涂层取向硅钢片磁畴的显示方法与定性分析

本文介绍针状磁性悬浮液显示涂层硅钢片磁畴的方法,并对磁畴结构与电磁性能之间的关系给以定性分析。     

涂层硅钢片基片的应力分析

一、引言本文用国产X射线应力仪,结合磁畴观测和分析确定了硅钢片涂层对基片产生的应力。对武钢硅钢片厂生产的Hi—B和GO硅钢片进行了测量和观察,并对应力与磁畴之间的关系进行讨论。测量和观察汉鱿,结果与日本专利提供的涂层对     

表面缺陷对取向硅钢磁畴形态的影响

取向硅钢的磁畴形态与其损耗密切相关，研究其内部的磁畴结构对于理解铁损的产生具有重要意义。利用粉纹法观察了带有涂层、激光刻痕处理以及存在表面缺陷的硅钢片磁畴。结果表明，施加较小的垂直磁场更容易观察硅钢的原始磁畴形态，有利于显示清晰的磁畴图像和晶界；如果硅钢片表面存在冲裁小孔，原有的180°畴在小孔附近会变为迷宫畴，且附加应力和退磁场作用会使小孔周围磁畴细化，使用微磁学模拟的方法定性验证了这一变化；如果硅钢表面存在划痕，划痕两端的180°畴会变为迷宫畴，随着划痕方向的不同，磁畴形态也不同。最后，比较了圆盘剪裁切与线切割后硅钢片边缘的磁畴形态，讨论了其磁畴形态不同的原因。     

取向硅钢涂层对噪音特性的影响

取向硅钢片磁致伸缩是变压器噪音来源的主要因素，本文研究了取向硅钢片硅酸镁底层和磷酸盐涂层对磁致伸缩的影响。结果表明：取向硅钢表面的硅酸镁底层和磷酸盐涂层可降低取向硅钢的磁致伸缩；增加绝缘涂层的厚度可减少杂畴和90°畴，改善取向硅钢的噪音性能。     

涂层硅钢片磁畴的显示和观察

本文所采用显示涂层硅钢片磁畴的方法,比较简便,分辨高,有自己的特点,并对硅钢厂生产的硅钢片的磁畴进行了初步观察,这对进一步研究硅钢性能和生产工艺很有意义。     

涂层硅钢片磁畴与磁性的研究

Hi-B和GO硅钢片的磁畴,其晶面(110)与轧面偏离不同角度后,其形态发生不同程度的变化。依据形态的特征,按畴宽对磁畴进行分类:0.15mm以下的畴称为细畴;0.15～0.25mm的畴称为中间畴;0.25mm以上的畴称为宽畴。分析这三种畴的分布情况,可半定量地确定Hi-B和GO面硅钢片铁损和磁感,并对压张力有利于磁性的事实提供一定的依据。     

极低铁损的晶粒取向硅钢片的生产

本文论述了极低铁损的晶粒取向硅钢片的生产方法。过去,人们曾研究过磁畴细化技术及其机理,磁畴细化现象的定量解释虽不充分,但已预料这些结果是以同群的原理为基础,即张应力和亚磁畴(亚磁畴主要由自由磋极和内应力产生的横向磁畴组成)之间的互相作用。现已着手使用一种专门设计的退火炉,试图研制具有最优良(110)<001>取向的晶粒取向硅铜片。此方法的特征是在某温度梯度下进行二次再结晶。用这种方法生产并经人工细化磁畴的0.15mm厚的(含3.3％Si)晶粒取向硅钢片,在磁感为1.8T、1.7T、1.5T和1.3T时的铁损分别为O.70W/kg、O.57W/kg、O.41W/kg和O.30W/kg。     

非晶态Fe_(40)Ni_(38)Mo_4B_(18)合金的磁畴结构研究

本研究工作采用粉纹法观测了非晶态Fe_(40)Ni_(38)Mo_4B_(18)合金带的磁畴结构。清晰地看到了四种磁畴图样。用扫描电镜研究了合金带表面形状,指出指纹畴同带面上的洼坑相对应。同时也研究了外磁场和消除应力退火对磁畴结构的影响。用应力理论解释了所观察到的磁畴结构,并计算了该合金的等效各向异性、内应力和畴壁参量。     

蒲茨纳教授去年应邀来院讲授“磁畴”

奥地利维也纳技术大学蒲茨纳教授于1981年8月20日～23日应邀来我院讲授显示涂层硅钢片畴纹的新技术。配合讲课内容,蒲茨纳教授还作了实际操作表演,并一一回答了听众提出的有关技术问题,气氛十分活跃,给大家留下了深刻印象。大家认为,通过这次讲学活动,     

硅钢的有利夹杂与磁畴结构

我们的研究表明,钢中适量Al与N的存在可显著降低热轧前的板坯加热温度。用热氢抽取法测定了钢中固溶氮和AlN中的氮,指出钢中Al与N主要是通过形成弥散的AlN抑制相,保证二次再结晶的顺利进行。此项研究为利用我国资源和现有设备生产优质冷轧取向硅钢提供了必要的技术和工艺参数。为深入理解应力涂层降低损耗的机理,系统研究了硅钢磁畴结构的张力效应。结果表明:(1)180°畴端面的真实闭合畴结构远较文献中惯用的模型复杂;(2)张应力使180°畴细化,并不靠180°壁的移动,而有赖于反向磁化畴-匕首畴的长大。压应力效应的研究指出,除文献中提到的横向条状畴外,在更高的压力下将出现“人”字畴纹。并提出了“人”字形压应力畴纹的结构模型。     

