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外延生长技术是制备半导体材科,特别是半导体器件的重要方法之一,用外延方法可以制作某些结构复杂的半导体器件。半导体材料和器件这种需要促使多种外延技术得到了发展和应用。其中包括汽相外延(VPE)、液相外延(LPE)和分子束外延(MBE)。汽相外延生长中又可依据原料的不同分为氯化物工艺、氢化物工艺和MOCVD工艺(金属有机化合物化学汽相淀积)。 相似文献
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本文研究了MOCVD法淀积过程中工艺条件对PbTiO3膜c轴取向度的影响,探讨了PbTiO3膜的生长过程,通过调节氧气流量首次在MgO(100)单晶衬底上淀积出c轴取向的PbTiO3外延膜。PbTiO3外延膜的介电常数为90,折射率为2.64,均和单晶性能一致。 相似文献
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用MOCVD法在LiGaO2(001)上生长GaN的研究 总被引:1,自引:0,他引:1
LiGaO2单晶是目前所知的GaN最为理想的衬底材料,本研究用金属有机物气相沉积法(MOCVD)在LiGaO2(001)衬底上进行了外延生长GaN膜的试验,生长出了表面较为平整的GaN外延膜。应用原子力显微镜(AFM)、X射线粉末衍射(XRD)和高分辨X射线双晶衍射分别对衬底对外延膜和衬底材料进行了分析测试。结果表明,用MOCVD法可以在LiGaO2(001)衬底上生长出较高质量的无掺杂GaN(0001)外延膜。但由于MOCVD法是在高温还原气氛中生长GaN外延膜的,LiGaO2在这种气氛中不够稳定,实验发现衬底材料在生长过程中部分样品发生开裂,但没有发生相变。 相似文献
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法国汤姆逊—CSF公司的中心研究实验室已经使用低压金属有机化学气相淀积生长长波长光电子器件用高质量InP和有关化合物外延层。LPMOCVD是生长这类外延层的主要工艺。由于技术上的问题,通过液相外延难以获得大面积膜,而材料含有诸如磷之类的易挥发元素时,采用分子束外延淀积也困难。 相似文献
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热丝法低温生长硅上单晶碳化硅薄膜 总被引:4,自引:0,他引:4
提出了热丝化学气相淀积法,在低温(600-750℃)下成功地生长出硅上单晶碳化硅薄膜,X光衍射谱、喇曼光谱证实了外延膜的单晶结构,光致发光测量证明外延SiC材料室温下可稳定发射可见光。 相似文献
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设计了一种高真空使用的低电渡过渡金属蒸发源,它能产生高纯金属原子束,且具有一;定的寿命。该蒸发源是将过渡金属Co,Ni或Cr电镀到一个由W丝弯成的U形加热器上构成的。装入超高真空中,利用W丝自身的电阻加热,去气后,可获得数小时的清洁蒸发。实验结果表明,在离蒸发源约5cm处,其淀积速率最高可达10nmm/min,总的淀积厚度超过500nm,而且Auger分析结果显示,在超6高真空中淀积的上述几种过渡 相似文献
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本文综述了硅外延的三大发展趋势,指出降低外延温度是外延发展的迫切要求;同时比较了分子束外延(MBE)、光能增强化学汽相淀积(光CVD)、等离子体增强化学汽相淀积(PECVD)、超高真空化学汽相淀积(UHVCVD)的优缺点,指出UHVCVD和PECVD二者合二为一是最具应用前景的方法。其次,论述了异质外延和SiGe/Si超晶格材料的应用前景。最后,论述了外延生长的原位监测和外延膜的测试技术。 相似文献
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LiGaO2单晶是目前所知的GaN最为理想的衬底材料,本研究用金属有机物气相沉积法(MOCVD)在LiGaO2(001)衬底上进行了外延生长GaN膜的试验,生长出了表面较为平整的GaN外延膜.应用原子力显微镜(AFM)、X射线粉末衍射(XRD)和高分辨X射线双晶衍射分别对衬底对外延膜和衬底材料进行了分析测试.结果表明,用MOCVD法可以在LiGaO2(001)衬底上生长出较高质量的无掺杂GaN(0001)外延膜.但由于MOCVD法是在高温还原气氛中生长GaN外延膜的,LiGaO2在这种气氛中不够稳定,实验发现衬底材料在生长过程中部分样品发生开裂,但没有发生相变. 相似文献
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高纯金属有机化合物(MO)可作为六类高新材料的原材料。MOCVD(金属有机化学汽相淀积)和CBE(化学分子束外延)工艺所需的MO源(Source)和掺杂剂是其主要用途之一。 相似文献
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设计了一种超高真空使用的低电流过渡金属蒸发源 ,它能产生高纯金属原子束 ,且具有一定的寿命。该蒸发源是将过渡金属Co,Ni或Cr电镀到一个由W丝弯成的U形加热器上构成的。装入超高真空中 ,利用W丝自身的电阻加热 ,去气后 ,可获得数小时的清洁蒸发。实验结果表明 ,在离蒸发源约 5cm处 ,其淀积速率最高可达 1 0nm/min ,总的淀积厚度超过 5 0 0nm ,而且Auger分析结果显示 ,在超高真空中淀积的上述几种过渡金属薄膜 ,其纯度相当高 ,杂质含量均小于仪器的检测灵敏度。本文详细介绍了这种过渡金属蒸发源的制作技术及性能 相似文献
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本工作采用化学气相淀积方法,以GcH4为反应气源,以InN/CaN/Al2O3(0001)复合衬底作陪片,在CaN/Al2O3(0001)复合衬底上外延生长了Ge薄膜,并对生长机理进行了探讨.研究结果表明直接在N2气氛下外延得到了多晶Ge薄膜,表面较平整,由吸收光谱得出其带隙宽度为0.78 eV;经过H2预处理,CaN/Al2O3复合衬底表面出现金属In的沉积,外延Ge薄膜沿(111)方向择优生长,晶体质量较高. 相似文献
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采用金属有机化学气相淀积方法生长了α-Al2O3衬底上外延的高质量的单晶GaN薄膜。X射线衍射光谱与喇曼散射光谱表征了GaN外延薄膜的单晶结构和单晶质量。透射光谱和光调制反射光谱定出了六角单晶GaN薄膜的直接带隙宽度和光学参数。 相似文献