离子渗金属扩散方程解对表层合金贫化的提示

对建立的离子渗金属扩散方程用计算机求出其差分解,结果显示,离子渗金属扩散方程解近似为高斯分布,这提示高温渗金属扩散过程不会产生基体中的合金贫化,实验也实表层贫化发生在冷却过程中,渗金属之后冷却时,表层较多的金属间化合物从基体中析出是造成表层贫化的主要原因。     

双层辉光离子W—Mo共渗层中的溶质贫化现象研究

论述了双层辉光离子钨钼共渗层中的沿晶界贫化，表面贫化和晶内析出物μ相周围的贫化现象，分析了贫化的形成原因及其对工件性能的影响，提出了消除贫化现象的方法。     

双辉渗金属放电效应及电极结构设计原理

介绍了双层辉光离子渗金属技术的基本原理和技术特点,源极、阴极及辅助阴极设计的基本原则,离子渗金属的两种放电模式及其产生的效应,总结了渗金属电极几何结构设计原理.双层辉光离子渗金属技术主要有3个技术特点:固体材料的阴极溅射、形成有利溅射和扩散的高温条件和增加等离子放电的空心阴极效应.其放电模式为:独立放电模式和空心阴极放电模式.源极和阴极设计原则依据双层辉光离子渗金属的特点和放电模式,为"仿形"原则.     

双层辉光离子渗金属渗入机理的研究

本文从理论上分析了双层辉光离子渗金属的溅射问题及渗入机理，提出了四种渗入模型。     

TLP扩散焊过程中近表面区域元素贫化控制研究

为了控制TLP扩散焊过程中近表面区域元素贫化,通过对IC10合金TLP扩散焊不同充氩分压量实验,测试分析充氩分压对表面Cr元素含量的影响和对焊接组织性能的影响。实验结果表明:TLP扩散焊真空充氩分压能控制表面Cr元素贫化层厚度在4μm左右,能有效控制TLP扩散焊过程中的表面元素贫化问题;焊接保温20min后开始分压,对焊接接头组织性能无不利影响;焊后进行热处理,能提高焊接强度,恢复基体组织性能。添加涂层后,经过扩散处理,贫Cr层消失。     

双层辉光离子渗金属中W-Mo合金供给源的研究

研究了双层辉光离子W-Mo共渗时，提供合金元素的W-Mo合金源极的表面成分和形貌变化．结果表明：在氩离子的轰击下，W-Mo合金源极表面在在明显的择优溅射，在稳定态达到之前有一定的过渡期，并最终形成一定成分范围的微循环择优溅射．     

表面成分AES和XPS定量分析中的离子溅射修正

低能离子溅射是表面分析中清洁固体表面和深度剖面分析的主要手段之一。由于离子溅射改变了固体表面化学成分，引起表面成分的再分布，使俄歇电子谱、X射线光电子谱以及二次离子质谱等表面分析手段，对溅射后固体表面成分的定量分析结果与实际结果有较大的差别。本文以离子溅射合金表面成分达到平行时择优溅射、离子轰击诱导偏析和增强扩散效应之间动态平衡状态的假设为基础，得到了一个与择优溅射、离子轰击诱导偏析和增强扩散修正因子有关的离子溅射修正因子的分析表达式，并将其应用于Ag－Pd合金的离子溅射定量修正计算，发现计算结果能够与实验结果较好地吻合。解释了合金离子溅射修正因子随离子参数的变化。     

离子渗钨钼手用锯条齿部合金层含碳量的研究

经理论分析及试验研究，提出了双层辉光离子渗钨钼手用锯条齿部合金化层含碳量的确定方法，导出渗碳时计算齿部合金化层含碳量的经验公式，通过淬火，回火及切削试验选了了离子渗钨钼手用锯条齿部的最佳含碳量。     

露天钼矿开采降低矿石损失贫化的技术措施

矿床开采中出现矿石损失与贫化是不可避免的，但是如果能在开采中降低损失与贫化有着极其重要的经济意义。本文主要对造成矿石损失贫化的原因及解决措施进行论述。     

等离子体辉光溅射反应复合渗镀合成TiN的研究

本文介绍了一种新的制备TiN的工艺方法.利用辉光放电溅射现象、尖端放电和空心阴极效应,在钢铁材料表面直接复合形成TiN渗镀扩散层.用X射线衍射、辉光放电剥层成分分析仪、显微硬度仪等方法,对复合层进行分析.结果表明:本研究方法复合形成的TiN渗镀层,TiN呈溶质固溶于基体表面层中,呈梯度沿基体向内分布.该表面复合层与一般表面沉积的TiN层不同,是冶金结合扩散层,不会产生剥落现象.在1020 ℃复合形成渗镀层时,层深可达15 μm左右,并得到择优取向为(200)晶面的TiN相,渗镀TiN层的表面硬度随渗镀温度的提高而增加,渗镀TiN层随渗镀温度的升高而增厚.     

钛合金表面磁控溅射离子渗镀铜的烧蚀特性研究

针对一定条件下钛合金的易燃以及在双层辉光离子渗铜中铜源极易熔的问题,采用了磁控溅射的技术,在Ti6Al4V的表面进行铜元素的渗镀,形成的Ti-Cu阻燃合金层以提高其阻燃性能.研究溅射功率、溅射时间、工作气压等工艺参数对铜渗镀层厚度的影响后,发现0.6 Pa的工作气压、180 W的溅射功率、3 h的溅射时间为优化工艺参数.XRD结构分析表明,Ti6Al4V样品表面形成了含CuTi2相的合金层;激光烧蚀实验表明,钛合金渗铜层的阻燃性能提高了2倍以上,但表面纯铜薄膜层对阻燃性能没有帮助.     

