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硅片键合技术的研究进展 总被引:8,自引:0,他引:8
硅片键合技术是指通过化学和物理作用将硅片与硅片,硅片与玻璃或其它材料紧密地结合起来的方法,硅片键合往往与表面硅加工和体硅加工相结合,用在MEMS的加工工艺中,常见的硅片键合技术包括金硅共熔键合,硅/玻璃静电键合,硅/硅直接键合以及玻璃焊料烧结等,文中将讨论这些键合技术的原理,工艺及优缺点。 相似文献
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硅片键合界面的应力研究 总被引:3,自引:0,他引:3
本文主要研究硅片直接键合界面结构与应力大小.当抛光硅片直接键合时,界面出现极薄的过渡区,并存在微小的晶向差,但不引起多余应力.当热生长了二氧化硅层的硅片相键合时,界面存在二氧化硅层,并引起张应力,其大小与硅二氧化硅系统应力大小相当. 相似文献
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两电极多层阳极键合实验研究 总被引:1,自引:0,他引:1
介绍了用2个电极通过一次电极反接的方式实现多层样片之间阳极键合的操作工艺和键合机理,并以玻璃-硅-玻璃三层结构为例对其进行了实验研究。结果显示:多余的玻璃对第一次键合过程的电流特性影响不大,而第一次键合的玻璃对第二次键合电流产生显著的影响,电流出现不规则的突变。而且,在第二次键合过程中,第一次键合的玻璃在键合面上会出现由于钠元素积聚而产生的黄褐色斑点。拉伸强度实验的结果表明:第二次键合过程中在第一次键合面形成的反向电压会减弱键合的强度;通过合理选择键合参数可以得到满足MEMS封装要求的键合强度。 相似文献