相邻像素的投影和杂散光对反射型LCDs对比度的影响

研究了相邻像素的投影和杂散光对反射型ＬＣＤｓ对比度的影响。结果表明，在ＬＣＤｓ的测量过程中，由于受邻近像素的投影和杂散光的影响，当和被测像素邻近的像素和被测像素同时选通时，可使测量到的对比度和视角特性发生不容忽视的变化；被测像素的尺寸越小，其测量对比度和视角范围受相邻像素的选通状态的影响越大。     

像素的形状和大小与LCD的视角特性

通过对相邻像素的投影和杂散光的研究,很好地解释了 Ｌ Ｃ Ｄ 像素的形状和大小与对比度和视角特性的关系,并指出当 Ｌ Ｃ Ｄ 器件在 Ｃｒ ＞ １ 的有效显示区中,其大像素的对比度比小像素的大,同时也强调了相邻像素的选通态对 Ｌ Ｃ Ｄ 测量结果的影响。     

不同的环境光照下相邻像素的选通态对LCD透射屏测量对比度的影响

研究了不同的环境光照下,相邻像素的选通态对ＬＣＤ透射屏测量对比的影响。结果表明：１．不同的照明条件下ＬＣＤ透射屏的对比度会发生很大的变化,但相邻像素的选通态对测量对比度的影响始终存在;２．与ＬＣＤ反射屏相比,透射屏中相邻像素的选通态对测量对比的影响,主要来自杂散光。     

相邻象素的选通状态对LCD测量对比度的影响

研究了相邻象素的选通状态对ＬＣＤ测量对比度的影响。结果说明，邻近象素的不同选通状态对被测象素的测量对比度和视角范围的影响很大，这正好说明了被测象素尺寸和形状的不同所引起的对比度和视角范围的差别。因此，在测量ＬＣＤ的对比度和视角范围时，有必要注明相邻象素的选通状态。     

一种采用介电突起消除边缘场效应的LCoS

提出了一种使用介电突起消除边缘场效应的硅基液晶显示器(Liquid Crystal on Silicon,LCoS)。在像素电极之间设计介电突起结构来阻隔相邻像素电极之间的串扰电场,通过对LCoS的液晶分子指向矢分布和边缘场串扰现象进行仿真,分析了边缘场效应产生的机理及其影响因素,并对相应反射率和相位进行了计算和对比。具有介电突起的LCoS相比传统LCoS在减少相邻像素边缘反射率和相位干扰上有明显的效果,反射率始终维持在96%,相位差保持不变,对比度大于35∶1的区域接近60°,整体视角基本不受影响。所提出的介电突起能够很好地消除横向电场对相邻像素内液晶分子取向的影响,进而提高了LCoS的对比度,大大改善了显示效果。     

基于像素偏振片阵列的实时水下目标成像技术

借助偏振成像可以增强水下目标的探测效果。传统的偏振成像方法需要光学检偏器的机械转动来实现,这限制了其在水下的实时探测性能。采用基于像素偏振片阵列图像传感器开发的相机设计了一种水下实时成像系统。系统通过阵列上排布的四向微偏振片一次性捕获四向偏振图像,从而全局估算背景杂散光的偏振角和偏振度。然后利用偏振信息反解得到杂散光光强,最后借助水下成像物理模型得到去散射后的目标增强图像。实验结果表明,将像素偏振片阵列图像传感器应用到水下成像能够有效增强水下图像的对比度,且成像处理过程实时快速,进一步提高了水下目标的探测效率。     

液晶显示原理篇(四)

(3)无源矩阵驱动的交叉效应交叉效应指的是当一个像素上施加电压时,附近未被选中的像素上也有一定电压,当这个电压在Vth附近时,未被选中的像素也会部分呈现显示状态,也就是说,液晶单元像素不能单独实施控制,选通的像素亮了,半选通或没有被选通的像素也亮了,这样将造成对比度严重下降,这就是无源矩阵驱动时所固有的交叉效应,如图14所示的是发生交叉效应时图像的显示情况。交叉效应产生的实质是由于液晶器件的电光曲线不够陡峭,即陡度不够小,造成了Vs与Vth电压相差较大所致。交叉效应对图像质量特别是对比度的影响非常有害,因此必须想办法减小交叉效应,但不能从根本上消除,只能进行改善。     

