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电弧离子镀沉积膜层具有放电温度高、离化率高和沉积速率快等特点,可以在较低温度下促进Si—C成键,是获得含Si—C键膜层的一种经济实惠的方法。本文使用Ti—Si合金靶,在Ar和C2H2气体环境下,在铝合金衬底上制备了Ti—Si—C膜层,并分析和研究了不同弧流下沉积膜层的相组成、磨损和腐蚀性能。结果显示,不同弧流下沉积的膜层是由B1型TiC相、立方结构的SiC相和金属Ti相组成的复合结构;大弧流由于放电温度高,有利于膜层中Si—C键的形成.弧流增加,靶材蒸发速率加快,沉积膜层的厚度增加,同时,由于靶材附近单位时间内气化和离化的Si和Ti数量增加,沉积膜层中Si和Ti含量和增加而C含量降低.弧流增加,膜层中碳化物总含量减少,造成膜层摩擦系数逐渐增加而耐磨性降低,但膜层的耐腐蚀性能增加.适当弧流下的沉积膜层可获得优异的磨损和腐蚀综合性能. 相似文献
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采用等离子体沉积技术在医用NiTi合金表面制备非晶SiOx:H纳米膜层,并对改性后材料表面化学及膜层晶体结构等进行表征.结果表明,通过控制TMS和O2两种单体流速比和沉积时间,可控制材料表面亲疏水性和SiOx:H纳米膜层厚度.反应沉积的SiOx:H具有非晶的结构.其最优化条件为;μ(TMS):μ(O2)=1:4,系统压力3.33Pa,D.C 5W,沉积时间4min.所制备的膜层厚度约为45nm,表面去离子水接触角为30~40°.SiOx:H纳米膜层改性NiTi合金表面可提高材料的抗腐蚀性能. 相似文献
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铝合金表面液相沉积抗菌层的性能研究 总被引:2,自引:0,他引:2
银可用作金属表面抗菌功能层的有效成分,从而拓宽金属材料在日用家电产品中的使用范围.为此,通过液相沉积的方法在铝合金表面制备出金属银的颗粒膜层,对沉积工艺、沉积膜层抗菌性能以及沉积层与基体结合力等进行了初步的探讨和研究.结果表明,通过液相沉积法在含1.0×10-3 mol/L硝酸银、1.0 mol/L己二胺配位剂、1.5×10-3 mol/L硼氢化钾、pH值为13的溶液中,在300 r/min搅拌下沉积1 min,可在铝合金表面沉积出粒度为1 μm以下的银颗粒,沉积层与铝合金基体有良好的结合力,蒸煮试验表明抗菌层无鼓泡、无脱落现象发生;铝合金抗菌层的表面抗菌测试结果表明,抗菌沉积层对大肠杆菌的杀菌率可达到96%以上. 相似文献
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电子能量损失谱(ELS)在材料分析研究中有广泛应用。提出了用于 ELS 的新型单色电子枪原理,并介绍了基于这一原理而研制的单色电子枪。它具有束流大、可与筒镜电子能量分析器同轴安装、结构简单、磁屏蔽要求低等特点,为 ELS 与 AES 联合应用进行准确的原位分析提供了可能。研制的单色电子枪的实测结果为:束流约1×10~(-7)A,单色性ΔE<100meV。 相似文献