共查询到20条相似文献,搜索用时 203 毫秒
1.
用显微维氏硬度计、金相显微镜(OM)、X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)和透射电子显微镜(TEM)研究分析了Mg-10.33wt.%Al-1.26wt.%Zn合金固溶后的时效硬化规律。实验结果表明AZ91(Mg-9wt.%Al-1wt.%Zn-0.2wt.%Mn)合金添加少量的Al后固溶强化和时效强化效果均有显著提高。实验的时效硬度曲线表明:固溶处理后的Mg-10.33wt.%Al-1.26wt.%Zn合金在473K时效10 h获得最佳时效强化效果。经过分析,进一步证实Mg-10.33wt.%Al-1.26wt.%Zn合金固溶后时效过程中单位体积内的连续析出相γ-Mg17Al12相颗粒的数目(Nv)越大,样品的显微硬度值越高。 相似文献
2.
采用激光增材制造技术制备了铝锂合金板材,分析了铝锂合金在热处理过程中析出相的演变及力学性能的变化。结果表明,沉积态铝锂合金主要由α(Al)基体和TB(Al7Cu4Li)相组成,晶界处存在少量富铜相;退火后,TB相更加均匀密集地分布在晶粒内部,富铜相基本溶解,晶界处存在少量Al-Cu-Fe杂质相;固溶淬火后,TB相固溶到基体中,晶内存在少量δ′(Al3Li)相;时效后,主要弥散析出θ′(Al2Cu)和σ(Al5Cu6Mg2)相。热处理后铝锂合金的显微硬度、抗拉强度比沉积态的分别提高了47.6%和87.7%。 相似文献
3.
4.
5.
Mg/Si含量比值对Al-Mg-Si合金析出行为的影响 总被引:1,自引:0,他引:1
采用显微硬度计、扫描电子显微镜(SEM)、高分辨透射电子显微镜(HRTEM)及能谱仪,研究了不同Mg/Si含量比的Al-Mg-Si合金在不同时效温度下的时效析出行为.合金为Mg含量相同,Mg/Si摩尔比接近2.0、1.0和0.5的三种A、B和C合金(合金总含量依次增多).结果表明:Mg/Si含量比对析出动力学有很大影响,温度越高Mg/Si摩尔比对时效动力学影响越大.SEM分析表明:Si含量越高的合金,晶界析出相越连续且尺寸越大,并有一定的晶界无析出带.HRTEM分析表明:过时效阶段,β′相的形成跟Mg/Si比和温度有关;两种时效温度下,在A合金中均析出β′相;而B和C合金在180℃时效主要析出β″相,250℃时效时,B合金中易形成TypeB相,C合金可析出TypeA、TypeB和TypeC三种相. 相似文献
6.
7.
自然时效和Cu含量对AlMgSi(Cu)合金时效硬化行为的影响 总被引:1,自引:1,他引:0
利用硬度测试和透射电子显微镜观察,对Cu含量分别为0.0%、0.15%、0.8%(wt.%)的AlMgSi合金进行了较系统地显微组织结构和时效硬化行为研究。热处理状态为固溶淬火后直接180℃人工时效及固溶淬火后自然时效两周再180℃人工时效。结果表明:添加Cu可以抑制自然时效对180℃人工时效硬度峰值的负面作用;与固溶淬火后先自然时效两周再180℃人工时效峰值样品比较,固溶淬火后直接180℃人工时效峰值样品中针状析出相的数量密度较大;含0.15%Cu的合金峰值时效样品中只观察到β″析出相,而含0.8%Cu的合金峰值时效样品中观察到β″和Q″析出相;与不含Cu和含0.15%Cu的合金比较,含0.8%Cu的合金时效峰值出现时间延迟。这种现象与Q″相的析出有关,因为析出Q″相需要额外的时效时间。 相似文献
8.
采用X射线衍射仪(XRD)和附带能谱仪(EDAX)的扫描透射电子显微镜(STEM)对Al-4.6Zn-0.9Mg合金三级时效工艺过程中强化相析出行为进行了系统研究。结果表明,100℃单级时效合金强度优于120℃单级时效;三级时效的再时效过程中,由于二级时效温度不同,合金内析出相的种类、尺寸及分布有显著差异;多级时效过程中如果二级时效温度位于300℃~400℃之间,第一级时效形成的析出相会溶解,且在再时效前期合金元素在晶界处显著偏聚,尽管在该回归温度区间内时效,很多析出相会溶解,但其中的合金元素并没有完全扩散开,依然留下了某种成份偏聚。这些偏聚的原子集团不能在后续再时效过程中重新形成GPII区。这使得再时效时析出相成核数量很少但粗化速度非常快,材料强度偏低。 相似文献
9.
