倒圆锥面基底蒸发镀膜均匀性理论分析

通过计算得出了蒸发源位于倒圆锥面正下方外部镀膜时锥面上各点的膜厚方程,并对整个锥面上膜厚均匀性进行了理论分析。结果表明：当圆锥面形状固定时,蒸发源与圆锥底圆圆心距离增大使锥面上膜厚均匀性变好;当蒸发源固定时,增大底圆半径导致锥面上膜厚均匀性变差。在同样的配置下,蒸发源为点源或小平面源时锥面上膜厚均匀性的变化趋势一致,小平面源蒸镀比点源蒸镀时圆锥面上膜厚均匀性差。     

真空蒸镀铝及保护膜的表面形貌和光学性能研究

采用工业化生产流水线的真空蒸发镀膜工艺制备一系列太阳能利用铝反射镜,研究了基底材料对铝反射镜反射率的影响,利用理论分析结合试验,探讨了基底材料表面面型及微观粗糙度对真空蒸镀铝膜反射的影响。光学反射率测量显示不同基底材料的平面铝反射镜的反射率存在较大的差异,其中在ABS工程塑料上制备的铝反射膜的光学均匀性较理想,研究成果为实现低成本轻型铝太阳能反射镜的大规模生产提供了借鉴。     

真空蒸镀铝膜质量的研究

一 前言目前,塑料薄膜镀铝材料应用领域在扩大,产量在增加,对铝膜质量的要求也更严格。我们在实验室研究真空蒸发镀铝材料时,曾遇到铝膜反射率、厚度均匀性、结合强度、针孔、漏镀等质量问题~([1,2])。本文着重研究铝膜反射率,也研究铝膜针孔、折皱、划伤、漏镀、结合强度等,分析试验条件与工艺方法对铝膜质量的影响,提出解决铝膜质量问题的技术措施。     

3.6m大口径镀膜机膜厚均匀性分析

分别建立了旋转平面与球面夹具配置下的薄膜膜厚均匀性理论计算模型,对3.6 m大口径镀膜机下直径为2.6 m基板的膜厚均匀性进行了研究.为了改善膜厚均匀性,分别采用两个蒸发源和三个蒸发源进行蒸镀.薄膜的膜厚不均匀性通过理论计算模型进行优化计算得到.对于两个蒸发源,分别得到了两旋转夹具配置下的最优几何配置,对应的膜厚不均匀...     

光学塑料棱镜反射膜的镀制

由于光学塑料在耐热性、耐吸湿性和表面强度等方面的特性比光学玻璃差,所以在光学塑料棱镜表面上镀制金属反射膜存在着金属膜层和塑料棱镜表而附着性能差的问题,镀膜后的塑料棱镜不易达到使用的技术要求.本文通过对镀膜材料和光学塑料基体的特性分析,提出了一种实用的介质加金属三层反射膜系.基于这种膜系采用了等离子辅助镀膜技术和石英晶片监控膜厚的方法,并且针对塑料棱镜蒸镀的特殊性,严格控制蒸镀条件中的有关参数,形成了一套稳定的蒸镀工艺.实验结果表明,光学塑料棱镜镀制金属反射膜可以解决膜层性能差的问题,满足光学产品的技术要求,实现批量生产.     

建筑玻璃真空蒸镀薄膜厚度的理论计算

本文对建筑玻璃大面积多蒸发源真空蒸镀的膜厚均匀性进行了理论分析，给出了膜厚及其分布的计算公式和计算实例．对如何提高薄膜的均匀性进行了讨论．     

真空蒸镀氟化镁增透膜的厚度与均匀性控制

基于光学增透膜与真空蒸发镀膜的基本原理,从MgF2原料状态、原料蒸镀质量、蒸发源与基片间距等方面,研究了热电阻和电子束蒸镀的MgF2薄膜厚度与其均匀性的控制工艺,以制备出高效的MgF2增透膜。结果表明:对于颗粒度较小或熔点较低的原料,热电阻比电子束蒸镀更易控制,并可避免原料污染;原料实际蒸镀质量与膜厚呈较好的线性关系;实际蒸镀质量相同的多晶颗粒与粉末状原料相比,前者蒸镀膜更厚;基片置于旋转工转盘中心比其侧部区域蒸镀膜更厚、均匀性更好。最后利用旋转球面夹具的小平面源蒸发模型很好地解释了上述实验结果。     

