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本文在成熟使用电子束曝光机制作各处掩膜版的基础上,针对主人掩膜版质量的三大因素即:图形尺寸精度,图形套准精度,芯片合格率逐一详细分析,以研究探讨如何应用电子束曝光机制作高质量的掩膜版。 相似文献
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一、前言电子束曝光机制作的高精度分离掩模版,精度高。要检查一套版之间的相对套准精度,往往比较困难。若用掩模版比较仪测量,只能测量相对精度,且精度较低,要测到±0.5μm的相对误差,已属不易。采用光刻工艺来检验掩模版的相对套准精度,尽管和器件生产工艺相容好,但测试周期长;而且由于光刻、腐蚀等工艺过程要带来相当可观的精度损失。因此作为一种工艺考核是可以的,而作为掩模版的套准精度就不合适了。 相似文献
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本文通过对一台先进电子束曝光机制作掩模过程的分析,阐明设计图经计算机辅助设计系统数字化后,生成PG格式数据,再由PG格式数据转换成电子束格式数据的处理;论述了光栅扫描的原理及特点;介绍了图形发生器的作用及电子束在控制系统作用下在基片上描绘图形的过程。 相似文献
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介绍了电子束曝光机的一种新型精密工件台,在结构上成功地将工件台的承载力与导轨的导向作用分离开来,极大地提高了工件台的运动精度和运行的平稳性。论述了精密工件台的结构设计要点、几何精度以及达到的技术指标。 相似文献
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本文介绍了一种新型的电子束图形发生器,它基于主从分布式微机结构体系。以IBM PC/AT为主机管理,MCS—51单片机为分机控制。下位机接收传来的命令和数据,并分析转换以完成单双通道各种基本图形的扫描。工作频率在6MHz以上。结果表明:用分布式微机结构体系完成原小型机的工作,可以大大简化图形发生器的结构,且控制灵活,为曝光机的整机自动化打下基础。 相似文献
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本文介绍了电子束曝光机激光定位工作台的一种新型吊装结构。用有限元法分析了吊装结构工作台的静态特性及其对测量系统定位精度的影响,并用散斑摄影法测试了模拟吊装结构工作台的静态变形位移。分析与实验表明吊装结构工作台是实现亚微米定位精度较理想的切实可行的结构方案。 相似文献
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利用红外光弹系统,采用森纳蒙特(Senarmont)补偿法,对功率整流管制备过程中扩散和镀镍工艺所引入的残余应力进行了测量和讨论.获得扩硼铝、扩磷和镀镍硅片中的应力值,并给出了残余应力在硅衬底片中的分布图. 相似文献
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本文首先给出了电流源激励下双层手征介质中的并矢格林函数表达式。应用鞍点积分法,导出了有金属板衬底的双层手征介质中电偶极天线的辐射场表达式。分析了有、无空气隙时手征导纳对电偶极天线的方向图,=0方向的最大场强和谐振频率的影响程度。结果表明,通过改变手征导纳参数,可以有效地调节电偶极天线的辐射特性。 相似文献