电子束光刻技术与图形数据处理技术

介绍了微纳米加工领域的关键工艺技术——电子束光刻技术与图形数据处理技术,包括:电子束直写技术、电子束邻近效应校正技术、光学曝光系统与电子束曝光系统之间的匹配与混合光刻技术、电子束曝光工艺技术、微光刻图形数据处理与数据转换技术以及电子束邻近效应校正图形数据处理技术。重点推荐应用于电子束光刻的几种常用抗蚀剂的主要工艺条件与参考值,同时推荐了可以在集成电路版图编辑软件L-Edit中方便调用的应用于绘制含有任意角度单元图形和任意函数曲线的复杂图形编辑模块。     

CIF到PG3600格式转换的算法研究

提出了微光刻图形CIF数据格式到PG3600数据格式转换软件新的图形切割算法,该算法将L-EDIT输出的CIF格式中的四种图形当作任意多边形处理,然后把多边形切割成矩形。与其他算法相比较,该算法简单、切割理想、切割后的矩形数据量比其他算法少很多。并以此算法为基础,编制能够运行于Windows操作系统且又能够挂靠在L-EDIT上的数据格式转换软件。     

一种新的电子束曝光机中间图形及其数据格式

在一种新的电子束曝光机二次曲线单元图的基础上定义了一种中间图形数据格式。该数据格式是为了将版图制造业标准数据格式转换为电子束曝光机专用数据格式服务的。它采用Niklans Wirth的表示方法进行定义，消除了二义性。经过实验性的程序验证，它不仅能很好地解决版图制造业标准数据格式不支持二次曲线的问题，而且图形设计人员可以直接以该数据作为标准，进行曝光图形的设计与存储。该数据格式的出现，为二次曲线单元图形在电子束曝光技术中的广泛应用奠定了良好的基础。     

电子束曝光控制软件系统设计与实现

电子束曝光系统作为复杂半导体加工设备,需要功能强健的控制软件系统来保证其正常运行.介绍了具有自主版权的EB(electron beam)writer电子束曝光控制软件系统,它由版图绘制模块、对准控制模块和曝光控制模块组成,利用VC 6.0开发环境实现.实验结果表明.该软件系统可实现微光刻及微纳加工版图的绘制编辑和电子束曝光全过程的控制,且具有可扩展性,特别适用于各种由电子显微镜升级改造的电子束曝光系统.     

电子束曝光数据格式的改进设计与实现

根据中国科学院电工研究所研制的DY-2000型实用化电子束曝光系统对曝光图形数据格式的要求及用户的需要,对原曝光文件格式(EDF)进行了改进,利用VC++6.0开发环境实现了EDF格式文件的图形创建、结构体引用以及文件保存,同时增加了多层图形套刻和邻近效应修正数据处理的功能。实验结果表明,改进后的电子束曝光图形文件格式可满足用户的需求,便于用户新建版图文件,同时也提高了文件传输速度及曝光的效率。     

激光飞动标刻软件研究

介绍了一种能用于生产流水线激光标刻的软件实现方法。该方法对可以用于标刻的常用图形字符对象进行了相应的处理。在常用的Bresenham直接插补算法基础上设计出用于飞动标刻的软件。     

微光刻与微/纳米加工技术

介绍了微电子技术的关键工艺技术——微光刻与微/纳米加工技术,回顾了中国制版光刻与微/纳米加工技术的发展历程与现状,讨论了微光刻与微/纳米加工技术面临的挑战与需要解决的关键技术问题,并介绍了光学光刻分辨率增强技术、下一代光刻技术、可制造性设计技术、纳米结构图形加工技术与纳米CMOS器件研究等问题。近年来,中国科学院微电子研究所通过光学光刻系统的分辨率增强技术(RET),实现亚波长纳米结构图形的制造,并通过应用光学光刻系统和电子束光刻系统之间的匹配与混合光刻技术及纳米结构图形加工技术成功研制了20～50nm CMOS器件和100nm HEMT器件。     

评价任意面型微光学元件制作误差的方法

提出一种可用于评价任意面型微光学元件制作误差的方法.利用泽尼克多项式描述微光学元件面型,针对元件检测过程中的旋转对准偏差,给出泽尼克系数随旋转角度的变化关系;以设计面型和实测面型之间的均方根偏差(RMS)为加工误差的评价指标,根据其相对于旋转角度的依赖曲线,最小的RMS即是加工误差.数值模拟结果表明,该方法可以将旋转对准偏差矫正,从而有效地评价了制作误差.该方法可应用于任意面型微光学元件的研制.     

