钴-镍合金薄膜的成分

电鍍Co-Ni合金簿膜的很多因素影响磁性能,其中之一是簿膜成分,它被镀液中Co~(++)/Ni~(++)比例、添加剂、鍍液pH和叠加的交流/直流所控制,这些研究結果指出,最好的磁性发现是在含Ni20—40％的膜的成分,因这些因素与其它薄膜成分不同的是:电鍍Co-Ni薄膜的磁性是随不同的鍍液而改变。     

化学沉积磁性记录Co-P薄膜

本文报导用化学方法从改进的Brenner镀液中沉积Co-P磁性薄膜的方法。列举的详细数据论证了沉积条件对薄膜的厚度、P含量和磁性能的影响。这种薄膜比过去所报导过的薄膜还薄,矫顽力范围接近80—900奥斯特,且矫顽力与厚度的关系为:HC=At~(-2/5)。这与Fisher和Chilton对较厚的薄膜所报导的情况相似。已经知道,改变某些参数可以控制沉积薄膜的磁性能,如:薄膜的厚度、镀液的PH、次磷酸盐的浓度和镀液的温度;前两个因素是最主要的,它掩蔽了P共沉淀对磁性能可能有的任何影响。本文叙述了一种用来精确自动控制镀液PH值的仪器。利用本文所述之方法可获得像镜面的粘着好的薄膜,它通常适合于磁性记录以及Kerr磁光读出。     

磁性钴-镍合金的电沉积

本文研究产生硬磁膜的镀液,特别是用电解法沉积具有优越的磁性用于磁性记忆器件的Co-Ni膜。 具有高矫顽力的磁性材料能应用在磁鼓、磁盘、磁带等记忆元件上。通常,一些镀液在工业上可用来镀这些磁性材料,然而,在某些     

用磷含量控制化学沉积钴薄膜的磁性

从含有用作还原剂的次磷酸盐离子镀液中,化学沉积钴金属的磁性在很宽的磁性范围内与所镀金属的磷含量有关。下图指出矫顽力与Co-P薄膜中的磷含量有关,随着磷的百分重量增加,矫顽力成线性增加。     

电镀钴-镍合金的磁性

前言 电镀Co-Ni合金当前被广泛地用作数字计算机磁鼓的永磁层。Hughes航空公司已成功的应用这种电镀合金在数字计算机中,这种计算机是该公司为美国空军制造的最新尖端炮火控制系统的重要部分。因为减轻重量在该系统中最为重要,所以磁鼓用铝合金制造、先在铝合金上镀一层铜,再在铜上镀一层Ni-Co合金,其中Co成分占80％,Ni成分占20％,镀液纯粹用氯化物镀液,每立升镀液中含每种金属50克,硼酸40克,用来沉积合金镀层。     

合金磁带

矫顽力和剩磁为普通γFe_2O_3磁带三倍以上的高性能合金磁带将于78年底～79年初投入市场。目前这种磁带主要用于盒式录音机,今后将在电子计算机等其他使用磁记录的领域中应用。合金磁带即合金磁粉磁带,不同于用蒸发、溅射、化学沉积或电沉积制成的金属薄膜磁带,它是把以 Fe 为主并含有 Co、Ni 成分的合金微粉和粘结剂混合成磁浆,然后采用和制造γFe_2O_3磁带相同的方法将磁浆涂布到带基上。这种合金微粉是强磁性体。它与γFe_2O_3和 CrO_2     

磁盘用溅射铁氧体薄膜

为了实现高记录密度的磁盘,研究了采用溅射法制成的氧化物薄膜和镀有氧化铝膜的Al 合金板的新式氧化物磁盘介质。(1)氧化物磁性薄膜的制作方法分以下两步。首先在强氧化气氛中,通过反应溅射形成α-Fe_2O_3;然后继续在氢气中进行还原生成Fe_3O_4。(2)采用了与涂布型磁盘板相同的Al 合金基板,由于表面镀有较硬的氧化铝膜,所以与以前基板相比,提高了表面精度及耐磁头磨损性。(3)由于同时添加Al 和Co,提高了磁特性,而且记录密度达到了800位/毫米。(4)今后的研究课题不仅只限于电磁转换特性,而且还要对漏码、耐磁头磨损性等方面进行研究,同时考虑到生产率的问题还要进一步提高磁性膜的生成速度。     

