Ga δ掺杂ZnSe超晶格的稳恒光电导效应

通过直接测量激光照射前后电阻随温度的变化关系,研究了Ga δ掺杂ZnSe超晶格的稳恒光电导效应。被研究的两块样品都显示了稳恒光电导效应,其中一块样品稳恒光电导的淬灭温度为120K,另一块样品的淬灭温度接近290K。描述了对这类超晶格稳恒光电导现象的测量结果,讨论了掺杂过程对光电导淬灭温度的影响。     

掺Ge ZnSe的稳恒光电导及其局域性效应

在一定的温度以下,某些半导体材料的光电导效应在激发光源撤去以后会持久地保持下去,当温度升高超过这个温度(称为淬变温度)以后,这种持续的光电导现象会消除,称为稳恒光电导现象.而且这种光电导效应具有很强的局域性.采用电学测量方法,通过测量激光照射前后电导率随温度的变化研究了掺Ge的ZnSe的稳恒光电导效应,结果发现淬变温度高达210K的稳恒光电导效应.并通过研究光电阻随光照位置变化的趋势研究了这种光电导的局域性特性,结果发现在淬变温度以上局域性随稳恒光电导消失而消失.     

掺GeZnSe的稳恒光电导及其局域性效应

在一定的温度以下 ,某些半导体材料的光电导效应在激发光源撤去以后会持久地保持下去 ,当温度升高超过这个温度 (称为淬变温度 )以后 ,这种持续的光电导现象会消除 ,称为稳恒光电导现象 .而且这种光电导效应具有很强的局域性 .采用电学测量方法 ,通过测量激光照射前后电导率随温度的变化研究了掺 Ge的 Zn Se的稳恒光电导效应 ,结果发现淬变温度高达 2 1 0 K的稳恒光电导效应 .并通过研究光电阻随光照位置变化的趋势研究了这种光电导的局域性特性 ,结果发现在淬变温度以上局域性随稳恒光电导消失而消失     

超晶格雪崩光电二极管

已经提出了几种可以提高载流子离化率比的超晶格雪崩光电管:量子阱雪崩光电管、台阶型雪崩光电管和掺杂量子阱雪崩光电管。这几种器件都主要是利用异质界面带隙突变导致的电子离化几率相对于空穴离化几率的显著增大,从而可以获得低的雪崩噪声和高的增益—带宽乘积。本文概述了这几种器件的结构、工作原理以及结构参量对器件性能的影响。     

δ掺杂GaAs超晶格的辐射跃迁

低温下观察了弱耦合δ掺杂ＧａＡｓ超晶格的辐射复合发光．实验结果表明：除观察到基态的复合发光外,还观察到激发态的复合发光．基于有效质量近似理论,计算了能带结构和发光光谱,理论结果与实验结果符合得很好．     

超晶格雪崩光电二极管

报道了超晶格雪崩光电二极管的工作原理,结构,特性及其制造工艺。     

超晶格雪崩光电二极管

报道了超晶格雪崩光电二极管的工作原理、结构、特性及其制造工艺。     

电脉冲下ZnSe LD受激发射

用光助,低压MOCVD方法获得p-ZnSe,p-ZnSSe受主浓度为3×10     

Zn_(1-x)Cd_xSe/ZnSe量子限制Stark效应光调制器

研究了Ｚｎ１－ｘＣｄｘＳｅ／ＺｎＳｅ多量子阱Ｓｔａｒｋ效应光调制器的研制及其在室温下的光学特性,包括透射谱、反射谱以及在不同外场作用下的微分透射谱和微分反射谱,指出了这类调制器目前可以达到的调制幅度,及可能的应用前景．     

Spectroscopic ellipsometry of intentionally disordered superlattices

We characterized the electronic properties of ordered and intentionally disordered GaAs-Al_xGa_1−xAs superlattices, with and without dimer-type correlations in the disorder, by means of spectroscopic ellipsometry in the near band-edge region. The spectra have been compared to the calculate electronic structure. The optical transitions in the various superlattices show specific features related to their different electronic structure.     

