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半导体器件正以惊人的速度向前发展,新的微波晶体管、大规模集成电路等已经批量生产。随着半导体器件性能的提高,为了使在硅片上刻出的图形更小,要求光刻精度更加严格并需进一步减少光刻缺陷。这就促进了光致抗蚀剂的发展。下面把新的抗蚀剂作一简要介绍。 1.合成胶系光致抗蚀剂在半导体器件光刻时应用的抗蚀剂中,负性橡胶系抗蚀剂有KMER和KTFR。聚肉桂酸乙烯树脂系抗蚀剂有KPR和KPL等。正性的有AZl350等,各种抗蚀剂的性能列于表1。 相似文献
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用聚丙烯酰胺、调节剂、苯酚和交联剂、地层水配制了一种弱凝胶调剖剂,并对合成条件进行了筛选。测定了成胶时间、成胶强度和堵剂的封堵率。结果表明:最佳配方为聚丙烯酰胺浓度为0.4%,苯酚和交联剂的浓度为0.6%-1.2%,调节剂含量为0.5%-0.7%,堵剂封堵率均在97%以上。通过控制各组分的含量和比例,成胶时间可控,成胶强度可调,完全满足现场施工需要,是一种性能优良的调剖剂。 相似文献
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以巯基乙酸(TGA)为配位剂合成了水溶性CdSe量子点,研究了反应时间、溶液pH值及前驱体溶液中镉元素与硒元素的摩尔比对量子点光学性能的影响。以L-半胱氨酸(L-cys)、巯基乙酸和巯基乙胺(CA)为配位剂在优化的pH值条件下合成了系列水溶性量子点,研究了配位剂的种类对量子点光学性能的影响。结果表明:当以TGA为配位剂时,反应条件对量子点的粒径分布及光学性能有重要的影响;为获得粒径分布窄的量子点溶液,宜采用的最佳反应条件为pH值为10~12,Se与Cd的摩尔配比为2∶3,量子点的粒径随时间延长而增大;此外,利用不同的配位剂可有效改变水溶性量子点的表面物理化学特性,且量子点的尺寸大小因所用配位剂不同依以下顺序递减:巯基乙酸L-半胱氨酸巯基乙胺。 相似文献
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合成了硅芴与芴的共聚物。系统研究了该新型共轭聚合物的溶解性、热稳定性、电化学性能、光物理性能和电致发光性能等。研究发现,无规嵌入少量具有高能隙、低LUMO能量的硅芴单元到聚芴主链中可有效调控聚合物的光电性能。 相似文献
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近年来,人脸语音动画的研究成为了一个热点.在人脸动画中,嘴唇的特征提取显得尤为重要.文章提出了基于主成分分析(PCA)法的口形全局纹理特征的表达方法,并在此基础上运用对初始值不敏感的K调和均值(KHM)聚类算法对研究中所用到的538个唇图像样本进行聚类,以便于语音唇动合成研究中建立语音特征与唇特征之间的映射关系.实验表明文章提出的方法既保存了唇动过程中的嘴部二维形状信息,又避免了由于特征点提取不准而对唇动合成产生的影响,同时运用KHM聚类算法使得聚类结果不受初始选取的影响,聚类更加准确,有利于人脸语音动画的研究. 相似文献