镀钴的溶液

本文研究在催化活化基体上沉积钴磁层的一种镀液。特别是研究为制造在当前电子计算机及数据处理机使用的高密度磁性存贮装置的一种镀液。 由于在镀液中有次磷酸盐离子存在,而出现钴离子的化学还原作用,这种作用是众所周     

高速电喷镀喷嘴可控运动装置的研制

本文利用单片机数字信号处理性能和丝杠传动结构实现高速电喷镀喷嘴的精密控制,喷嘴位移控制精度达到0.05mm,电沉积反应可扩辰到所有喷嘴运动可达区域,一次能高速电喷镀零件表面500mm2.就特定的工件和镀液,通过运动方式调整电解液的搅拌强度,可使镀层复合含量提高.可研制大面积高性能的、与基体结合力强的各种复合镀层.     

熔接型光纤液位传感器的抗污染研究

讨论了熔接型触点式光纤液位传感器的污染问题,分析研究了传感头在水与油 2种不同介质中的污染情况;提出了在光纤传感头上利用液相沉积法(LPD):镀TiO2 薄膜来提高其抗污染能力的方法,并测试了镀TiO2 膜后的光纤传感头的抗污染性能。水中的实验表明:镀TiO2 膜后,光纤传感头的抗污染能力比镀膜前有显著提高。     

一种新的氨基磺酸钴镍镀液

該文叙述一种新的电鍍Co-Ni合金薄膜的氨基磺酸盐鍍液,从該鍍液中得到的Co-Ni薄膜具有很寬范圍的磁性能。这种新的鍍液有相当好的着落力。硼酸,通常加在氨基磺酸盐鍍液中作为pH緩冲剂,但在这种新的氨基磺酸盐鍍液中并不需要。氯离子的活度是被高濃度的氨基磺酸离子所影响,具有高矯顽力(Hc)的Co-Ni合金薄膜,能在阴极上电鍍得到。     

一种新的氨基磺酸钴镍电镀液

电鍍的Co-Ni薄膜广泛地用作磁記录介质。在与氧化物涂层比較时,它的优点是:制备簡单、比較容易得到范围很寬广的磁性能和薄膜厚度。这些优点在磁記录方面极为重要,因为已經証明:为了增加在既定面积上所能够儲存的磁訊号数量,膜必須薄并且有高的矫顽力和一个小的磁化区。有几种类型的电鍍液能用于电鍍Co-Ni薄膜。其中包括Watts型(添加Co~(++))、次磷酸盐型(包含H_2PO_2~-)和氨基磺酸盐型。     

复合镀层中颗粒含量的影响因素探讨

系统探讨了颗粒本性、阴阳极布置方式、镀液性质和电镀操作条件对电沉积复合镀层中颗粒含量的影响机理,总结得出:选取纳米尺度颗粒经解聚处理后添加至含适量添加剂的镀液中,电镀时水平正对布置阴阳极并施加低阴极电流密度和适宜强度超声搅拌,有利于制备出较高颗粒含量的复合镀层。     

PZT厚膜的电射流沉积研究

制备了锆钛酸铅( PZT)悬浮液,采用电射流沉积( EJD)技术,在硅衬底上沉积了PZT厚膜.研究了电射流沉积高度、流量及悬浮液混合条件对厚膜致密性的影响.结果表明:降低电射流沉积高度和流量有助于提高沉积PZT厚膜致密性;采用球磨方法充分混合PZT悬浮液,沉积的PZT厚膜致密性明显提高.采用优化的电射流沉积参数和球磨20 h的PZT悬浮液,制备了10μm无裂纹PZT厚膜,其压电常数d33为67 pC·N-1 ,相对介电常数εr 为255.     

