熔盐电解制备难熔金属的现状与展望

介绍了传统的熔盐电解法用于难熔金属制备的应用现状,分析了其存在的弊病:主要是传统熔盐电解法对电解质要求严格,难以找到合适的熔盐.而新开发的熔盐电解法--FFC法和SOM法,都从一定程度上降低了电解过程对电解质的要求,成为熔盐电解制备难熔金属发展的新方向,是低成本、连续化、无污染生产难熔金属的可行之路.上海大学综合分析了FFC法和SOM法的优缺点,提出了一种改良的SOM法,该方法有效避免了FFC法中的缺点,并在制备Ti,Ta,Cr上取得成功.     

提高电解过程中氧化钕利用率的研究

研究了氟化物体系熔盐电解制备金属钕的过程中,熔盐配比及加料速度对氧化钕利用率的影响.结果表明,控制适宜的熔盐配比和加料速度,可将氧化钕的利用率提高到约104%,产品一次合格率达到97.2%以上.     

高纯铬电解技术的研究进展

从不同角度分类介绍了高纯铬电解的技术和方法及电化学原理,具体包括溶液电解(三价铬的水溶液电解和有机溶液中的电解)和熔盐电解(熔盐电沉积、高温电精炼和低温电精炼).重点介绍了熔盐电解法这一领域的最新动态.     

熔盐电解制备硼及金属硼化物的开发前景

介绍了单质硼粉及金属硼化物的优良性能和应用前景,国内外制备和生产单质硼粉及金属硼化物的方法与原理.结合国内外实验与研究的现状,分析认为,熔盐电解法制备与生产单质硼粉及金属硼化物的优点是环境友好、反应条件容易控制、产品纯度高,是很有前途的方法.现存的主要问题是电极反应机理以及连续电解设备的开发,随着研究工作的深入开展,熔盐电解法的应用前景将非常广阔.     

透氧膜法由SiO2直接制备Si

为改变硅生产工艺高污染、高能耗的现状,研究了在CaCl2熔盐中利用固体透氧膜法(SOM)直接电解SiO2制备单质Si,考察了电解电压、电解时间、熔盐温度等参数对电解效果的影响,采用电子扫描显微镜和X射线衍射分析了电解产物形貌及相组成.结果表明:1100℃熔盐中,3.5 V电压下电解2 h,可制得纯Si,电流效率为89%...     

熔盐体系电沉积技术进展

用熔盐作为制备金属电沉积槽液的溶剂具有液态温度范围广和“电化学窗口”大等优异特点。熔点低于室温和在相当广的电位范围内不被分解的非质子型熔盐体系已相继出现,使像铝等不能自水熔液中阴极析出的金属能够实现电沉积。另一方面,熔盐体系的高液态温度不但可以自其中获取无内应力的金属镀层,而且还可靠电解条件的适当调节来实现扩散渗镀的过程。本文介绍上述熔盐体系电沉积技术的研究现状和应用前景。     

熔盐电解法制备TiW合金

采用熔盐电解法直接由TiO2和WO3混合物电极制备了高W含量的TiW合金,并对电解中的电流变化、物相组成和组织演变进行了研究分析。在900℃和3.1 V的电解条件下,在熔融CaCl2熔盐中,以石墨为阳极、TiO2和WO3的混合物为阴极进行电解,采用SEM、EDS和XRD等方法对电解还原过程中的产物进行了分析。电解后可制得成分可控的钛钨合金,氧含量较低。     

熔盐电脱氧制多晶硅过程电流效率的影响因素

电流效率是熔盐直接电解脱氧制备多晶硅的一项重要指标,它涉及到电解槽的产量和电耗.如何提高熔盐电解的电流效率对多晶硅的单位时间产量、降低单位电耗等具有重要意义.采用CaCl2为电解质、SiO2粉末压制片为阴极及自制石墨棒为阳极进行了实验研究.在具体实验中测定了制备多晶硅过程中电流效率随电解时间、温度、电流密度及电极间距的变化关系.结果表明,当电解时间为6～10h、电解温度为800～900℃、电流密度为0.78～1.20A/cm2、电极间距为4～7cm时,电解效率较高.     

熔盐电脱氧法制备储氢合金CeNi_5的反应历程研究

通过NiO和CeO2的混合物经烧结后电解制备CeNi5的实验研究CeNi5的反应历程。XRD、SEM的检测结果显示高价氧化物NiO及CeO2混合片体在高温熔盐中离解出氧离子,形成的低价氧化物CeOCl,该中间产物进一步脱氧直至生成金属单质并合金化。     

熔盐电解法制备海绵钛工艺中TiO2电极制备关键技术分析

熔盐电解法制备海绵钛所用电极,既是电的传导体,又是产品的来源。在电极的制备过程中,既要保证电流的顺畅导通,又要满足熔盐渗入电极中的工艺要求,如何解决这两者之间的矛盾,是关系着该工艺能否有效实施的关键。本文对上述问题进行了探索,通过理论分析及进行各种温度下电极的电阻系数、孔隙率的实验测定,找出制备电极的较好工艺。并应用该优化工艺后的电极进行了电解实验,产品含钛量达到99.5%以上,结合试验结果对电源设备进行了改进,电解电流已达到了40安培以上,在工艺上实现了较大的突破。