晶粒取向3%Si-Fe畴结构的应力效应

本文用粉纹法研究了硅钢中几种典型磁畴结构在外加应力作用下变化的细节及其规律。揭示了张应力使畴细化的机制:反向磁化核在张应力作用下长大、伸长并转变成新的180°条状畴,并从畴结构变化的角度解释了φ≈2°时损耗降低出现极值这一实验事实的物理本质。 实验表明,施加纵向压应力时畴结构发生大范围的重新排列,并转化为横条状和人字形压应力畴纹。本文依据畴壁取向原则及实验事实提出了人字形应力畴模型     

磁性液体在带有表面张力涂层的取向硅钢片上的应用

本文介绍一种观察带涂层取向钢宏观组织和磁畴结构的新方法。把磁性液体涂到带有表面张力涂层的钢板上,在平行钢板表面的轧制方向上加一个直流磁场,就能观察到晶粒和晶粒边界结构;如果在钢板的垂直方向上加一个不大的直流磁场(可以由磁铁产生),就可观察到磁畴结构。这种方法对所观察的试样不用做任何复杂的处理。因而试样制备简单,加快观察速度。此外,还具有成本低、改善劳动条件等优点。     

弯曲形变对无取向硅钢磁畴结构和磁性能的影响

以B35AV1900无取向硅钢为对象,研究了小幅度变形情况下,硅钢内部磁畴组织和磁性能的变化规律。采用软磁交/直流测试仪、Bitter粉纹法、X-射线应力仪、显微硬度计等分析手段,获取了不同弯曲形变下磁畴形貌、弯曲应力、硬度的变化和磁性能的影响规律。结果表明:随弯曲角度增大,硅钢交直流性能呈现明显下降趋势,在0°变化到18°时,硅钢损耗上升了23.2%,矫顽力增大,磁导率、剩余磁感应强度减小;弯曲应力随变形角度增大而增大,其硬度也呈现略微上升趋势;随变形角度增大,磁畴种类增多,相邻磁壁之间间距和磁壁宽度均缩小。     

细化磁畴所产生的闭合磁畴与磁致伸缩的关系以及降低磁致伸缩能级的措施

为实现电磁钢板低铁损化,采用了磁畴细化技术,向钢板内导入点状热应力,同时在钢板内部也形成了一种被称为"闭合磁畴"新磁畴结构.闭合磁畴的磁矩在钢板内部方向上与轧制方向相垂直,引发了较大的磁致伸缩.本文介绍用电子束照射细化磁畴时,采取新方法形成了磁畴宽度沿轧向周期性变化的菱形链线状闭合磁畴线,可使磁致伸缩高频波的能级降低,从而获得低铁损和低噪声的高级取向电磁钢板.     

细化磁畴所产生的闭合磁畴与磁致伸缩的关系以及降低磁致伸缩能级的措施#br#

为实现电磁钢板低铁损化，采用了磁畴细化技术，向钢板内导入点状热应力，同时在钢板内部也形成了一种被称为“闭合磁畴”新磁畴结构。闭合磁畴的磁矩在钢板内部方向上与轧制方向相垂直，引发了较大的磁致伸缩。本文介绍用电子束照射细化磁畴时，采取新方法形成了磁畴宽度沿轧向周期性变化的菱形链线状闭合磁畴线，可使磁致伸缩高频波的能级降低，从而获得低铁损和低噪声的高级取向电磁钢板。     

磁畴结构对取向硅钢磁致伸缩的影响

本文概述了取向硅钢磁致伸缩的影响因素,采用交直流磁性测量仪、磁致伸缩测试仪和磁畴观察仪等手段研究了磁感应强度和磁畴结构对取向硅钢磁致伸缩的影响。结果表明:磁畴结构中主畴偏离角直接影响负的最大磁致伸缩,而锲形畴则对饱和磁致伸缩有显著影响,通过激光刻痕可以减少锲形畴,降低磁致伸缩。     

晶粒取向3%Si-Fe畴结构的应力效应

用粉纹法研究了高斯织构硅钢中几种典型畴结构在外加应力作用下变化的细节及规律。结果表明,在纵向张应力下主畴结构变动不大,附加畴则变化显著。其中,标准180°条状畴平均畴宽略为细化,但具有反向磁化核的匕首畴结构的细化效果最显著。菱片畴、树枝状畴     

激光刻痕细化取向硅钢磁畴的研究现状

激光刻痕可以有效细化取向硅钢的磁畴,从而显著降低铁损。综述了磁畴细化降低铁损和激光刻痕法细化磁畴的原理,并说明采用激光刻痕法细化磁畴降低取向硅钢铁损的研究现状,指出激光刻痕存在的问题及发展方向。     

晶粒取向对硅钢片磁畴结构和杂散场特性的影响

1.引言通过磁畴结构規察和织构检验研究了晶粒取向对硅钢特性的影响。通过改进某些人所共知的实验方法和使用现代电子仪器的附加特性,就能得到更多有关磁性材料的资料。 2.实验从工业生产的硅钢片上切取圆环作为试样,经过退火,抛光,晶粒腐蚀并通过X光衍射研究试样的晶粒取向。我们利用一般的西门子织构测角器,经由IEEE-488母线与4051台式计算机和4662数字座标系统相连接得到角度数据和速率,这样该系统就按程序能直接计算出     

铁磁性阻尼合金中磁畴运动的动态观察

在备有拉伸装置的JEM-200CX透射电镜下对Fe-Cr-Al系铁磁性阻尼合金中铁素体内的磁畴结构及畴壁运动进行了动态观察。观察结果表明:磁畴在外力作用下的运动是通过部分原畴壁的消失,新畴壁的形成以及新、旧畴壁的重构来完成的,本文还初步探讨了铁素体内磁畴运动的规律。