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1.
本文报道了Si/Si1-xGex应变层异质结双极晶体管(HBT)交直流特性的仿真结果.通过用叠代法求漂移-扩散方程的数值解,确定器件的直流特性.再利用瞬态激励法,求解器件的交流特性参数.将基区Ge摩尔含量x为0.2、0.31的HBT的模拟结果分别与有关文献报道的实验结果进行了比较,两者的结果符合良好 相似文献
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GexSi1-x合金基区异质结晶体管模拟器——GSHBT 总被引:1,自引:0,他引:1
基于有限差分法开发了一个GexSi-x合金基区异质结晶体管(GexSi-xHBT)模拟器GSHBT。通过解释一组输入语句,GSHBT可模拟任意掺杂分布和锗分布的GexSi-xHBT的直流特性、频率特性和器件的内部图像。文中描述了GSHBT的特点和使用方法,阐述了进行器件特性分析的数值方法,并给出了应用实例。 相似文献
3.
本文介绍了在电阻率为(77~300)kΩ·cm的n型(111)Si衬底上用LPE法生长高质量Si1-XGex单晶薄层(其厚度一般为1~3μm)的生长条件,并对引入的缺陷进行了TEM研究,结果表明其缺陷密度和用MBE及超高真空CVD法生长的同样厚度和组分的Si1-xGex薄层的缺陷密度相等甚至更低.霍尔迁移率μH与温度有μH∝Tm的关系,(在T=80~300K时,m=-0.95).当x>0.85时,μH的测量值和由Krishnamurthy计算的理论值相符,x<0.85,测量值仅为理论值的70%.由Bi杂质 相似文献
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应变Si—xGex/Si异质结材料的GSMBE生长及X射线双晶衍射研究 总被引:1,自引:1,他引:0
用GSMBE技术在国内首次研究了应变Si1-x Gex/Si异质结材料的生长,并用X射线双晶线双晶衍射技术对样品进行了测试分析,对于Si0.91Ge0.09和Si0.86Ge0.14单层,其半宽度FWHM分别为100〃和202〃,对于Si0.89Ge0.11/Si多量子阱,其卫星峰多达15个以上,三种样品中的GeSi外延层干涉条纹清晰可见,结果表明,用GSMBE技术生长的Si-xGex/Si异质结 相似文献
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给出了适用于分析复杂结构HBT的电荷传输延迟时间及截止频率的电荷分配模型(CP)。模拟了Si/SiGeHBT的高频特性。模拟结果显示Si/SiGeHBT的频率特性较SiBJT大为改善,而基区及集电结SCR区的电荷输运时间将成为提高Si/SiGeHBT截止频率的主要制约因素。与实验报道的对比证实了本模型可作为优化器件设计的有效手段。 相似文献
6.
用GexSi1-x/Si亚稳材料在高温下制作了光波导,它的传输损耗为0.8dB/cm,比低温工艺的0.5dB/cm稍大。并发现GexSi1-x/Si材料的大量失配位错的一些有趣的现象。 相似文献
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用GexSi1-x/Si亚稳材料在高温下制作了光波导,它的传输损耗为0.8dB/cm,比低温工艺的0.5dB/cm稍大。并发现GexSi1-x/Si材料的大量失配位错和一些有趣的现象。 相似文献
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应变Si1—xGex层材料和Si/Si1—xGex器件物理参数模型 总被引:4,自引:0,他引:4
Si/Si1-xGex异质结系统已成功地应用于高速数字、高频微波和光电器件中。对这些器件进行理解和分析时,往往受到应变Si1-xGex材料参数缺乏的制约。本文建立和给出了常温和低温下重要应变Si1-xGex层材料和Si/Si1-xGex器件物理参数模型,对Si/Si1-xGex异质结器件的理解、研究和设计有重要的实际意义。 相似文献
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本文介绍了电子束蒸发二氧化硅薄膜的工艺方法,影响蒸发二氧化硅薄膜质量的因素,以及用于Si/Si1-xGexHBT的结果。 相似文献