高纯氮中痕量杂质定量方法的研究及其应用

编辑按：为向广大计量工作者介绍我国计量领域科技成果及其发展水平，宣传计量科技成果所产生的社会效益和经济效益，从本期起，科学计量栏目将对1995年、1996年度计量科技成果奖项目进行系列报道。也希望获奖者踊跃投稿。高纯气体在电子、石化、煤炭、医疗卫生等许多部得到了广泛应用。也是气体计量的基础物质之一。研究高纯气体中痕量杂质的定量方法，是气体计量的重要环节，对评价高纯气体产品质量，提高标准气体的准确度有重要意义。高纯氮是应用最广泛的高纯气体之一。高纯氮中痕量杂质主要有H2、CO2、CO、CH4、Q2、H2O等，对这些…     

使用改装的SP-2305型气相色谱仪测定气体中的微量杂质

使用氢火焰离子化检测器时,通过加装镍触媒转化管的方法,实现高纯气体中微量CO,CO2,CH4的测定.     

保定市北方特种气体有限公司4．5N高纯乙硼烷全杂质分析方法研发成功

2010年9月，保定市北方特种气体有限公司经过一年的实验，成功研发高纯乙硼烷中的O2，N2，CH4，C2H6，CO，CO2，CH3Cl的分析方法，     

电子级八氟环丁烷中杂质含量的测定

介绍了一种利用氦离子化检测器(DID)分析高纯八氟环丁烷中微量O2、N2、CO、CO2、C3 F6的方法.该方法对杂质的检测限能够达到0.01×10-6,结果表明,该方法能达到较高的灵敏度和较低的检测限.     

高纯一氧化碳制备方法进展

介绍了现有的高纯CO生产技术及其特点,对我公司采用的甲醇裂解工艺进行了描述,并对日后的发展趋势进行了展望。     

P5100系列氦离子色谱仪测定高纯气体中微量永久性气体杂质的应用

介绍了P5100系列氦离子色谱仪测定高纯气体中微量永久性气体杂质的应用。P5100系列氦离子色谱仪采用三阀三柱设计,通过阀切换和选择性切割技术可一次进样同时分析H_2、O_2/Ar、N_2、CH4、CO、CO_2等永久性气体。同时可实现对上述种类气体的高纯气体中微量永久性杂质的有效分析。CO_2、H_2、O_2/Ar、N_2、CH_4、CO的最低检出限(×10~(-6))分别为0. 0291、0. 0183、0. 0192、0. 0187、0. 0195、0. 0273,满足高纯气体中微量杂质的分析要求。     

电子级高纯氯的研制

进行了以工业氯为原料，取化学处理的沸石为致附剂，用吸附冷凝法，制取优于99．995％的电子级高纯氯的试验研究。测定了H2O、COx的穿遥吸附容量和CO2的穿透曲线，介绍了吸附剂的筛选，再生、冷凝与尾气氯处理等试验结果。     

高纯液态二氧化碳的生产方法与装置

本发明是关于高纯液态CO2的生产方法及装置。用该生产方法和装置，能获得比用以往生产方法制得的99．9％纯度更高的产品。     

集成电路用高纯金属溅射靶材发展研究

高纯金属溅射靶材是集成电路用关键基础材料，对实现集成电路用靶材的全面自主可控，推动集成电路产业高质量发展具有基础性价值。本文分析了集成电路用高纯金属溅射靶材的应用需求，梳理了相应高纯金属溅射靶材的研制现状，涵盖高纯铝及铝合金、高纯铜及铜合金、高纯钛、高纯钽、高纯钴和镍铂、高纯钨及钨合金等细分类别。在凝练我国高端靶材制备关键技术及工程化方面存在问题的基础上，着眼领域2030年发展目标，提出了集成电路用高纯金属溅射靶材产业的重点发展方向：提升材料制备技术水平，攻克高性能靶材制备关键技术，把握前沿需求开发高端新材料，提升材料分析检测和应用评价能力。研究建议，开展“产学研用”体系建设，解决关键设备国产化问题，加强人才队伍建设力度，掌握自主知识产权体系，拓展国际合作交流，以此提升高纯金属溅射靶材的发展质量和水平。     

特气文献索引

1.高纯一氧化碳的制备日本特许 72 16,408 2.高纯一氧化碳的制备日本特许 74 34,599 3.纯一氧化碳的工业生产 Justa, S. ; Tech. Chem. (Prague)(捷克文),66,22,1978. 文中叙述了纯度为99～99.9体积％的CO的工业生产方法。该法是基于以PhMe溶液中的