三聚氰胺修饰电极同位镀铋膜测定镉离子

采用电聚合方法制备三聚氰胺修饰玻碳电极(PM/GC),然后在其表面同位镀铋膜,研究Cd2+在该电极上的溶出伏安行为,并与裸玻碳电极(GC)同位镀铋膜电极上Cd2+的溶出伏安行为进行比较.研究表明,镉在同位镀铋膜的PM/GC电极上可得到灵敏的溶出峰.在优化的实验条件下,镉的氧化峰电流与其在1.0×10～1.O×10-6mol/L浓度范围内呈良好的线性关系,检测下限为5.0×10-8mol/L.由于每次溶出后可方便地将铋膜溶解更新,该方法重现性好.使用铋膜电极替代汞膜电极还有利于保护环境.     

化学镀钴-磷沉积薄层的磁性和腐蚀作用

Co-P磁性薄膜是用两种稍微不同的化学镀鈷溶液制造,这两种膜的磁性和腐蝕作用是作为厚度的函数来研究,膜呈现高的矯顽力,在600厚,最大大約有1000奥斯特,这两种膜的磁矩,当暴露在高湿度及适当的温度下(40—70℃),发现减低,这被用作研究腐蝕程度的方法,腐蝕程度的改变,发现是膜厚度的2/3次方。     

DPSV法快速测定茶叶中Pb的SPCE传感器的研究

为探究出一种食品（茶）中Pb的快速检测新技术,研究以丝网印刷碳电极为支持电极,选用差分脉冲溶出伏安法和电极同位镀汞膜法,以多种绿茶作为固体有机物食物代表的检测对象,进行痕量Ph的快速检测研究。优化同位镀汞膜浓度、时间、最佳底液、沉积电位等6项最佳条件参数。在优化条件下,溶出峰电流与Pb浓度在10-300μg／L范围内呈现良好的线性关系,检出限为2．208μg/L。茶样检测结果其标准偏差小于8％,回收率达到85．2％～109．3％。实验结果表明：研究出的丝网印刷传感器差分脉冲伏安法测定茶叶中的Pb离子具有快速、灵敏、准确、经济等优点,所用丝网印刷传感器可实现一次性使用和批量生产。     

提高聚酯聚合物材料粘结性能的处理方法

本专利研究有关聚酯聚合物产品的表面处理及处理结果,特别着重研究了关于聚酯聚合物产品表面粘结性的活化问题,以提供容易得到金属膜及其它膜成份的产品。 在数据处理及计算机领域,普通采用了记录传动装置,如磁带、磁盘和卡片,这些装置都是在聚酯聚合物基体上沉积一层磁记录层形成的。聚酯(对苯二甲酸乙二醇酯)作为基体材料特别优越,共商标为“Mylar”。在很多应用方面,非金属的记录层都以此做基体,但是,采用鉄磁金属或合金做记录层的会越来越多,     

磁膜存储元件的参数测量(上)

在电子数字計算机中应用鉄磁性薄膜作为存儲元件已有很多研究,近二、三年来磁膜的应用得到了迅速的发展。一些小型中速磁膜存貯器已經制成,并已在:Tx-2、Fx-1等計算机中得到了应用。美国Univac 1107机也使用了磁膜。更需指出的是Univac ADD計算机已采用了16600字大容量不破坏讀出的磁膜存儲器。目前,比較快的磁膜存儲器是美国IBM公司1962年制成的,存儲周期为100毫微秒、讀出时間为60毫微秒、容量为256字72     

磁记录非牛顿液膜润滑仿真

随着记录密度的不断提高，头盘浮动间隙不断减小。目前近场光、磁混合记录已经在研究10nm以下的浮动系统。由于浮动间隙已远小于空气分子平均自由程(室温下约65nm)而有使气膜浮动技术有失效的危险。非牛顿液膜浮动技术就是在这种背景下在近几年备受关注的。该文提出了一个新的非牛顿润滑液膜，建立了考虑表面粗糙度影响的非牛顿液膜浮动系统模型，对不同表面粗糙度形状系数进行了仿真研究。研究表明，非牛顿液膜浮动系统的性能与气膜的情况有很大的差异。