FANG Lei ZHAO Xin-qi CHEN Jiang-hua LIU Ji-zi YANG Xiu-bo LIU Ping MING Wen-quan WU Cui-lan 《电子显微学报》2012,31(3)
采用X射线衍射仪(XRD)和附带能谱仪(EDAX)的扫描透射电子显微镜(STEM)对Al-4.6Zn-0.9Mg合金三级时效工艺过程中强化相析出行为进行了系统研究.结果表明,100℃单级时效合金强度优于120℃单级时效;三级时效的再时效过程中,由于二级时效温度不同,合金内析出相的种类、尺寸及分布有显著差异;多级时效过程中如果二级时效温度位于300℃~400℃之间,第一级时效形成的析出相会溶解,且在再时效前期合金元素在晶界处显著偏聚,尽管在该回归温度区间内时效,很多析出相会溶解,但其中的合金元素并没有完全扩散开,依然留下了某种成份偏聚.这些偏聚的原子集团不能在后续再时效过程中重新形成GPⅡ区.这使得再时效时析出相成核数量很少但粗化速度非常快,材料强度偏低. 相似文献
10.
李万鹏刘翠秀陈斌毕建军孙威 《电子显微学报》2018,(6):563-570
本文综合利用电子显微镜表征手段对冷轧后时效处理Mg-4Y-3Nd(wt.%)合金中[1102](1101)共格孪晶界面的稀土溶质原子偏聚行为进行研究,发现在经423 K+5 h时效后,合金中Nd元素在孪晶界面存在明显的偏聚析出,而Y元素的偏聚则并不明显。这表明镁合金中固溶的Nd原子相较Y原子具有更高的扩散速率和向{1011}孪晶界偏聚析出的驱动力。另外,本实验还揭示了相较于共格孪晶界面,孪晶界面上存在的孪晶台阶具有较大的晶格错配,稀土溶质原子优先选择在孪晶台阶处偏聚。 相似文献
11.
12.
13.
14.
冷轧无取向硅钢再结晶退火过程的EBSD分析 总被引:4,自引:2,他引:2
采用EBSD手段分析了低碳低硅(0.003%C、0.3%Si)冷轧硅钢试样在740℃加热保温6s~360s退火过程中微区取向的演变规律。结果表明:{111}〈110〉取向的再结晶晶粒在变形的{111}〈112〉取向晶粒的晶界处形核,同时{111}〈112〉取向的再结晶晶粒在变形的{111}〈110〉取向晶粒的晶界处形核,并在{111}〈112〉取向冷轧剪切带上形成{011}〈100〉取向再结晶晶粒。在一定的退火温度下,合理控制保温时间有利于提高{100}面织构的占有率。 相似文献
15.
本文采用SEM和EBSD等显微分析技术研究了一种N80油套管调质处理(Q&T)前后焊缝组织的演变规律。实验结果表明,经调质处理N80套管焊缝中心区的{101}〈101〉织构明显增强,而热影响区从较弱的{101}〈101〉织构变为较强的近{111}〈101〉织构。并且,焊缝和热影响区组织中取向差角小于10°的小角度晶界和大于50°的大角度晶界数量显著增加,而介于10°-50°之间的晶界数量下降。调质处理前焊缝和热影响区中晶粒尺寸分布较为均匀,而调质处理后主要以小尺寸晶粒为主。 相似文献
16.
17.
18.
19.
B. Kaouache P. Gergaud O. Thomas O. Bostrom M. Legros 《Microelectronic Engineering》2003,70(2-4):447-454
Thermal cycles have been performed both outside and inside a transmission electron microscope (TEM) in order to analyze the evolution of the microstructure of Al, 0.5% Cu, 1% Si thin films deposited onto oxidized Si substrates. It is shown that grain growth and dislocation activity start almost simultaneously and cooperate throughout the plastic regime of the stress–temperature curve to generate bamboo-type grains with low dislocation density. Si precipitates serve as anchoring points for dislocations and grain boundaries. Thermal cycling and diffusion cause the growth of these precipitates and a diminution of their number. Diffusion also proves to play an important role regarding plastic relaxation at the Al/SiOx interface and at the grain boundaries where an intense hillock and whisker formation has been observed in scanning electron microscope (SEM). The stress–temperature evolution is discussed in light of these observations. 相似文献
20.
本文采用高分辨透射电子显微技术对在Si衬底生长的GaN基多量子阱外延材料的位错特征、外延层与衬底的晶体取向关系及界面的结晶形态等微观结构进行了分析和研究.结果表明:Si衬底生长的GaN与衬底有一定的取向关系;材料在MQW附近的穿透位错密度达108 cm-2量级,且多数为刃型位错;样品A的多量子阱下方可见平行于界面方向的... 相似文献