国内外多晶硅发展近况

介绍了目前国外多晶硅的几大生产特点，指出了国内多晶硅生产及市场存在的主要问题，提出了一些解决办法。     

我国半导体硅材料的发展现状

叙述了我国半导体硅材料的发展现状及国外相比存在的差距，提出了发展我国硅材料的一些建议。     

半导体硅材料最新发展现状

概述了现代微电子工业的发展状况及对半导体硅材料的新要求,叙述了近年来国际半导体多晶硅和单晶硅材料的发展状况与趋势.     

半导体桥多晶硅工艺优化

针对多晶硅淀积工艺对半导体桥性能影响严重的问题,开展多晶硅工艺优化实验,获得多晶硅淀积工艺优化条件,多晶硅半导体桥电阻稳定控制在1±0.07 Ω范围内,达到多晶硅桥的应用要求.     

掺砷多晶硅的热氧化

在ＥＥＰＲＯＭ的研制中，为了研究掺砷多晶硅与单晶硅氧化的相对关系，进行了８００℃湿氧氧化和１０００℃干氧氧化实验，结果表明，经过工艺优化，选择适当的工艺方案，获得了较理想的多晶硅与单晶硅氧化速率比。     

国内外半导体级多晶硅生产技术差距分析

随着我国多晶硅生产技术的不断进步,半导体级多晶硅生产技术水平与国外的整体差距也在不断缩小,并在某些方面可比肩国际一流企业水平。由于国内从事大规模半导体级多晶硅生产技术研究起步较晚,相比于深耕几十年的国外一流企业,在某些细节上依然存在差距,本文主要从技术指标、关键设备材料、生产运营理念等方面分析其存在的差距。     

我国半导体硅材料的发展现状

叙述了我国半导体硅材料的发展现状及与国外相比存在的差距 ,提出了发展我国硅材料的一些建议     

一种单层多晶硅BiCMOS工艺研究

介绍了一种单层多晶硅ＣＭＯＳ工艺。该工艺采用Ｐ型衬底,Ｎ型Ｐ型双埋层,Ｎ型薄外延结构,掺杂多晶硅作为ＣＭＯＳ晶体管栅极和双极ＮＰＮ晶体管的发射极。ＣＭＯＳ晶体管采用源漏自对准结构,钛和铝双层金属作为元件互连线,ＰＥＣＶＤＳｉＮｘ介质作为钝化薄膜。     

多晶硅产业发展浅析

1.世界多晶硅生产及市场发展1.1太阳能电池对多晶硅材料需求量迅速增长近年来,受到硅太阳能电池发展所驱动,多晶硅市场得以迅猛增长;未来的世界多晶硅生产与技术的发展同样也对硅太阳能电池产业的发展会带来深深的影响。     

硅集成电路技术及发展趋势

本文介绍了国际上硅集成电路技术和产品的发展状况,阐述了硅集成电路关键技术及发展趋势。     

与Si 工艺兼容的Si/ SiGe/ Si HBT 研究

我们对Si/SiGe/Si HBT及其Si兼容工艺进行了研究,在研究了一些关键的单项工艺的基础上,提出了五个高速Si/SiGe/Si HBT结构和一个低噪声Si/SiGe/Si HBT结构,并已研制成功台面结构Si/SiGe/Si HBT和低噪声Si/SiGe/Si HBT,为进一步高指标的Si/SiGe/Si HBT的研究建立了基础。     

Si/Si键合结构的电学性质测量及模拟

研究Si／Si键合的电学性质对于界面研究和微电子器件的制备有着重要意义。分析了亲水处理方法键合的不同Si／Si键合结构的I—V特性，然后用SOS模型对n—Si／n—Si的C—V特性做了计算机辅助模拟，并和实际C—V曲线比较得出了平带电压VFB和界面态密度Din，这些结果对于键合的界面性质的了解和研究都是有意义的。     

Si片多线切割技术与设备的发展现状与趋势

介绍了Si片的多线切割宏观切割机理与微观切割机理,指出控制钢线张力减少钢线震动是切割工艺的重要指标。讨论了切割过程主要影响因素,钢线的外包Cu会造成Si片表面金属残留,钢线磨损影响Si片厚度,砂浆喷嘴和线网角度在形成水平薄膜层时能够获得好的表面质量。分析了钢线带动砂浆进行切割的核心工艺,给出了Si片切割工艺理论切片量的计算方法。并简要概括了目前多线切割技术及设备的国内外发展形势和未来发展趋势,指出未来多线切割技术将朝着提高加工精度与加工效率、降低成本、改良切割用钢线这几个方向迈进。     

硅微波功率DMOSFET发展现状

简要地评述了硅微波功率ＤＭＯＳＦＥＴ （ＬＤＭＯＳ, ＶＤＭＯＳ） 的发展概况, 叙述了硅微波功率ＤＭＯＳ的基本结构和一些重要的制造技术。对微波功率ＤＭＯＳ的性能、特点与ＢＪＴ进行了比较, 并对其应用、发展方向及前景进行了探讨。     

硅变容管的发展趋势

总结了硅变容管的发展趋势,离子注入化,电容配对中测化,集成化,低压化,超小型化,片状化和应用广泛化。     

硅超大规模集成电路技术和发展

本文介绍了国际上硅超大规模集成电路技术和产品的发展状况,阐述了硅超大规模集成电路关键技术和产品特点及其发展趋势,对我国集成电路同行将起借鉴作用。     

Si_(1-x)Ge_x材料和双极型器件的进展

Ｓｉ１－ｘＧｅｘ材料具有许多优良的性质,高质量的应变外延层可以把能带工程的概念引入到Ⅳ族器件之中。外延Ｓｉ１－ｘＧｅｘ基区的异质结双极型晶体管（ＨＢＴ）获得了优良的性能,并且,其具有可以同硅工艺兼容的优点,把Ｓｉ１－ｘＧｅｘ同Ｓｉ集成的ＢｉＣＭＯＳ工艺取得了很大的发展,已经达到了工业应用的水平。Ｓｉ１－ｘＧｅｘ工艺的发展,电路速度的提高,也促进了微波集成电路的进步,提高了ＳｉＭＭＩＣ的应用频段。从目前的发展现状来看,已经达到了在射频（ＲＦ）通信中广泛应用的阶段。