0.8—1μm分步重复投影光刻机计算机实时控制系统接口设计

较详细介绍了０．８－１μｍ分步重复投影光刻机的主计算机时实时控制系统接口设计，所有接口均采用隔离措施，各种类型接口都具有方便的再扩展功能，接口软件用ＢｏｒｌａｎｄＣ＋＋语言编写，可方便调配组合用。     

分步重复投影光刻机同轴对准系统

对投影光刻机同轴对准系统进行了理论分析，阐述了系统的成象机理和工作过程，并在整机上检测了同轴对准系统的重复精度。该系统在掩模和硅片均刻有对准光栅标记，对光栅衍射后形成干涉信号，使对准信噪比大大提高，并实现了掩模和硅片之间的直接对准，同时利用光弹性调制器组件对光学信号进行了光学调制，由电路实施解调，提供了一种保持高信噪比，又使弱信号探测不降低精度的对准方案。该系统可适用于各种硅片衬底，工艺适应能力强     

分步重复投影光刻机精密快速定位工件台研究

介绍了“１．５－２微米实用型分步重复投影光刻机”用的精密快速定位工台的设计，结构特点，精度分析，检测及使用情况。工件台由大行程Ｘ－Ｙ工件台，微动台和调平微转台组成。同时该工件台利用大行程Ｘ－６工件台粗动兼微动与调平微转台的组合完成了“１０：１分步重复投影光刻机”的研制。     

0.8—1μm分步重复投影光刻机六自由度硅片定位系统设计与计算

介绍用于０．８－１μｍ分步重复投影光刻的机的六自由硅片定位系统。讨论了气足，承片台系统及ＳＴＡＭＰ的设计和计算方法，并给出了设计数据与计算结果。     

0.8μm投影光刻物镜研制

介绍了０．８－１μｍ分步重复投影光刻机投影光刻物镜双远心成象原理及设计研制。所研制的ｇ线１／５精密投影光刻物镜，其数值孔径ＮＡ＝０．４５，视场１５ｍｍ＊１５ｍｍ，畸变不超过±０．１μｍ。     

0.8～1微米分步重复投影光刻机

０．８～１微米分步重复投影光刻机中国科学院光电技术研究所承担的国家“八·五”科技攻关项目“０．８～１微米分步重复投影光刻机”，于１９９６年１月通过了国家验收，１９９６年１１月至１９９７年４月在北京微电子中心按“０．８微米ＣＭＯＳ全套工艺”进行工艺考核...     

高分辨力高导向精度柔性铰链调焦机构

介绍了一种用于亚微米暴光系统的柔性铰链调焦机构，讨论了其设计与计算方法，这种机构得到了２０ｎｍ的分辨力，２００μｍ的行程和小于１弧秒的导向精度。这是一种适合纳米定位的理想机构。     

从SEMICON/WEST′91看当今光刻设备的发展(出国参观考察报告)

本文介绍了参加SEMICON/WEST′91展览会所见到的国外光刻设备——新研制的制造亚微米器件(16Mb)用的半导体设备已面市。特别引人注目的是许多公司已推出它们的新型光刻设备——0.5～0.8μm硅片分布重复光刻机,如ASM公司的PAS-5500型,Ultratech公司的Ultrastep-2000型,GCA公司的XLS-7000系列,Canon公司的FPA-2000il型,Nikon公司的NSR2005G8i/i8A型依靠i线光刻的分步重复光刻机及用于生产64Mb及256Mb DRAM的有效使用准分子激光器深紫外光刻机的市场可望连续增长。     

0．8—1微米分步重复投影光刻机问世

０．８—１微米分步重复投影光刻机问世由中国科学院成都光电所承担的国家“八五”重点攻关项目─—０．８—１微米分步重复投影光刻机已通过由电子部主持的国家级验收。验收小组专家一致认为：该光刻机主要技术指标达到攻关合同要求，工作分辨率达０．８微米，整机性能指...     

分步重复投影光刻机(DSW)照明光学系统的研制

本文根据多年来的实验结果和工作经验,探讨在研制投影光刻精细线条的照明系统中,解决关于大照明面积、高照明均匀性、高象面照度及实现多种相干度的部分相干光照明等关键问题,并介绍一种高均匀性照明光学系统的研制结果。     

i－line光刻高均匀照明系统光能分布的计算模拟

叙述了ｉ－ｌｉｎｅ光刻高均匀照明系统的均匀照明原理，以及其具有特殊面形（非球面）、特殊结构（非共轴）、超光学表面（由多个非共轴光学表面组成）的光学系统的光能分布计算模拟的原理、方法。作为例子，用所编写的程序计算模拟了我们近来设计的一曝光系统几个重要光学表面上具有权重的点列图和光能分布曲线。     

亚微米i线投影曝光机三维精密定位工件台控制系统研究

主要介绍一种采用双单片机控制的三维精密工件台快速超精定位系统的工作原理及结构组成，并对系统进行理论和实验分析。为了实现高精度的快速定位，本系统采用了独立伺服控制技术以及变结构的ＰＩＤ自适应控制算法，使定位精度达到±０．０８μｍ（３σ）     

激光直写系统图形编辑软件

简要描述了一套针对激光直写系统，适用于衍射光学元件和精密码盘及其它图形的图形辅助编辑软件——ＭＡＳＫ软件，简单介绍了其功能和结构。     

北京同步辐射装置（BSRF）X射线光刻系统的现状和未来

我国第一代同步辐射Ｘ射线分步曝光系统已经安装在北京同步辐射装置（ＢＳＲＦ）Ｘ光束线５的末端，并且于１９９２年通过国家验收。本文描述它的整体结构和性能水平，并且同国外同类装置进行比较。最后，提出存在问题、改进设想和未来的发展方向。     

控制软件设计与验证计算机辅助系统

介绍了控制软件设计与验证系统的原理与实现过程,给出顺序功能图（Sequential Function Charts,即SFC）需求说明语言到系统Petri网模型的转化算法和系统几种异常现象的验证算法,讨论了系统实现的若干关键技术,最后通过例子演示了系统的操作过程。