纯铜双层辉光离子渗镍研究

介绍了采用双层辉光离子渗金属技术在纯铜表面制备Cu-Ni合金层的新方法,讨论了Cu-Ni合金层的组织、成分和性能特点,分析了辉光放电条件、源极溅射率及表面金属势对Cu-Ni合金层形成过程的影响.试验结果表明渗层厚度及渗层质量与辉光放电条件有关,在保证渗金属温度的前提下,应尽可能提高源极电压,降低试件电压.此外,该工艺还具有渗速快、效率高、无污染等优点.     

铜渣中铜的回收工艺及新技术

综述了几种铜渣贫化技术。基于铜渣的物相结构,分析了铜渣火法贫化、湿法提取及缓冷选矿3种方法的贫化机理,并讨论了各方法的贫化效果。结合氯化法在处理复杂物料中的优势,为实现渣中铜的高效提取,提出了一种铜渣氯化焙烧-烟气捕集回收铜的研究思路。     

镧镨铈混合稀土对热浸渗铝的影响

镧普铈混合稀土（LPC）是新型专利成分的混合稀土。研究了LPC对热浸渗铝层组织和耐腐蚀性的影响。结果表明，在铝液中加入LPC，使渗层组织细化、均匀，渗层前沿整齐。加入LPC后，渗层无论是否经过扩散处理，耐蚀性能均明显提高。扩散前，其耐蚀性是不加稀土渗层耐蚀性的1．3倍，扩散后其耐蚀性是不加稀土渗层耐蚀性的3倍。     

射频磁控溅射中离子输运的计算机模拟

采用射频辉光放电等离子体壳层模型和蒙特卡罗法，模拟了射频磁控溅射镀膜中工作气体离子(Ar^ )的输运过程，得到了离子到达靶面时的入射能量、角度和位置。模拟结果：对靶材溅射的离子主要来自于溅射坑上方的等离子体区域，初始离子的位置分布可通过靶材溅射坑的形貌拟合得到；离子的能量主要集中在壳层电压附近，离子大多数以垂直入射。模拟与实际相符，可用作进一步模拟离子对靶材溅射时的输入参数。     

多弧离子渗金属技术

本文用阴极电弧源做离子金属源，源极的靶材用Ti,Ai，不锈钢制铸，源因产生冷阴极弧光放电而产生金属等离子体，形成高密度的金属离子流，基板由钢材制成，施加适当的负偏压，在基板负偏压作用下，金属离子轰并加热基板至900℃或1100℃，金属原子渗入钢中形成高渗速金属层，文中侧试了渗金属层的组织形貌和Ti,Al,Cr,Ni在渗层中的分布，结果表明阴极电弧源离子湖金属技术是新的金属等离子体表面合金化技术，是对多弧离子镀的发展。     

离子渗金属阴极表面空位浓度分布及对扩散的影响

本文对双层辉光离子渗金属中离子轰击工件表面造成的空位进行了理论计算，指出沿工件表面向内有一空位分布区，这一空位分布区将对渗入元素原子的扩散速度起促进作用。     

高性能结构材料技术：提高金属表面耐磨耐蚀的双辉渗金属技术

提高金属表面耐磨耐蚀的双辉渗金属技术是由太原理工大学和北京科技大学联合研制开发的基于提高合金表面耐磨耐蚀的一种新型的表面改型技术。该技术于1985年获得美国专利，而后技术发明人又对该项技术进行了系统的研究和进一步完善。双层辉光渗金属技术是等离子表面冶金新技术，其基本原理是利用低真空条件下的气体辉光放电所产生的等离子体，使普通材料表面形成具有特殊物理化学性质的合金层，合金层中合金元素含量可以在百分之几到百分之九十以上的范围内变化，合金层厚度可以达到数百微米，如在普通钢表面形成高速钢、不锈钢和镍基超合金等。由于双层辉光渗金属技术是低温等离子技术与传统渗金属技术的有机结合，渗层是依靠扩散方法形成的，合金元素在表面与基体之间成梯度分布，渗层与基体之间是靠形成合金结合起来的，因此结合非常牢固，渗层不易脱落，这是金属涂镀技术所不及的突出优点。由此，该项技术开创了表面冶金新领域，具有广阔的市场应用前景。本项目属于国家“863”计划。     

Al-Mx金属多层膜的红外特性研究

利用红外光谱仪分析了用离子溅射技术制备的Al-Mx金属多层膜的红外特性.结果表明,在2000～4000cm-1波段多层膜具有良好的红外吸收特性,并推导了多层膜对特定波段的红外波的吸收公式.     

阴极辉光放电电压对离子渗氮的影响

利用离子渗氮设备对38CrMoAl钢件进行离子渗氮处理,研究不同阴极辉光放电电压(500~800V)对渗氮层的组织和性能的影响。试验结果表明:外辅助加热式当阴极辉光放电电压低于600V时可以获得纯扩散层的渗氮层组织,超过600V后,渗氮层表面出现含有脉状组织的白亮化合物层,并且随阴极电压的升高,渗氮层中的脉状组织越来越严重。由此可以得出结论,离子渗氮的阴极辉光放电电压能改变炉内渗氮气氛的氮势。