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为实现用真空磁控溅射镀技术对玻璃进行连续式镀膜,设计了一条基于PLC的自动化生产线。在精确控制镀膜时间和靶电流,保持电压不变的条件下,通过闭环控制实现镀膜室的工作气体气压恒定控制,从而得到稳定的沉积速率,最终在实验中利用真空磁控溅射镀膜方法制备出分布均匀,附着性强和特定厚度的膜层。通过上位机软件对参数值进行最优控制.在提高沉积速率的同时实现了玻璃大批量深加工的目的。 相似文献
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冲制绕组按其层数不同,可分为4层、6层、8层等不同方案,统称多层绕组。多层绕组是由双层绕组组合而成的,而双层绕组又是两个单片组合而成的。多层单片之间通过层压工序粘接成一个整体,所以层压工艺也属于粘接工艺的范畴。单片与单片之间的绝缘层不仅起到电气绝缘作用,也同时具有粘接功能。要想得到优良的制品,必须掌握绝缘胶膜的流胶性能。图1是某种绝缘胶膜的流胶特性曲线,在特定的温度和压力下,其流胶量随时间的变化呈现 相似文献
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《高电压技术》2021,47(2):695-704
为提高脉冲功率技术中绝缘结构的绝缘性能,延长设备使用寿命,研究了重频纳秒脉冲电压作用下,多层绝缘薄膜层叠结构的绝缘特性,采用上升时间为115 ns、脉宽为225 ns的重频源,在重复频率为1 kHz的条件下,对比了不同厚度和层叠数的聚酰亚胺单层膜和多层膜的短时击穿场强和长时耐受脉冲数,建立了重频纳秒脉冲电压下1500万次以内的电老化单因子寿命模型。试验结果表明层叠结构有利于提高聚酰亚胺的绝缘强度,快速击穿场强最高增大45.44%,这是由于层叠结构减小了单层绝缘厚度,单层绝缘的击穿场强随厚度的减小而增大。耐受脉冲电压数也明显提升,并且总绝缘厚度相同的情况下分层数越多,快速击穿场强越高,同时耐受脉冲数也越多。耐受脉冲电压数与场强满足指数关系,这为场强的选择和绝缘结构设计提供了依据。 相似文献
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SuperDyma.简称SD.是指镀膜层成分以锌为主.由约11%铝.3%镁以及微量的硅构成的新型耐腐蚀性镀层钢板。据悉.该产品为日本新日本制铁株式会社(以下简称新日铁)新推出的又一专利产品.可用于空调室外机底座和支架、太阳能热水器支架等家用电器领域以及工业制冷设施等。 相似文献
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单层绕组在小型三相异步电机中应用很广。近年来,各厂都普遍采用了穿线、下线工艺。这对于节省原材料,减少接线、焊线工时,提高产品质量有一定的意义。目前广泛采用的三相单层绕组有交叉式、同心式以及链式等三种。就穿线、下线的道理和方法而言,三者并没有多大的差异。这里,我们把36槽4极三相交叉式单层绕组的穿线、下线工艺作一简介。搞清楚了 相似文献
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以正硅酸乙脂和正钛酸乙脂为原料,采用溶胶-凝胶工艺用浸渍-提拉法在H4卤钨灯表面玻璃基底上,制备具有优良的光学特性、好的均匀性SiO2-TiO2多层复合介质干涉膜,考察了膜系对H4卤钨灯的滤光作用。测量表明镀膜后的H4卤钨灯满足GB15766.1—1995的汽车防雾灯的色坐标要求。并对在满功率工作条件下,膜系的特征透射光谱的移动进行了讨论。 相似文献
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2006年12月21日,HOYA宣布以7.71亿美元并购宾得,今年下半年开始,宾得的新产品上的品牌将变为“HOYA-PENTAX”,一时间业界震动。毕竟作为从机械相机时代就叱诧风云的老牌相机生产厂商,在宾得漫长的相机制造史上曾创造了无数的世界第一:第一个将多层镀膜技术应用在民用镜头上的厂商、第一个推出TTL自动对焦相机的厂商、第一个单反产量超千万的厂商、第一个推出自动对焦中幅机的厂商……到今天被HOYA并购.这样的没落让众多摄影爱好者扼腕叹息。 相似文献
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钛离子镀膜技术全称“第三代等离子体加速器法离子镀膜技术”,它是一个涉及物理学、化学、电子学、电磁学、电真空学、红外光学等多种学科的高难课题,是当今世界先进的技术之一。钛离子镀膜技术是在真空容器内,将过渡族元素金属钛蒸气电离成等离子体,在氮气环境中,将带正电荷的离子吸收到加负电压的工件表面,以形成氮化钛膜层。金属钛为银白色,但其化合物氮化钛却呈现漂亮的金黄色,耐磨性和耐腐蚀性比黄金和工业纯钛优越,有优良的导电性和化学稳定性,其熔点高达2563℃。“钛金”是人们对以离子镀膜技术中最具代表性的镀钛制品酷似黄金的外观品质给予的美称。由于离子镀膜技术还具有 相似文献
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单相异步电动机的定子绕组型式,通常有双层绕组,单层绕组等。单层绕组的优点是嵌线方便,没有层问绝缘,槽的利用率高,但单层绕组一般都是全距绕组,其电势和磁势波形较差,因而对电机的起动性能、损耗和噪音等都有一定的影响。双层绕组的优点是可以采用适当短距来改善电势和磁势波形,从而使电机的性能有所改善。但双层绕组在工艺上较单层绕组复杂得多。考虑上述因素,现在许多单相异步机(尤其是洗衣机电机)的定子绕组型式采用的是单双层绕组,它对单、双层绕组的优点兼而有之。 相似文献
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本文简要地介绍了离子镀膜设备的几种型式,并对真空电弧离子镀膜的设备和蒸发源作了重点的叙述。此外对离子注入、离子束混合、动态离子束混和和离子辅助镀膜的最新发展也作了介绍,并对设备的发展提出了几点看法。 相似文献