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(中国真空学会真空冶金专业委员会七届一次工作会议、中国真空学会真空工程专业委员会七届一次工作会议、中国真空学会真空咨询工作委员会七届一次工作会议、《真空》杂志社2011年编委会联席会议同时召开)第十届国际真空冶金与表面工程学 相似文献
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来自日本真空市场的启示本文作者在第１２届国际真空会议（荷兰·海牙）上收集到一份日本真空工业协会介绍日本真空工业发展现状的文章，该文介绍了自１９８６年至１９９１年日本真空设备的销售情况（见图１），作者依据此图整理出表１，并从表一中得到以下几方面启迪，特... 相似文献
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《真空科学与技术学报》2004,24(1):82-82
序号活动类别 活动名称主要内容时间 规模(人 ) 地点联系人电 话1f 国际真空科技与应用联盟 (IUVSTA)第 94次执委会 (ECM 94 )对中国真空学会申报在 2 0 10年中国北京举办第 18届国际真空大会进行评估 2月 2法国里昂 刘鸿飞高鸿钧0 10 82 2 4 13790 10 82 6 480 352a 第七届国际真空展暨技术交流会同时进行中国真空网揭幕仪式 真空新产品、新技术展示及交流 2月 2 5- 2 8日 30 0 北京国际会议中心 周思平 0 10 6 88784 473f 中国真空学会真空科技硕士奖学金及硕士博士论文奖金评审工作会评审 2 0 0 3年度硕士奖学金及博士、硕士优秀… 相似文献
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在第9届国际真空会议上发表的有关真空镀膜的论文有193篇,占真空论文的43.1%。从这个比例上可看出在真空技术中真空镀膜技术占有多么重要的地位,它既是会议的重点,也是科研工作的热门。但这种局势并不是一天形成的。回顾历届国际真空会议就可以看到真空镀膜一直是真空技术发展的重要方向。如1971年第7届国际真空会议上发表有关真空镀膜的文章有197篇,占真空论文的60%;1980年第8届国际真空会议上发表有关真空镀膜 相似文献
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最近比较详细的看了一下第八届国际真空会议论文集有关真空获得的文章,在这里概括的谈一下真空获得设备的发展动态。同时兼读一点国内真空获得设备的发展情况和个人的一些粗浅看法。 回顾一下第六届、第七届国际真空会议的情况,当时真空获得的文章发表的很少,给人一停止不前的感觉。而这次会议一反往常发表了许多有关真空获得方面的文章。这说明真空技术又有了新的发展,真空获得设备又出现了新动态,给人以复苏的印象。究其原因不外乎两点,第一在表面科学、真空镀膜、超大规模集成电路等真空技术应用方面有了长足的发展,要求有关的各种真空泵… 相似文献
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说明：拟于年月日组团去美国参加联合召开的第届国际真空会议第届美国真空学会国际学术研讨年会 《真空》2001,(2):41
说明：拟于2001年10月29日组团去美国参加联合召开的第15届国际真空会议、第48届美国真空学会国际学术研讨年会(会议内容包括技术会议、专题会议、短训班和设备展览会)及第11届固体表面会议,有意参加者,请在4月底前与学会办公室联系。报名电话：(010)68878447,e-mail:cvs@public2.east.net.cn
(周思平供稿) 相似文献
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第十届真空冶金与表面工程学术会议、2011年真空工程学术会议和2011年真空咨询学术会议将于2011年5月22日～24日在东北大学(沈阳)隆重举行。大会将特别邀请国内外著名专家、学者作多场大会特邀报告;就会议各议题分别进行分组学术交流;将展示国内相关领域的最新科研成果和技术;并组织进行相关企业单位的产业考察,等等。 相似文献
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第十届国际真空会议(IVC-10)及第六届国际固体表面会议(ICSS-6)系由国际真空协会(IUVSTA)及美国真空学会(AVS)主办,国际理论物理与应用物理协会(IUPAP)协办,于1986年10月27日至31日在美国马里兰州巴尔铁摩市召开。美国真空学会第三十三届全国会议也同时举行。这次出席会议的代表来自五大州的三十一个国家和地区,共三千六百余人。在会议上以“宣读”与“张贴”方式交流论文共849篇。会议期间举办的展 相似文献
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华中一 《真空科学与技术学报》1981,(3)
第八届国际真空会议(IVC-8)与第四届国际固体表面会议(ICSS-4)、第三届欧洲表面科学会议(ECOSS-3)于1980年9月22～26日在法国戛纳联合召开。参加这次会议的代表和科学家来自37个国家,约一千二百余人。大会期间总共交流了论文774篇, 相似文献
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木文给出了中国玉门炼油厂的玉炼３０～＃真空封泥、江西南昌复印材料厂生产的ＫＨ－ １７１４型高温固化真空堵漏胶和英国爱德华公司生产的Ｓｉｌｉｃｏｎ常温固化胶的特征质谱 图。叙述了选取堵漏胶的一般要求和在北京正负电子对撞机工程（ＢＥＰＣ）实践中选用几 种堵漏胶所对应的漏率范围。 相似文献
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一、会议概况 第十届国际真空会议、第六届国际固体表面会议、第三十三届美国真空会议于1986年10月27～31日在美国巴尔的摩举行。参加这次会议的有31个国家,近2000人。我国出席这次会议的代表共22人。原机械工业部派出了姜燮昌、孙企达、陆明、龚肖南等四人出席了会议。这次会议收到的论文约1000篇,按其内容分布情况如下。 表面(应用表面科学)占44% 薄膜 占21% 真空科学 占15% 电子材料与处理 占13% 核聚变 占4% 真空冶金 占3% 大会特邀报告有三篇: 1.美国IBN公司研究所所长ARM-STRON,报告题目;“微电子学… 相似文献