防近红外侦视的伪装涂料研究现状与展望

简要综述了防近红外侦视伪装涂料的研究历史，伪装原理，涂料类型及国内外研究现状，并展望了该类涂料在服装，野营装备方面的应用前景。     

红外伪装涂覆技术及应用

在高科技战争中，随着侦察，监视技术的发展，必然导致伪装与隐身技术的发展，作为隐身主要的手段，伪装涂料可以有效地对抗可见光，近红外、微光夜视仪的侦察，本文主要针对红外迷彩伪装技术的原理和实际应用做了详细的介绍，并指出复合隐身材料的研制与发展是红外伪装的发展趋势。     

浅谈近红外伪装技术的发展现状及趋势

近红外伪装技术在现代化战争中的重要性日益凸显。在阐述其原理的基础上,研究了近红外伪装技术的主要方式,包括近红外伪装涂料和近红外伪装染料。分析了近红外伪装技术未来的发展趋势,如完善现有技术缺陷、开发多功能伪装技术、提升伪装效果评价能力以及追求伪装效果与环境保护并重等。     

绿色伪装涂料可见光和近红外反射率的探讨

绿色伪装涂料主要用于模拟背景中的绿色植物,其在可见光和近红外波段反射率的大小应与绿色植物在该波段内反射率的大小相同或接近.在明暗两种背景下对植物绿叶的反射率进行了实际测量,通过实验研究和理论分析表明,绿色植物在可见光和近红外的有效反射率与其实际反射率、透射率以及背景的反射率均有关,因而在绿色伪装涂料的研制过程中,必须对这些因素进行综合考虑.所得到的结论对绿色伪装涂料的研制具有一定的参考价值.     

红外伪装降温涂料原理研究

就红外伪装涂料和降温涂料的设计原理进行了讨论，并结合地面大型军事目标对现有的红外伪装涂料伪装效果进行了研究，从理论上提出了新的红外伪装降温涂料的设计原理。     

红外迷彩伪装涂料发射率对目标伪装效率的影响

伪装效率是衡量涂料的红外伪装效果的重要指标，它取决于涂料本身的红外发射率、特定的环境背景和气候条件等多种因素。在一种典型的南方草地背景下，随着阳光辐射和昼夜环境温度的变化，研究了不同发射率涂料样品的红外伪装效率；并对不同发射率的样品进行组合，研究比较复杂的红外迷彩伪装目标的伪装效率，在此基础上，讨论了发射率对红外迷彩伪装目标的伪装效率的影响。     

双波段红外反隐身技术研究

本文详细分析了气象和环境因素对不同发射率的目标表面辐射温度的影响，得出了有关公式并进行了计算机仿真分析。结果表明，采用低发射率涂料可以有效地对付单一波段的红外热成象系统的侦察，但双波段红外热成象系统结合简单的图象处理技术可以成功地揭露这种方式的伪装。     

降温涂料在红外隐身中的应用

本文介绍了降温涂料的作用原理,并对大型军事目标的红外伪装方法作了阐述。结合降温涂料在红外伪装中的应用研究,从理论上提出了降温涂料的改进方法。     

低发射率伪装涂料的研究现状与发展方向

从低发射率伪装涂料研究的必要性出发，从构成低发射率涂料的各种填料、胶结剂以及涂层结构等方面对其研究现状与局限性作了介绍。并在此基础上对低发射率伪装涂料的发展方向提出了设想。     

伪装涂料红外偏振特性的实验研究

以喷涂伪装涂料和普通涂料的金属目标板作为研究对象,利用红外偏振成像系统获取目标的红外偏振图像,提取并分析了图像中目标的偏振信息,并将这些信息与目标的红外强度信息进行了对比.试验结果表明,通过红外偏振成像方法可以有效地减弱伪装涂料在红外波段的隐身能力.     

Ni基合金/45#钢宽、窄带熔覆Co基合金的组织

利用 5kWCO2 激光器在Ni基铸造高温合金 4 5 #钢基体上宽带、窄带激光熔覆了H¨ogan¨as钴基合金 ,制备了无缺陷的涂层。用金相显微镜、扫描电镜和X射线衍射仪对比分析了熔覆层的显微组织特征和相结构。结果显示 ,熔覆层均为由初生相γ Co枝晶和γ Co +Cr2 3C6 共晶组成。宽带熔覆层界面为垂直于界面生长 ,窄带熔覆层界面结晶方向受热流控制 ,为多方向结晶。 4 5 #钢熔覆层界面具有明显的白亮过渡层且宽带熔覆比窄带宽 ;Ni基合金熔覆层界面区很宽且不规则 ,无白亮色过渡层。沿熔覆层中心线的纵截面取样可见平行生长的枝晶     

钒氮合金对激光熔覆钴基合金涂层组织和耐磨性的影响

利用5 kW CO2连续激光,在低碳钢表面熔覆钴基合金和添加钒氮合金的钴基合金涂层.采用光学显微镜(OP)、扫描电子显微镜(SEM)、透射电子显微镜(TEM)和X射线衍射仪(XRD)研究了熔覆层的显微组织和相结构;利用显微硬度计及滑动磨损试验机测试了熔覆层的硬度和抗磨损性能.结果表明,Co基合金涂层主要组成相为γ-Co与碳化物Cr23C6;加入钒氮合金后,出现了σ-FeV和VN等相,涂层凝固组织明显细化,熔覆层硬度提高,凡界面处硬度均比表层高;熔覆层的耐磨性随钒氮合金的加入及激光扫描速度的增加而提高,同时对熔覆层的磨损机制进行了分析.     

