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美国Solkatronic Chemicals公司可提供MEGABIT级SF_6。产品纯度为99.998%,其中CF_4杂质含量小于15ppm。该公司的母公司Kali-Chemic公司是SF_6的主要生产厂家。这项成果是双方合作而取得的。SF_6在一些半导体生产工艺中是关键的刻蚀材料,因为它对硅比对 相似文献
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PTFE树脂(聚四氟乙烯)通称“特氟隆”,是一种具有优异耐药品性、耐热性和电气特性等的超级工程塑料,在许多领域获得了应用。传统的 PTFE 树脂,是四氟乙烯(CF_2=CF_2)的均聚物,具有结晶性高,成型加工性差的缺点。现在市售的 FEP 和 PFA 树脂,是为改进PTFE 树脂的成型性能,在 CF_2=CF_2中分别引入 CF_3CF=CF_2和 R_1OCF=CF_2共聚单体制得的共聚物。同时,CF_2=CFCl、CF_2=CH_2、CH_2 相似文献
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三氟化氮与等离子体工艺 总被引:1,自引:1,他引:0
介绍了用NF_2代替传统使用的NH_3制备掺氟低氢等离子增强化学汽相淀积(PECVD)Six Ny:F膜、用NF_3代替CF_4等离子刻蚀超厚氮化硅薄膜的工艺试验条件和结果,对有关实际问题进行了讨论。 相似文献
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一、概况在半导体工业生产中,几乎各个工序都会用到超纯气体,器件的质量与超纯气体的纯净度密切相关。半导体工业所需的超纯气体包括:H_2、O_2、N_2、Ar、He、NH_3、HC1、SiH_4、PH_3、B_2H_8、AsH_3、H_2Se、H_2Te、CF_4、CO_2等共十余种,按用途可分为保护气体、反应气体和运载气体。保护气体包括Ar、N_2、He及其混合气体等。主要用于防止器件在加工过程中受到空气的污染。另外还用于扩散和外延生长工序前后将反应装置吹净。反应气体包括H_2、O_2、N_2、Ar、CF_4及各种气体氢化物。主要作为生产半导体材料的原材料、还原气;生产半导体器件时形成P-n结、保护层和隔离层的气体。 相似文献
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介绍了四川空分设备厂用于天然气(石油气)液化分离的带液增压透平膨胀机的设计、开发情况;并介绍了该厂从1988年起引进美国Rotoflow公司先进技术,先后研制成功配“12000”、“6000”、“10000”空分设备的增压透平膨胀机;同时还详细介绍了在研制过程中攻克的工艺难题以及膨账机实际运行参数。数据表明,该厂膨胀机性能水平已居国内先进水平。本文最后提出了该厂今后发展增压膨胀机的措施与目标。 相似文献
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美国米勒工业公司取得了50.5%的中国铜管厂股份,该厂主要为中国国内空调机市场提供铜管,同时为该公司美国生产线提供部分产品。该厂预期于2006年生产8000万磅产品,而到2007年可达到1.1亿磅。该厂建于江苏全潭,将生产各型铜管。米勒公司初期将投资1940万美元,中方将以机器、设备等方式投资相等金额。中方合资者为江苏兴荣高科技公司和江苏白杨工业公司。合资公司名称为江苏米勒-兴荣铜业公司。 相似文献
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富士公司已经投资1亿美元在美国建成一座感光胶片厂,该厂增强富士的零售商队伍和进一步在贸易争执中与竞争者柯达公司纠缠在一起。该厂位于美国南卡罗米纳州的绿林中,它将把从荷兰进口的大轴富士胶片,经裁切、卷轴和包装,然后在美国销售。富士公司投资1亿美元在美国建造感光胶片厂@黄仁清~~ 相似文献
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蒂森克虏伯公司监委会已批准一项31亿美元的投资用于阿拉巴马州的一个钢铁不锈钢联合轧钢厂。该厂计划于2010年投产,该厂将雇佣2700人,并在未来20年内在该地区提供出38万辅助岗位。该公司将提供先进技术以满足用户对合理成本的要求。该工厂将促进北美在这方面的进步。该地区目前是世界最大的钢板进口地区,而且未来也将继续依赖进口。 相似文献
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美国道化学塑料公司和日本AsahiKasei公司正在张家港建立一个 12万t/a的PS生产厂 ,合资公司名为SAL石化公司 (张家港 )。该厂将生产一系列产品 ,包括道化学公司的StyronA -TechPS树脂 ,及普通级别的StyronPS ,以满足中国国内快速增长的市场需求。道化学公司副总裁称 ,中国加入W 相似文献
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《真空与低温》2019,(1)
采用微波电子回旋共振(ECR)等离子体装置,对用原子层沉积(ALD)方法在阳极氧化铝模板(AAO)上制备的HfO_2薄膜进行了纳米图案化研究。用CF_4、Ar和O_2等离子体,对HfO_2薄膜进行了反应离子束刻蚀,以移除HfO_2。采用高分辨率扫描电子显微镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)和能量色散X射线光谱显微(EDX)分析,对样品刻蚀前后的形貌、结构和化学成分进行了表征。实验表明,HfO_2的刻蚀具有定向性,利于高深宽比微机械结构的加工。在其他参数固定的情况下,深宽比高达10∶1的结构中HfO_2的刻蚀速率是微波功率、负脉冲偏压、CF_4/Ar/O_2混合比(Ar含量在0~100%)和工作气压的函数。在0.3 Pa气压、600 W微波功率、100 V偏置电压下,HfO_2拥有0.36 nm/min的可控刻蚀速率,利于HfO_2的精准图案化。刻蚀形貌表明,在CF_4/Ar/O_2等离子体刻蚀之后,刻蚀面非常光滑,具有0.17 nm的均方根线粗糙度。 相似文献
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三氟氯乙烯(CFCl=CF_2)是制备聚三氟氯乙烯的单体,通过单聚和共聚能制备一系列氟树脂、氟橡胶以及氟氯润滑油等重要产品。数十年来,工业上一直采用由三氟三氯乙烷在甲醇中用锌粉进行脱氯的工艺路线。主要化学反应方程式如下: 相似文献
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在美国俄亥俄州的克利夫兰,AGA 公司的空气分离与液化工厂已破土动工,该公司总共投资1500万美元,计划于1983年3月份开始安装设备。工厂建成投产后,可提供200吨/日电子及医药级的氧、氮、氩。预计当1984年中期全部开车运转时,该厂将雇用40人。 相似文献