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碲镉汞液相外延薄膜生长技术与性能 总被引:1,自引:0,他引:1
用液相外延的方法在CdZnTe衬底上生长Hg1-xCdxTe材料,获得了表面形貌好,位错密度低,组份均匀的碲匐汞外延材料,生长工艺对材料的参数控制有较好重复性,外延材料经热处理后,材料的P型和N型电学参数都达到较好的水平,并具有良好的可重复性。 相似文献
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报道了用MBE的方法,在ZnCdTe衬底上制备Hg1-xCdxTe薄膜的位错密度的研究结果.研究发现Hg1-xCdxTe材料的位错密度与ZnCdTe衬底的表面晶体损伤、Hg1-xCdxTe生长条件以及材料组分密切相关.通过衬底制备以及生长条件的优化,在ZnCdTe衬底上生长的长波Hg1-xCdxTe材料EPD平均值达到4.2×105cm-2,标准差为3.5×105cm-2,接近ZnCdTe衬底的位错极限.可重复性良好,材料位错合格率为73.7%,可满足高性能Hg1-xCdxTe焦平面探测器对材料位错密度的要求. 相似文献
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报道了碲镉汞p+-on-n长波双层异质结材料和异质结台面器件的研究结果,重点研究了p+-on-n型双层异质结材料制备技术。通过水平滑舟富碲液相外延生长的方法在碲锌镉衬底上原位生长In掺杂碲镉汞n型吸收层材料,然后再采用富汞垂直液相外延技术制备p型As原位掺杂的碲镉汞cap层材料,从而获得p+-on-n型双层异质结材料,并通过湿法腐蚀、台面刻蚀以及钝化等工艺得到碲镉汞 p+-on-n长波异质结台面型器件。p+-on-n异质结器件结构可以有效克服少子寿命偏低等问题,在长波及甚长波波段具有更低的暗电流和更高的R0A值,这对于解决目前长波碲镉汞红外探测器暗电流大、结阻抗低的问题,提高长波及甚长波波段碲镉汞红外焦平面器件的性能具有重要的意义。 相似文献
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32×32碲镉汞长波焦平面器件的研制王戎兴(上海技术物理研究所上海200083)1992年起,我们在前几年工作的基础上,为提高器件性能,在面阵器件工艺、混成互连等主要工艺技术继续进行深入的研究,取得了明显的进展。1992年,在研制成功32×32长波M... 相似文献
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推拉型有机化合物的非线性特性研究 总被引:3,自引:0,他引:3
合成一种新的推拉型偶氮化合物并将掺入PMMA中制成光学薄膜器件,用Z扫描技术测量了该材料的非线性折射率,用DFWM装置研究了该材料在可见光长波区光存储特性,获得了良好的实时和短时存储信息,存储功率密度小于0.1W/cm^2。分析了这种非共振吸收区光存储机理。 相似文献
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非本征p 型掺杂碲镉汞材料可以有效克服少子寿命偏低等问题,提高长波和甚长波红外焦平面器件的性能。本文重点阐述了As 掺杂实现p型掺杂的基础性原理,以及其制备方法,为p-on-n碲镉汞材料器件研究提供依据。 相似文献