光学显示双膜系PC镜片的设计与制备

光学显示仪器前的镜片需要通过镀膜来对特定波段形成高反射。以聚碳酸酯(PC)镜片作为基底,采用真空镀膜技术,在PC镜片上镀高反射膜和增透膜,研究了增透膜对消除PC镜片表面二次反射的影响。研究结果表明,PC只有前表面镀反射膜的反射曲线在530 nm处波长的反射率达到85.05%,同时在PC镜片前面镀反射膜和PC镜片后面镀增透膜的反射曲线在530 nm处波长的反射率达到78.33%。PC镜片的反射率降低了6.72%。     

椭球反射镜膜厚均匀性

本文分析了椭球反射镜膜层厚度均匀性对反射率的影响,从理论上得到膜厚计算公式。根据计算的膜厚分布设计了遮蔽板,获得较好的反射特性。     

车削铝镜红外高反射膜镀制

在红外光谱系统中使用的车削铝镜上镀制高反射膜时,由于铝镜镜面较柔软,用常规擦拭 清洗的方法易划伤镜面,可以在镀制前利用有机物熏蒸的方法清洗车削铝镜,既溶解清洗了表面附着的油污和灰尘,又保护了铝镜镜面。用该方法清洗后镀制的金膜反射率在近红外波段达到98%以上,膜层牢固,使用效果较好。     

大型金属非球面反射镜的镀膜工艺

大尺寸球面厦非球面金属反射镜在一些科学实验和工程装置中有很多用途。本文叙述了用作氙灯集光器的偏离椭球镜和作成像场镜的抛物镜两种大尺寸金属非球面反射镜的真空镀膜工艺,以及氧化硅保护铝反射膜在近紫外及可见光谱区的反射特性。着重讨论了在氧气压下进行一氧化硅气相反应蒸发对提高镜面紫外反射的作用。文中还将讨论蒸气障板在改善大口径镜面涂层均匀性方面的积极作用,并且介绍了有关金属镜面上膜层牢固性能和若干工艺问题,最后罗列了一些参数和实验结果。紫外与可见光谱区的反射率是在斯屈朗多次反射系统中进行测量的。紫外区采用了小功率石英水银灯与IP28(美)光电倍增管作为辐射源与接收器。综合能量——白光的反射率是采用一般的绝对法来测定的。关于镜面的均匀性,在本项工作中主要追求反射能量的均匀,因此不作几何厚度够测量,只观察膜层干涉颜色和实际测量反射率。     

GaInAsSb/GaSb 红外探测器抗反膜的研究

简单介绍了单层抗反膜的增透原理，并以Si片作为基片采用磁控溅射的方法制备了Al2O3、SiO2和ZrO2三种抗反膜。膜层的反射率测试结果表明：生长ZrO2膜后表面反射率下降可达30％；同时通过对GaInAsSb／GaSb PIN红外探测器蒸镀抗反膜前后的器件的I-V特性及黑体探测率的测试表明：蒸镀ZrO2膜后GaInAsSb／GaSb PIN红外探测器的黑体探测率平均提高了60．28％，远大于蒸镀Al2O3、SiO2后的48．91％和40．04％，说明ZrO2膜是一种较理想的单层抗反膜，使器件性能有所提高。     

电子束蒸发与磁控溅射制备Al/PI复合薄膜的性能研究

利用磁控溅射法和电子束蒸发法在聚酰亚胺(PI)薄膜基底上沉积了铝功能膜.测试了两种方法薄膜的膜厚、附着力、反射率、折射率和电导率.结果表明,磁控溅射法制备的铝膜的综合性能较电子束蒸制备的铝膜的性能优越.     

Si基片上Au膜真空紫外反射特性研究

对Si片上Au膜在真空紫外波段的反射特性进行了系统的研究.采用离子束溅射,选择不同的镀膜参数,在经不同前期清洗方法处理过的Si片上,镀制了各种厚度的Au膜.利用科大国家同步辐射实验室的反射率计,对Au膜在真空紫外较宽波长范围内的反射率进行了连续测量.测试结果表明Si片上Au膜厚度和辅助离子源的使用方式对Au膜反射率有重大影响,而镀前基片表面清洗工艺等对反射率影响不显著.采用辅助离子沉积或镀前离子清洗,可提高Au膜反射率;但离子清洗和辅助离子沉积同时使用会给反射率带来显著的不利影响.膜厚在30 nm左右,55°入射角时反射率最高,可高达40%.     