Rapid method for testing efficacy of nano-engineered coatings for mitigating tin whisker growth

The risk of failure of electronic components due to tin (Sn) whiskers growth has become an issue with the current regulations limiting the use of lead in Sn solders. New strategies using engineered coatings for mitigating Sn whiskers are being developed. Typically, these coatings are evaluated by an aging process where whiskers are allowed to grow naturally. Unfortunately, this process can produce unreliable growth results and can take several years. Thus, faster, more reliable methods are needed. In this study, a simple, rapid (3–10 days), and cost-effective method was developed for testing the efficacy of nano-engineered coatings for mitigating the growth of Sn whiskers. This method consisted of a micro-indentation process using a ball-bearing adhered to a few hundred gram weight, which are placed in a stabilizing printed holder. For uncoated samples, Sn whiskers and hillocks were abundant near the indentation area, while only hillocks were found further outside the area (i.e., >0.2 mm). For samples coated with nano-engineered ceramic or polymeric coatings, the indentation method was observed to damage coatings only at the point of contact (e.g., no delamination), while still allowing Sn whiskers and hillocks to grow outside the indentation area.     

激光熔覆HA生物陶瓷梯度涂层的微观组织结构

利用激光熔覆的方法在纯钛表面制备了羟基磷灰石(HA)生物陶瓷梯度涂层，通过电子探针和X射线衍射仪(XRD)对不同工艺参数下制备的涂层进行了微观组织观察和物相分析。实验结果表明，当激光功率为600W，扫描速度为3．5mm／s时，在纯钛表面可获得组织致密结合形态好的HA生物陶瓷梯度涂层，涂层的组织为胞枝晶和枝状晶，与人体骨组织的结构相似，主要由生物活性较好的HA相以及α—Ca2P2O7，Ca2(PO4)2等钙磷相组成，涂层下部的Ca，P的原子比例与HA中的Ca，P的原子比例相当，涂层表面因P的丢失而使其比例略高。随着功率的提高，涂层组织出现了少量的微孔，微孔的出现有利于骨组织在其上面植入生长，但涂层中Ca，P的原子比例升高，涂层的生物活性降低。随着扫描速度的加快，涂层熔化不充分，组织疏松，强度降低，影响了其使用。     

近阈值能量密度下薄膜的激光损伤特点

采用毫米量级大光斑的近单模的激光器 ,控制入射薄膜表面的激光能量 ,获得了几种常见单层膜和增透膜的损伤形貌 ,实验结果表明 ,薄膜的损伤可区分为熔化型和应力型两种 ,薄膜表面等离子体对损伤斑点的扩大有重要作用。     

激光气相化学诱导掺杂制作超薄结硅光电池及其参数研究

用XeCl准分子激光作光源,以BBr_3为工作物质,在n型硅片表面进行激光气相化学诱导掺杂硼,制作太阳电池。获得的PN结表面最大掺杂浓度为1.2×10~(21)B~+/cm~3;在10~(17)B~+/cm~3处的结深为0.08μm;未镀增透膜的光电转换效率为9.5％。     

近阈值能量密度下薄膜的激光损伤特点

采用毫米量级大光斑的近单模的激光器,控制入射薄膜表面的激光能量,获得了几种常见单层膜和增透膜的损伤形貌,实验结果表明,薄膜的损伤可区分为熔化型和应力型两种,薄膜表面等离子体对损伤斑点的扩大有重要作用。     

Triangular Elastomeric Stamps for Optical Applications: Near‐Field Phase Shift Photolithography, 3D Proximity Field Patterning,Embossed Antireflective Coatings,and SERS Sensing

The use of a decal transfer lithography technique to fabricate elastomeric stamps with triangular cross‐sections, specifically triangular prisms and cones, is described. These stamps are used in demonstrations for several prototypical optical applications, including the fabrication of multiheight 3D photoresist patterns with near zero‐width features using near‐field phase shift lithography, fabrication of periodic porous polymer structures by maskless proximity field nanopatterning, embossing thin‐film antireflection coatings for improved device performance, and efficient fabrication of substrates for surface‐enhanced Raman spectroscopic sensing. The applications illustrate the utility of the triangular poly(dimethylsiloxane) decals for a wide variety of optics‐centric applications, particularly those that exploit the ability of the designed geometries and materials combinations to manipulate light–matter interactions in a predictable and controllable manner.     

IF钢表面激光熔覆Co基合金/SiCp涂层的研究

采用5kWCO2激光器在IF钢表面激光熔覆CoCrWNiSi合金/SiCp陶瓷涂层。利用光学显微镜、扫描电镜、X射线衍射仪分析了熔覆层的相结构和凝固组织特征。对熔覆层的耐磨性进行了试验。结果表明,熔覆层细小均匀,与基体搭接处为平面、胞状晶,表层为细密的枝晶。熔覆层的相结构为γ-Co及Si2W,CoWSi,Cr3Si,CoSi2等相。SiC的加入提高了熔覆层的耐磨性。     

Near-100% Quantum Efficiency of Delta Doped Large-Format UV-NIR Silicon Imagers

We have demonstrated a back surface process for back-illuminated high-purity p-channel charge-coupled devices (CCDs), enabling broadband coverage from the ultraviolet to near infrared (NIR). The process consists of the formation of a delta layer followed by a double layer antireflection (AR) coating. The process is performed below 450 $^{circ}hbox{C}$ and is applied to fully fabricated CCDs with aluminum metallization. The delta doping process was demonstrated on 1 k $ times$ 1 k and 2 k $times$ 4 k CCDs, which were found to exhibit low dark current and near reflection-limited quantum efficiency. Two broadband AR coatings were developed to cover the UV-visible and visible-NIR bands. These coatings consist of a double layer of $hbox{Si}_{x}hbox{N}_{y}$ and $hbox{SiO}_{x}$ deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition onto the back surface of a delta doped CCD. The thicknesses of the coating layers are adjusted for the desired bandpass.