，以及缓蚀剂对孔蚀发生与发展过程的抑制作用     

恒电位－恒电流瞬态响应技术研究钝化膜多层结构──Ⅰ．多层结构钝化膜的P－G瞬态响应特征

采用恒电位－恒电流（Ｐ－Ｇ）瞬态响应技术研究了具有多层结构钝化膜的体系．分析了这类体系在钝化过程不同阶段的Ｐ－Ｇ瞬态响应特征．提出了判断钝化膜多层结构的方法以及表征钝化膜不同层稳定性的特征参数，并建立了描述复杂钝化体系Ｐ－Ｇ响应曲线的数学模型．研究结果证实所建立的模型能很好地反映体系的Ｐ－Ｇ响应特征．     

STUDY ON MULTIPLE-LAYER STRUCTURE OF PASSIVE FILM ON STAINLESS STEEL BY POTENTIOSTATIC-GALVANOSTATIC (P-G) TRANSIENT TECHNIQUE Ⅰ. P-G Response Characteristics of Passive Film with Multiple-Layer Structure

采用恒电位－恒电流（Ｐ－Ｇ）瞬态响应技术研究了具有多层结构钝化膜的体系．分析了这类体系在钝化过程不同阶段的Ｐ－Ｇ瞬态响应特征．提出了判断钝化膜多层结构的方法以及表征钝化膜不同层稳定性的特征参数，并建立了描述复杂钝化体系Ｐ－Ｇ响应曲线的数学模型．研究结果证实所建立的模型能很好地反映体系的Ｐ－Ｇ响应特征．     

复杂钝化体系P-G响应特征的研究

采用恒电位-恒电流(P—G)瞬志响应技术研究了多层结构钝化膜和存在吸附层钝化膜的复杂钝化体系提出了判断钝化膜多层结构的方法以及表征钝化膜不同层稳定性的特征参数,并建立了描述复杂钝化体系P—G响应特征的数学模型.研究了2205和316L不锈钢在2.5mol/LH2SO4中钝化膜的结构,以及吸附型缓蚀剂哌啶和癸胺对304不锈钢在0.5mol/LNaCl介质中孔蚀的抑制作用研究结果证实所建立的模型能很好地反映研究体系的P—G响应特征.利用提出的特征参数随极化电位和极化时间的变化关系,有效地分析了钝化膜的生长规律     

恒电位-恒电流瞬态技术研究Cr18Ni9不锈钢在氯化钠溶液中的孔蚀特征

本文用恒电位一恒电流 (P-G) 瞬态响应技术,研究了孔蚀形成与发展过程的实验方法和数据解析。由分析不同极化电位下 P-G 响应曲线数据计算得到的表征钝化膜特性和稳定性的电化学参数的变化关系,提出了临界孔蚀电位E_(cp)的概念和判断与分析产生孔蚀的原因与特征的方法。用此技术测定了304SS在0.1mol/1和0.5mol/l NaCl溶液以及321SS在0.5mol/l NaCl溶液中的 P-G 响应特性,并讨论了这3种腐蚀体系的孔蚀特性。     

恒电位-恒电流瞬态技术研究Cr18Ni9不锈钢在氯化钠溶液中的孔蚀特征

本文用恒电位一恒电流(P-G) 瞬态响应技术,研究了孔蚀形成与发展过程的实验方法和数据解析。由分析不同极化电位下P-G 响应曲线数据计算得到的表征钝化膜特性和稳定性的电化学参数的变化关系,提出了临界孔蚀电位E_(cp)的概念和判断与分析产生孔蚀的原因与特征的方法。用此技术测定了304SS在0.1mol/1和0.5mol/l NaCl溶液以及321SS在0.5mol/l NaCl溶液中的P-G 响应特性,并讨论了这3种腐蚀体系的孔蚀特性。     

哌啶对Cr25铁素体不锈钢在中性NaCl介质中钝化膜破坏的缓…

采用稳态阳极极化曲线，电化学阻抗谱方法和恒电位－恒电流瞬态响应测试技术研究了有机缓蚀剂哌啶对Ｃｒ２５铁素体不锈钢在ＮａＣｌ介质中钝化膜破坏的抑制作用，以及缓蚀剂浓度和Ｃｌ＾－浓度对钝化膜稳定性的影响。     

H2S水溶液中腐蚀与缓蚀作用机理的研究：Ⅱ.碳钢在碱性H2 …

通过极化曲线和交流阻抗谱（ＥＩＳ）测定，对低碳钢在碱性Ｈ２Ｓ溶液中的钝化及钝化膜破裂过程进行了研究。结果表明，相同ＰＨ值下，除氧碱必训加入Ｈ２Ｓ，对碳钢的钝化具有一定的促进作用；在阳极极化下，钝化初期阻抗谱具有两个时间常数，表现出不完全钝人的特征；随极化电位的升高，钝化膜逐渐完整，阻抗呈单一容抗弧特征，容抗弧瓣径逐渐增大；当极化电位高于－６９０ｍＶ时，由于电极表面ＨＳ同ＯＨ的竞争吸附和放电作用，导     

