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在近几年国际高温涂层研究的基础上,根据理论研究和实验结果从几方面因素(如材料、膜层结构、陶瓷中金属组分等)分析了其对高温吸收涂层效率的影响.在Mo-Al2O3双吸收层涂层的基础上,利用计算机计算了金属体积分数配比和膜层厚度变化下整个涂层的吸收比和发射比,计算结果表明,膜厚和吸收层中Mo的体积分数对涂层的吸收比和发射比影响效果差异较大,选择合适的控制因子不仅可以提高涂层的吸收比(a=0.92-0.95),而且还能有效控制涂层的发射比(ε≤0.05). 相似文献
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干涉型太阳选择性吸收涂层的光学性能设计 总被引:4,自引:3,他引:4
利用等效媒质理论对铝复合单层膜的光学性能进行了计算并以此为基础优化设计了具有干涉效应的铝复合选择性吸收涂层,该吸收层为两层时膜系谱曲线具有明显的干涉效应,与多层吸收层膜系相比其发射率低,吸收率二者相同,随温度的升高,发射率的变化前者较后者缓慢,实际制备了金属填充因子fal为0.38,0.24的铝复合膜为吸收层,AlN,Al2O3为减反射膜构成的膜系,其光谱线曲线与优化的理论曲线吻合较好。 相似文献
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探讨粘结层、吸收层、减反射层的制备工艺及基底粗糙度状态对太阳选择性吸收涂层性能的影响。采用磁控溅射法,以SS/AlN涂层为例,制备太阳光谱选择性吸收涂层,并测试性能。结果表明:合适的制备工艺可以提高膜层的结合力和涂层的整体性能,胶带粘贴无脱落,吸收比96%,500℃发射比10.5%,并证实基底的粗糙度对涂层的发射率基本无影响。 相似文献
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以TA2为基体,利用阳极氧化法在硫酸溶液中制备太阳能吸收涂层,研究反应电压和反应时间对膜层组成结构及性能的影响。结果表明,阳极氧化膜层晶相组成主要为锐钛矿型TiO_2,当氧化电压为140 V,氧化时间为10 min时,膜层性能最佳,此时膜层吸收率α为0.759,发射率ε为0.19。膜层的微孔数量及孔径随电压的增长而逐渐增加,而随时间的延长而逐渐减小。膜层的太阳吸收率和发射率均随氧化电压的增长而增加,而在随时间延长上没有明显变化。 相似文献
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M-AlN太阳选择性吸收涂层的研制 总被引:3,自引:1,他引:2
为提高在高温条件下选择性吸收涂层的性能,采用金属粒子注入介质基体中形成的金属陶瓷作吸收材料,制成金属陶瓷复合薄膜,它具有优良的光学性能和热稳定性。根据对金属陶瓷膜系的光学性能进行理论计算的结果,采用磁控多靶反应共溅射的方法对膜系进行反演寻优工艺实验。 相似文献
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着重介绍了sol-gel(熔胶-凝胶)技术大面积、工业化制备高硬度、耐摩擦太阳能减反射涂层的意义、原理和方法,并从其作为商品工业化的角度,介绍了SiO2单层膜系和TiO2-SiO2双层膜系太阳能减反射涂层生产工艺、设备及环境要求等,给出了部分商业化减反射涂层的性能特征等技术参数. 相似文献
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采用反应磁控溅射方法制备SiO_x/Cr-N-O/Al选择性吸收涂层,该涂层太阳吸收比为95.9%、发射比3.8%、吸收发射比25.2。结合光学显微镜微观形貌分析、X射线衍射结构分析(XRD)、X射线光电子能谱成分分析(XPS)探讨涂层在250和400℃大气环境下热稳定性机理:250℃大气热处理后,涂层保持较高光谱选择性,表面形貌与物相结构未出现明显变化,SiO_x层氧化程度增大导致太阳吸收比升高,金属Cr和金属Al相互扩散导致发射比升高;400℃大气热处理后,涂层光谱选择性降低,表面出现微米级孔洞,XRD及XPS结果表明Cr-N-O吸收层被氧化,导致太阳吸收比降低,金属Cr和金属Al相互扩散导致发射比明显升高。 相似文献
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介绍了太阳选择性吸收涂层的理论、实践与产业化;在太阳光谱波长0.3~2.5μm范围内吸收涂层有1个极小值、2个极小值和3个极小值3种反射曲线,概述了其理论计算与实际的涂层膜系;叙述了吸收涂层的耐久性试验,尤其是盐雾试验,提出实施国标OB/T26974—2011《平板型太阳能集热器吸热体技术要求》两种可能的方法。当今我国决心治理雾霾,企业责任与经济效益一致,对湿法与干法制备吸收涂层,用发展眼光看,要放弃并不要引进对环境不友好的工艺方法。 相似文献
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双层黑铬选择性吸收涂层可见光谱光学常数的测定 总被引:2,自引:1,他引:2
本文讨论了可见光谱范围内双层黑铬选择性吸收涂层(Al+黑铬+Cr_2O_3)中的金属衬底膜、强吸收膜及减反射膜的光学常数谱n(λ)、κ(λ)及整个涂层的反射率谱R(λ)的测定与数据处理过程。 用椭圆偏振光谱仪测定金属膜(Al)、强吸收膜(黑铬)的样品椭圆参数谱△(λ)、ψ(λ);用“分层测试陪片测厚方案”测定各膜层的光学常数谱n_t(λ)、κ_t(λ),用双入射角法测定膜层厚度d。采用统计试验法进行数据处理,获得它们的n(λ)、κ(λ)谱值,最后计算出整个涂层的反射率谱值R(λ)。其值与用分光光度计实测的R(λ)值吻合。 相似文献