基于SPR的多层金属膜厚在线纳米测量

通过对于首层金属膜的SPR反射光强曲线的分析利用两峰值点标记角度,同时用柱面光与CCD测量系统建立无机械测角转台的反射光强角度分布测量系统。根据CCD接收的光强与位置对应信息经计算机处理换算为光强角度分布曲线,并通过与库内的曲线数据进行匹配而获得膜厚数值。利用该系统对铬钛银铝等常用金属薄膜进行了在线测控研究,得到了纳米级金属薄膜的膜层蒸镀顺序与相应的膜厚测量范围。     

椭球反射镜膜厚均匀性与工艺技术的探讨

讨论了深紫外曝光系统中椭球反射镜镀制装置在薄膜沉积中的镀制条件对膜厚和膜厚均匀性的影响,计算了椭球镜的膜厚均匀性并对如何改善椭球镜膜厚分布作了介绍,实验得到均匀性符合要求的反射镜。     

金属蒸镀膜的附着力测定

1.前言 对于蒸镀膜在基板上的附着强度和把该膜从基板上剥离下来时的破坏过程的研究,在考虑蒸镀膜应用技术及其膜的持久性时是重要的。并且,做为蒸镀膜的物性研究也是很有兴趣的问题。 在这里通过真空蒸镀法就测定玻璃基板上蒸镀金属(银、铜、铝)的附着力、膜厚度的依存性以及基板温度的依存性的结果进行报告。 2.试验材料的制作 附着力测定时所用材料(银、铜、铝)的蒸镀是采用扩散泵排气系统进行排气的真空室。试验材料的纯度用99.999～99.99%在锦蒸发器中进行加热,其蒸发速度为2～4A/s。蒸镀过程中的真空度为4 × 10-3帕。基板采用 26 ×…     

光学显示PC镜片多层反射膜的设计与制备

光学显示仪器前的镜片需要通过镀膜来对特定波段形成高反射,国内绝大多数的光学显示镜片还是玻璃,本文以聚碳酸酯(PC)镜片作为基底,采用真空镀膜技术,在聚碳酸酯(PC)镜片上镀高反射膜,研究了不同膜系结构(层数不同)的反射膜对特定波段的反射效果。研究结果表明,采用了5层膜的设计,PC在可见光区的400nm波段到700nm波段的最高反射率从9.5%上升到85%。PC在特定波段的反射率得到了明显的提高。     

真空蒸镀铝工艺和镀铝包装的制作

制作塑料软包装材料中的铝箔，分压延铝箔（金属纯铝箔）和真空镀铝薄膜。用99．00％～99．97％的电解铝．经过多次压延制成的铝膜是压延铝箔（金属纯铝箔）。在真空的状态下用蒸镀的方法将99．99％以上的高纯铝蒸镀附在BOPET（聚醢）、BOPP（双向拉伸聚丙烯）、CPP（流延聚丙烯）、PVC（聚氯乙烯）或CPE（流延聚乙烯）等塑料薄膜上——这种镀铝的塑料薄膜称为真空蒸镀铝薄膜。     

行星周转镀膜装置设计

针对现有的蒸镀圆柱形腔体杜瓦镀膜工艺存在工艺繁琐、膜层不均匀等问题,设计了行星周转镀膜装置。该转台针对镀膜机内特殊环境特点,采用摩擦行星轮组设计,优选材料,优化结构,对标准件进行特殊处理,最终实现行星周转镀膜装置的无污染、重量轻、负载小、运转稳定、方便清洁、易于调整等要求。该行星周转镀膜装置的使用,使圆柱形腔杜瓦在公转时实现自传,实现圆柱形腔杜瓦的一次蒸镀,克服原有的三次平面蒸镀带来的问题。试验结果表明:杜瓦镀金引线膜层在粘附性、均匀性等关键指标上均优于原蒸镀方式,在实现产品质量提高的同时,降低了生产成本,提高了生产效率。