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分别采用盐酸-氯化铜溶液、硫酸-双氧水溶液和硫酸高铈溶液对化学镀Ni层或Pd层进行改性,再置换镀Au。研究了改性溶液组成和工艺条件对Au层厚度(镀金速率)的影响,得到较佳的改性工艺条件为:温度50℃,时间4 min。对比了采用不同溶液改性Ni层时置换镀Au层的微观形貌和晶体结构。结果表明,表面改性不会对Ni层造成腐蚀,对Au层晶面择优取向的影响也不大,但对Au层的平均晶粒尺寸有一定的影响。采用盐酸-氯化铜溶液或硫酸高铈溶液改性能够显著提高置换镀Au的速率。 相似文献
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3.2 镀层性能的研究 3.2.1 化学镀Ni-P合金层的沉积速度和Ni-P合金层中磷的含量化学镀Ni-P合金层沉积速度平均为28μm/h。Ni-P层中磷的含量平均为10%,镍的含量为90%。 3.2.2 Ni-P合金层与基体间的结合力测试 相似文献
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铝材酸性化学镀镍(Ni—P)前处理工艺研究 总被引:5,自引:0,他引:5
铝是一种难镀的金属,没有适合铝材直接化学镀镍的镀液。本文研究了用浸镀镍代替浸镀锌的前处理工艺,可以实现铝材酸性化学镀镍。 相似文献
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某印刷线路板(PCB)生产企业废水产生量为5328.5 m~3/d,按照"分质分类"原则,将该公司7股废水进行分类处理。工程运行结果表明,7股废水分质分类处理效率高,废水总排放口出水COD_(Cr)、Cu~(2+)、Ni~(2+)、CN~-、NH_3-N、TN、TP分别为17、0.17、0.05、0.001、10.8、17.7、0.885 mg/L,出水水质稳定,优于《电镀污染物排放标准》(GB 21900—2008)表2中水污染物浓度限值要求,及《污水综合排放标准》(GB 8978—1996)表4中一级标准要求。 相似文献
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离子迁移对印刷线路板绝缘性能的影响 总被引:1,自引:0,他引:1
由于印刷线路板的线宽和线间间隔的细微化,以往不引人注意的离子迁移现象已经对线路板的绝缘性能造成影响,介绍了这种现象发生的原因和研究动向,产生离子迁移,并成为影响绝缘性能的因素有印刷线路板的材质及加工工艺,也与结构设计和使用环境有关。 相似文献
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文章介绍了以硫酸/硫酸钯作为印制电路铜箔化学镀镍的活化液。考察了表面活性剂的用量、活化时间及活化温度对化学镀镍的影响,确定了最佳的工艺参数。并对经该活化液活化的铜箔进行化学镀镍,通过扫描电镜(SEM)对化学镀镍层的微观形貌进行表征,同时考察了该镍层的钎焊性。研究结果表明,该活化液适用于印制电路铜箔的化学镀镍前活化。 相似文献
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研究出一种新型金刚石/铜基复合材料化学镀镍预处理工艺。考察了除油、粗化、活化等预处理过程对化学镀镍的影响。结果表明:该工艺能有效解决金刚石/铜基复合材料化学镀镍中存在的漏镀、结合力差等问题。 相似文献
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利用化学沉积方法在铝合金表面制备镍-磷合金镀层。讨论工艺参数对合金镀层表面形貌、相结构及耐蚀性的影响。结果表明:温度对合金镀层表面形貌的影响较大,而对相结构的影响较小。在84℃下获得的合金镀层具有较好的耐蚀性。 相似文献
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