Heavy Cr doping of ZnSe by molecular beam epitaxy

Epitaxial ZnSe layers were grown by molecular beam epitaxy (MBE) to study Cr incorporation with the long-term goal of demonstrating an alternate route for achieving transition-metal-doped lasers. Concentrations between 10¹⁵ atoms cm⁻³ and 4×10²⁰ atoms cm⁻³ were achieved. Secondary ion-mass spectroscopy (SIMS) concentration profiles strongly suggest that surface segregation and accumulation of Cr occurs during growth. Photoluminescence (PL) measurements indicate Cr is incorporated in the optically active Cr²⁺ state up to levels of ∼10¹⁹ cm⁻³. Electron paramagnetic resonance (EPR) studies suggest that the Cr atoms exhibit collective magnetic behavior even at these levels. X-ray diffraction (XRD) and reflection high-energy electron diffraction (RHEED) indicate high structural quality is maintained for Cr incorporation for levels up to ∼10¹⁹ atoms cm⁻³.     

HD Photo的码率控制算法研究

HD Photo是微软公司开发的一种新颖的静止图像压缩算法和文件格式,并已通过JPEG组织提案,代号为JPEG XR,有望成为新的国际图像标准,其压缩性能堪比JPEG2000,计算复杂度却要低得多.然而,在目前公开的支持HD Photo的软件中,尚无一提供精确码率控制的功能.鉴于此,根据HD Photo格式的特性,提出了一种有效的基于二次R-D模型和线性回归预测的码率控制算法.实验证明,该算法能精确地控制图像的压缩大小,并且使图像质量接近于现有的DPK软件.     

光电双基区晶体管中的光控电流开关效应

光电双基区晶体管体在光电混合模式工作条件下具有光控“Ｓ”型负阻特及其光控电流开关效应。测量了光照时ＩＢＥ－ＶＢＥ特性,Ｉｔｈ－Ｒｃ特性等曲线。并利用用电注入双基区晶体管的“Ｓ”型负阻产生机理解释了测得的结果。     

掺氮ZnSe外延层的光致发光研究

报导了掺氮ＺｎＳｅ外延层的光致发光,研究了与氮受主有关的发光峰随温度和激发强度的变化关系．１０Ｋ下施主－受主对发光峰随激发强度的增加向高能方向移动,且峰强呈现饱和趋势．在１０～３００Ｋ温度范围光致发光谱表明,随着温度增加,由于激子在受主束缚激子态和施主束缚激子态之间转移,施主束缚激子发光峰强度相对受主束缚激子发光峰强度增加     

光助MOCVD生长p—ZnSe及ZnSep—n结室温蓝色电致发光

用光助低压ＭＯＣＶＤ进行ＺｎＳｅ及ＺｎＳｅ：Ｎ外延层生长，由发光光谱表明，在光助下生长的本征ＺｎＳｅ外延膜具有高质量：ＺｎＳｅ：Ｎ外延层中与Ｎ有关的深中心发射得到有效抑止，其ｐ－ＺｎＳｅ受主载流子深度达３×１０＾１７ｃｍ＾－３。在制备ｎ－ＺｎＳｅ／ＺｎＣｄＳｅ－ＺｎＳｅＱＷ／ｐ－ＺｎＳｅ结构中，在室温下观测到该二极管电脉冲下的蓝色电致发光（ＥＬ）。     

Fabrication of Organic/Polymeric Superlattice Structure and Its Use for Electroluminescent Device

ＦａｂｒｉｃａｔｉｏｎｏｆＯｒｇａｎｉｃ／ＰｏｌｙｍｅｒｉｃＳｕｐｅｒｌａｔｉｃｅＳｔｒｕｃｔｕｒｅａｎｄＩｔｓＵｓｅｆｏｒＥｌｅｃｔｒｏｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｔＤｅｖｉｃｅ①②ＣＨＥＮＢａｉｊｕｎ，ＨＯＵＪｉｎｇｙｉｎｇ，ＨＵＡＮＧＪｉｎｇｓｏｎｇ，...     

GaAs/Al_xGa_(1-x)As超晶格中的纵光学声子模

本文报道GaAs/Al_xGa_(1-x)As短周期超晶格结构中的纵光学声子模的室温Raman散射测量结果。除了限制在GaAs层中的GaAs LO限制模外,我们还首次观测到限制在Al_xGa_(1-x)As混晶层中的类AlAs LO限制模。根据线性链模型,我们把测量到的LO限制模的频率按照q=m/(n+1)(a_0/(2π))展开,给出了Al_xGa_(1-x)As混晶的类AlAs LO声子色散曲线。