MOS大规模集成电路的版图图形设计方法

MOS电路的版图图形设计方法,大致可划分为三种:任意布线法、基本单元图形标准化法、PLA设计方法。本文用前三部分分别介绍这三种方法。第四部分对这三种方法进行比较,第五部分介绍复杂逻辑电路版图的总体考虑。     

CIF数据格式转换成PG3600数据格式的新切割算法

为了编制能够运行于Windows操作系统且又能够挂靠在L-EDIT数据格式上的转换软件,提出了一种新的将微光刻图形CIF数据格式转换为PG3600数据格式的图形切割算法———沿边切割法,重点讨论了圆形和多边形切割成矩形的具体算法,并与其它几种常见的切割算法进行了比较,表明该算法对于不规则图形的切割具有明显的优越性。     

系统级芯片设计语言和验证语言的发展

由于微电子技术的迅速发展和系统芯片的出现,包含微处理器和存储器甚至模拟电路和射频电路在内的系统芯片的规模日益庞大,复杂度日益增加。人们用传统的模拟方法难以完成设计验证工作,出现了所谓“验证危机”。为了适应这种形势,电子设计和验证工具正在发生迅速而深刻的变革。现在基于RTL级的设计和验证方法必须向系统级的设计和验证方法过渡,导致了验证语言的出现和标准化,本文将对当前出现的系统级设计和验证语言进行全面综述,并论述验证语言标准化的情况。分析他们的优缺点和发展趋势。最后简单评述当前的验证方法,说明基于断言的验证是结合形式化验证和传统模拟验证可行的途径。     

射频识别系统中通信协议的模块化设计

本文主要介绍了射频识别系统的通信协议处理模块的功能，电子设计自动化及利用第三代EDA工具进行硬件设计。主要介绍利用复杂可编程逻辑器件的设计来实现通信模块。设计过程是用VHDL语言来描述硬件功能，对行为特性的高层次的描述简化了设计过程。     

一种PCB图形化审查的实现方法

针对目前印制板保存格式多样和查错功能不够完善的问题,介绍了一种能读取多种印制板数据文件格式的方法,采用用户自定义规则与基本查错规则相结合对印制板进行审查并且能够直接在图形界面上对PCB板进行纠错,能按指定格式保存修改后的数据.该方法基于通用数据结构,使用多接口读取印制板文件,多出口反写文件,可以使多种EDA工具的印制板进行转换.基于这种方法实现的审查软件结构紧凑、占用磁盘空间少,可以根据个人需要查找印制板设计上的错误,降低设计周期,提高设计效率.     

基于EDA技术的多功能计时器设计

电子设计自动化(EDA)是以计算机为操作平台、以硬件描述语言为设计语言、以可编程器件为实验栽体进行必要的元件建模和系统仿真的电子产品自动化设计过程.运用EDA技术进行电子系统的设计,有着设计快速、调试方便、研制周期短、系统可靠性高等优点,EDA技术是现代电子设计的发展趋势,介绍了基于EDA技术设计多功能计时器的一种方案.设计中采用了自上而下的方法,给出了多功能计时器的结构图和部分仿真结果,结果表明该系统的设计方案正确.     

基于EDA技术的数字电子技术虚拟实验系统探究

文章针对如何提高数字电子技术实验课程的实践性问题,介绍了EDA技术及多种主流EDA设计工具,比较了多种EDA软件实现数字电路的方法和各个软件实现的侧重点。提出了基于EDA技术的虚拟实验系统框架的构建设想,介绍了实验主框架和各个具体实现模块。     

基于虚拟化技术的FPGA开发平台设计

当今集成电路设计与制造流程中,必须使用EDA工具。设计人员在开发IC新产品时使用EDA工具,将极大地降低成本、节省设计时间和提高产品的可靠性。基于虚拟化技术的网络基础架构,设计并实施了自主千万门级FPGA课题产品开发平台。该平台集成了FPGA软件开发环境和集成电路芯片设计环境,利用SVN、SOS版本管理软件和bugzilla缺陷追踪软件,对FPGA软硬件开发流程进行规范化、标准化管理。该平台采用虚拟化技术,有效地降低配置成本、提高管理效率、增加数据安全性。     

Virtual prototyping tools for electronic design automation

Virtual prototyping environments are emerging as a new generation of EDA tools. Such a tool will allow the designer to test interactively complex electronic systems on an enhanced-reality virtual workbench, by concurrently running multidomain (mechanical, electrical, thermal, etc.) what-if experiments. Virtual prototyping will shorten the design cycle, improve the product quality, and reduce the time to market. Advanced computational techniques are needed to reduce the execution time, especially for the field (EM and thermal) models used in these virtual prototyping environments. This article shows how neural networks could be used efficiently for 3D EM field modeling. Neural network models have much better real-time performance than classical numerical EM-field modeling methods, and this is particularly important when the field analysis is coupled with system optimization     

多层PCB设计中EDA仿真技术

提出了基于EDA仿真技术的多层PCB设计方法,借助EDA仿真技术可以使设计者对PCB板的信号完整性以及电源完整性做出更精确的判断。这对于多层PCB板的设计具有实用意义。     

基于C P L D的通用并行接口设计

论述了基于CPLD的通用并行接口设计。在嵌入式系统中采用CPLD具有系统简单、灵活的优点。由于使用EDA工具,在设计过程中直接进行逻辑验证,避免了系统设计过程中可能发生的错误。本设计采用了模块设计的方法,使设计过程简化,并具有设计再利用的性能。     

基于SRAM测试的MBIST电路实现方案

现代SOC电路设计中,存储器特别是SRAM模块的面积占有很大的一部分.通常测试这些存储器采用的方法是通过EDA工具来生成MBIST电路来对SRAM进行测试.然而在没有专门EDA工具的情况下,我们必须手工写电路.本文提供了这一手工MBIST的实现方案,并给出仿真和综合结果.