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郑会津 《光纤与电缆及其应用技术》1984,(6)
一、引言光通信器件中,有不少φ2~φ3mm的小孔。这些小孔的结构特殊,对精度和光洁度的要求都很高。如精密活动连接器、棱镜式开关、带插座的组合器件等的插孔,其孔深都在孔径的5倍以上;孔径公差为4~6μm,园度为0.8~1.2μm,光洁度在 9以上。而且另件的材料大多数是不锈钢。 相似文献
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为了实现石英玻璃薄板的激光精密切割,对石英玻璃薄板激光切割原理进行了探讨,提出了依照材料光学透过率特性来选择激光切割用激光源的方法.通过对材料光学透过率的特性分析可以得知,用来切割石英玻璃的激光源波长应在5μm~20μm范围内.对石英玻璃薄板的激光精密切割进行了实验验证,实验结果表明,激光精密切割技术能够较好地运用于石英玻璃薄板的精密切割加工中,其加工精度优于20μm、中心对称度小于μm.这一结果和激光源选择方法对石英材料激光精密加工技术研究及其设备研制是有帮助的. 相似文献
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沈钊 《电子工业专用设备》1985,(2)
<正> (一)精密加工技术的发展与微细加工技术图1横座标表示年代,纵座标表示可达到的加工精度。这个图说明不同年代达到的最高加工精度。例如,1910年为10μm,1930年为1μm,1950年为0.1μm,而1980年以后则最高精度已达0.01μm,进入向毫微米进军的阶段。图中的三根曲线分别代表一般加工、精 相似文献
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第四部分现代模具生产的设备设置新格局 1 模具生产设备更新的必要性现在我国大多数专业模具厂和大中型模具车间的设备,是50年代的单机小生产型机床。经30多年的使用,其精度不高,生产效率低,不能适应现代模具生产的需要。为了满足电子、航天航空、仪器仪表工业以及许多精密工业的需要,模具工业必须精密比、高效率和长寿命。为了逐步达到这一目的,“七五”规划曾要求模具工业在1990年达到以下指标。 1.1 冷冲模精度达到3~5 μm,表面粗糙度在Ra0.4μm以下。用一般模具钢,模具寿命达500万 相似文献
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当代最尖端的技术要求最精密的加工技术水平。现在最高加工精度已达到0.01微米,正向着精度为0.01~0.005微米、表面粗糙度为0.001微米的超精密加工的目标前进。各年代加工精度的进展见图1。为了使零件加工获得微米到零点几微米级的精度,必须采用能进行微小量切削的方法。为了用机械方式实现微小量切削,近年常用的是超精密切削机床,直接切削出超精密零件。例如: ①加速器的加速腔材料无氧铜,尺寸精度要求1~2微米,内孔、内孔的圆角半径及 相似文献
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李淑芳 《固体电子学研究与进展》1992,(3)
<正>据《Solid State Technology》1991年12月报道,IEEE 1991年亚微米光刻技术讨论会在美国夏威夷举行。会议讨论了1997~2000年制造256Mbit和1 Gbit DRAM所需要的光刻技术。256Mbit和1 Gbit DRAM要求光刻特征线宽的尺寸为0.25μm和0.15μm。会议预测了X射线、电子束光刻和光学光刻技术作为实现上述要求的前景,还提出了精密尺寸测量的计量和缺陷检查等问题。 相似文献
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随着空间光学遥感器地面分辨率逐步提高,长焦距、大口径相机成为重点研究方向。为了克服重力变化、复合材料变形等因素带来的天地不一致性的问题,次镜调整成为校正光学遥感器离焦和主次镜相对位置变化的关键技术之一。将次镜柔性支撑、精密直线驱动与柔性铰链传动技术相结合,设计了一套高精度次镜调整机构。首先介绍了该套机构的光机构成、工作原理及传动链路,然后对超轻次镜、高精度直线致动、高精度调焦传动等设计分别进行了阐述,最后介绍了力学环境试验后的调整精度测试情况。试验结果表明,该套精密调整机构实测调整行程大于±120μm,轴向调整步距精度0.18μm (3σ值),调整行程内次镜的最大平移误差为1.30μm,最大倾斜误差为1.93″,具有调整范围宽、调整精度高的特点,满足空间光学遥感器精密次镜调整的要求,已成功在轨应用于北京三号B卫星0.5 m级高分辨率空间相机。 相似文献
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针对数以万计的空间碎片,进行快速、精确的轨道确定与预报,以提供可靠的空间碰撞预警是当前空间态势感知的一个重要研究方向。半解析卫星/空间碎片轨道积分,可以克服轨道积分中数值法耗时、解析法低精度的不足。讨论了已初步研发成功的利用多尺度摄动原理的半解析轨道积分器及其在空间碎片轨道预报中的精度性能,并以精密数值积分结果作为真轨道评估半解析轨道积分器的精度。大量数据处理结果表明:面质比0.01、轨道高度300 km的碎片,预报1天,耗时不足60 ms,精度2 km左右,且随高度增加,预报精度更高,当高度超过1 000 km时,1天的预报精度仅为50 m左右,满足许多精密空间应用的要求。 相似文献
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光刻机自动对准工作台是光刻机的核心执行功能部件,直接影响着光刻机找平、锁紧、微分离、自动对准执行等关键功能动作;结构设计紧凑精巧,包含复杂气动控制和高速、精密运动控制。运动控制的精度决定着对准精度,目前接触接近式掩模光刻机的对准精度达到0.5μm,因此工作台运动控制的精度应小于0.5μm。 相似文献
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激光与红外干扰材料的特性测量中,为克服热像仪温度分辨率低的缺点,设计了高精度激光与红外对抗材料特性测试系统,该系统光源采用带精密功率和温度控制的半导体激光器(1.06μm)和中远红外辐射板(3~5μm,8~12μm),并采用斩波频率为12 Hz的机械斩波方式.探测器选用高灵敏度的带滤光片的PIN管和热释电探测器,光学接收系统采用φ178 mm的卡塞格伦聚光接收系统,测试系统的软件用Measurement studio编写,采用了128阶FIR数字带通滤波器和AR功率谱模型进行数字信号处理,系统透过率测量分辨率>0.5%,测量精度>1%,测量距离>200m,并且提供了完备的试验数据和图表的分析、统计的功能. 相似文献
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<正> 半导体硅片的微细加工,对母掩模版的制造精度提出了很高的要求。一组掩模的套刻精度,主要取决于分步重复相机坐标工件台的精度。套刻误差不得大于最小线宽的约10—20%,即±0.1—0.2μm。工件台的精度又取决于两个坐标的重复定位精度和定向精度。这也就是说,要有一个精密的制造掩模平行导向运动 相似文献
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随着PCB行业的迅速发展,电子封装技术的微型化,尽管不同类型、不同客户要求的PCB,其字符制作存在较大的差异,但均已向双面丝印、高精密细小方向转化。顺应PCB技术发展的趋势,通过工业实验研究探讨,介绍了字符线宽/线隙<101.6μm/101.6μm,丝印面凹凸高差>25.4μm,字符油厚≥13μm的适用于HDI等高精密PCB细小精密字符的工艺制作方法,并就其工艺制作效果进行了对比分析与讨论,以满足此类PCB高难度字符生产制作的需要。 相似文献
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<正> 1、前言最近的电子工业,特别是在半导体等工业中,随着对部件机能要求的日益提高,在加工领域中必须实现的精度正接近0.01~0.001μm的数量级。为了实现这种高精度加工,当然最根本的就是提高加工机械的旋转及进给运动的精度。在激光反射镜的制作和半导体材料加工领 相似文献