液晶显示原理篇(四)

(接上期) (3)无源矩阵驱动的交叉效应 交叉效应指的是当一个像素上施加电压时,附近未被选中的像素上也有一定电压,当这个电压在Vth附近时,未被选中的像素也会部分呈现显示状态,也就是说,液晶单元像素不能单独实施控制,选通的像素亮了,半选通或没有被选通的像素也亮了,这样将造成对比度严重下降,这就是无源矩阵驱动时所固有的交叉效应,如图14所示的是发生交叉效应时图像的显示情况.     

微小激光加工区温度测量的准确性研究

利用辐射测温系统对半导体微细加工高温区进行温度测量时,所测温度的准确性及分布细节会受多种因素的影响.理论分析表明,对于像差校正系统,杂散光及探测器光敏面面积是影响测温系统温度测量准确性的主要因素,因此将原有探测器更改为带单模尾纤式探测器以限制杂散光并减小光接收面面积.实验证明这种方法是有效的,基本满足微小面元温度测量的要求.     

三维激光扫描技术下杂散光大数据预处理系统设计

杂散光的产生会降低图像对比度与信噪比,影响扫描测量结果准确性,基于此,提出三维激光扫描技术下杂散光大数据预处理系统。通过三维激光扫描系统原理与工作流程,分析杂散光点源透射比、双向散射分布函数与基本传输方程,建立6种杂散光传输路径模式;利用小数定标规范方法对三维激光数据做规范化处理,确定神经网络模型,将最速下降BP算法作为学习方式对神经网络训练;将神经网络引入到系统设计中,将系统结构从整体上分为格式转换子系统与预处理算法实现环境子系统,完成杂散光大数据预处理系统设计。仿真结果表明,杂散光大数据经过预处理后可以有效抑制杂散光对激光扫描的影响,成像信噪比一直保持在200左中右,测量精准度达到98%。     

电光调制技术在光刻对准中的应用

介绍了投影光刻机离轴对准系统的结构和相位探测的原理，详细讨论了电光相位调制技术抑制杂散光的机理，并分析比较了有无杂散光对光刻对准精度的影响。结果表明，使用电光调制技术可有效提高投影光刻的对准精度。     

AM-OLED四管像素驱动电路特性研究

为了消除2-TFT像素驱动电路中TFT阈值电压变化对OLED像素电流的影响,设计了基于多晶硅的4-TFT像素驱动电路.使用Hspice仿真软件,验证了在该电路中,流过OLED的电流与TFT管的阈值电压无关.同时,通过选择器件参数,保证在像素选通与非选通期间,都有近似恒定的电流流过OLED.     

改善全彩LED显示屏对比度的选择性滤光片设计方法

环境杂散光会显著降低LED显示屏的对比度,本文提出在全彩屏前增加一个干涉滤光片的方法,选择性地透过RGB三色光,杂散光却被反射,从而提高显示屏的对比度。文章提出了RGB发射峰的数学模型和滤光片设计的评价函数,给出了详尽的设计方法、步骤和一个例子的设计结果。     

浸没式ArF光刻中杂散光影响的研究

由于浸没液体和大数值孔径的引入,杂散光对光刻性能的影响更为显著和复杂,对杂散光进行分析和控制是获得良好光刻性能的关键之一。利用Prolith 9.0软件研究了不同数值孔径(NA)条件下,浸没式ArF光刻中杂散光对65 nm特征图形的光强分布、图像对比度、线宽均匀性、图形位置误差和工艺窗口的影响,研究结果表明,大数值孔径会导致光刻性能对杂散光更为敏感。同时还分析了偏振方向与曝光图形方向一致(Y偏振)的线偏振光对不同杂散光和数值孔径条件下的光刻工艺窗口的影响,研究结果表明,采用Y偏振光可以降低杂散光对工艺窗口的影响,使工艺窗口得到相应拓展,提高了光刻性能。     