H2S水溶液中的腐蚀与缓蚀作用机理的研究——Ⅳ.碱性 ？…

利用交流阻抗和动电位极化技术，在碱性硫化物溶液中，分别研究了阳极极化电位下Ｃｌ＾－对低碳钢钝化过程阻抗行为的影响，钝化膜临界孔蚀电位Ｅｂ与Ｃｌ＾－浓度的关系以及临界Ｃｌ＾－浓度随温度的变化。结果表明，在除氧的碱性硫化物溶液中，阳极极化的初期阻抗具有两个时间常数，随极化电位的升高，钝化膜逐步趋于完整；在点蚀的形成过程中，容抗弧半径逐渐变小，当极化电位为－６００ｍＶ时容抗弧半径大幅度下降，并出现低频实     

磁场和Cl^—对铁在中性Na2SO4溶液中的阳极极化行为的影响

用动电位扫描法研究了外加磁场及Ｃｌ＾－对铁在中性０．５ｍｏｌ／Ｌ Ｎａ２ＳＯ４ 阳极极化行为的影响，结果表明：有、无磁场下铁在含Ｃｌ＾－的Ｎａ２ＳＯ４溶液中的阳极极化同线都呈现活化－钝化－过钝化特征，虽然Ｃｌ＾－会阴碍钝化膜的形成过程，外加磁场使Ｅｐ和ＥＦ正移并增大ｉｍａｘ和ｉｍｉｎ，使钝化区范围缩小，Ｃｌ＾－与磁场同时存在时对钝化膜的破坏有协同作用。     

恒电位—恒电流瞬态技术研究钝化膜的稳定性

建立了研究钝态金属的恒电应—恒电流(P-G)瞬态响应的微计算机在线测量系统和存在孔蚀时的 P-G 响应曲线的数学模型,由采样得到的响应曲线数据,应用蒙特卡罗法算出表征钝化膜稳定性的电化学参数。用此技术研究了一些合金钢在氯化钠溶液中的钝化膜稳定性并讨论了钝化膜局部破坏的原因。     

恒电位——恒电流瞬态响应技术研究孔蚀缓蚀剂

本文介绍了用恒电位-恒电流(P-G)瞬态响应技术研究孔蚀缓蚀剂的实验方法和数据解析。用此技术测定了304SS在添加癸胺和十二烷基苯磺酸钠的0.1mol/L NaCl溶液中的P-G响应特性。由不同极化电位下P-G响应曲线得到的电化学参数的变化关系以及长期浸泡持续P-G响应测试结果,分析了两种缓蚀剂的耐孔蚀性能。初步探讨了缓蚀剂对孔蚀发生及发展过程的抑制作用。     

恒电位阳极氧化对锆合金表面钝化膜的影响

采用动电位扫描极化曲线、电化学阻抗谱、Mott-Schottky曲线等电化学测试方法,研究了在室温0.1 M Na_2SO_4溶液条件下,不同极化电位对锆合金钝化膜性能的影响。结果表明,锆合金表面钝化膜表现出n型半导体性质,随着极化电位的增加,锆合金钝化膜缺陷密度下降,半导体性质减弱,阻抗值增大。阻抗谱可以用RQ并联后与溶液电阻Rs串联的等效电路来拟合。在相同的极化电位下,含Nb的N18合金表面钝化膜的缺陷密度要小于出厂退火态Zr-4合金。     

SUS36不锈钢阳极钝化膜的研究

用恒电位极化、电位衰退、充电曲线和交流阻抗等电化学方法,结合表面分析技术,研究了SUS36不锈钢在H_2SO_4介质中在不同电位下形成的钝化膜的组成及其与耐蚀性的关系。在过钝化区形成的钝化膜,其耐蚀性比较好。     

成膜电位对GH3536在NaNO_3溶液中钝化膜性能的影响

通过塔菲尔极化曲线、恒电位极化曲线、交流阻抗谱及Mott-Schottky曲线(M-S曲线)等测试方法对固溶处理锻件GH3536在NaNO_3溶液中钝化膜的性能进行了研究。结果表明:GH3536的钝化平台区间为0～0.87 V,钝化膜的维钝电流随恒电位增大而增大;容抗弧半径、最大阻抗膜值、钝化膜膜厚随钝化电位的增大而减小,均在0.8 V时达到最小值;恒电位极化30 min后,钝化膜在0～0.2 V钝化平台内M-S曲线呈现N型半导体特征,而在0.2～0.8 V内呈现P型半导体特征。通过研究分析钝化膜的性能随成膜电位变化的规律,可为后续进行电化学去除奠定理论基础。