水下激光图像的直方图增强技术研究

为了解决在距离选通型水下激光成像系统图像增强中直方图均衡所带来的灰度级过多简并、背景提升的问题,研究了改进的基于直方图的图像增强技术。首先研究最优化问题,提出了双种群的量子粒子群算法,并以此求解图像加权对比度熵最大化意义下最优平台直方图均衡化。接着提出了改进的直方图投影算法,以二维直方图提取灰度级的相关性信息,并设计两个权值,得到加权后的直方图。实验结果表明,双种群量子粒子群算法具有较好的全局收敛性,而改进的直方图投影算法在抑制灰度级简并和增加增强效果方面进行了更好的折中。     

简化4T像素结构CMOS图像传感器设计与实现

阐述了一种简化4T像素结构的设计。较普通4T像素结构而言,该简化结构像素内部去掉了行选通管,从而提高了像素的填充因子,简化了内部电路设计,减小了版图的面积,消除了行选通管引入的随机噪声。该像素结构采用0.11μm CIS工艺,成功应用于一款像素阵列为640×480的CMOS图像传感器芯片,经过流片测试,芯片整体性能达到了预期的设计目标。     

水下单像素成像系统研究

基于压缩感知（CS,compressive sensing）理论,针对水下复杂的光学成像环境,结合水下距离选通技术、水下激光照明技术和CS单像素相机提出了一种新的水下成像方法。设计了水下CS单像素相机系统的框架结构,构建了相应的采样矩阵和重构算法等软件计算平台。通过理论分析计算,比较了本文方法和水下距离选通成像方法在成...     

浸没式ArF光刻系统中光学因素对L形图形的影响

利用Prolith 9.0软件计算了浸没式ArF光刻中杂散光、光线偏振态和几何像差对目标线宽为65 nm的L形图形成像质量和光刻性能的影响,研究了杂散光、光线偏振态和几何像差对L形图形成像质量和光刻性能的影响规律。结果表明,杂散光使得L形图形图像对比度降低、线宽减小和图形位置误差增大;像散、慧差和球差可导致成像质量降低、线宽和图形位置误差增大;通过调整光线偏振态,可以提高成像质量、改善光刻性能、抑制L形图形对杂散光和像差的敏感度。     

基于一维经验模态分解的非等步在线三维面形测量

提出一种基于一维经验模态分解(EMD,empirical mode decomposition)的像素匹配方法,应用于在线三维面形测量。首先由计算机产生一固定正弦光栅条纹图,利用DLP投影仪投射到被测物体表面,物体在线运动将产生等效相移,由CCD相机采集5帧任意步长的受物体面形调制的变形条纹图。由于物体的运动使得几帧变形条纹图中的物体像素不对应,因此需要对变形条纹图进行像素匹配。通过对采集到的5帧变形条纹图进行一维EMD,可以得到与待测物体形貌变化一致的模态图像分布,然后通过大津法对其进行二值化处理,并截取可靠性较高的部分作为像素匹配模板进行像素匹配,计算出相应的等效相移量。最后利用五步非等步相移算法解相,并恢复出被测物体的三维形貌。计算机仿真与实验验证了本文方法的有效性。     

红外系统杂散光测量装置

为了定量检测出红外系统的杂散辐射,建立了点光源透射法为理论基础的红外系统杂散光测量装置。采用功率5 W的CO2激光,通过扩束准直系统后,得到均匀的入射辐照度场;通过被测红外系统后,得到随视场角(-10°~-2.5°)与(2.5°~10°)变化的像面辐照度场分布,进而得到杂光指数PST,有效评价出红外成像系统对杂散光的抑制水平。