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相似文献
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1.
本文用GSMBE技术生长纯度GaAs和δ-掺杂GaAs/Al_xGa_(1-x)As结构二维电子气材料并对其电学性能进行了研究。对于纯度GaAs的GSMBE生长和研究,在低掺Si时,载流子浓度为2×10~(14)cm~(-3),77K时的迁移率可达84,000cm~2/V.s。对于用GSMBE技术生长的δ-掺杂GaAs/Al_xGa_(1-x)As二维电子气材料,在优化了材料结构和生长工艺后,得到了液氮温度和6K迁移率分别为173,583cm~2/V.5和7.67×10~5cm~2/V.s的高质量GaAs/Al_xGa_(1-x)As二维电子气材料。  相似文献   

2.
渗透蒸发与化学反应耦合过程的研究(Ⅱ):模型验证   总被引:1,自引:0,他引:1  
针对乙酸异戊酯合成反应体系,采用改性的PAmA-PI渗透蒸发膜进行渗透蒸发与化学反应耦合过程的试验研究.在给定的实验条件下,可以回归出如下数学模型:η=0.5155exp(750.5RT)ln[1+770.0C2Aoexp(-6448RT)(1-ε)(Π-ε)-14.55exp(-592.2RTηε2C2Ao]/CAoε它能较准确地描述渗透蒸发与乙酸异戊酯合成反应过程,在相似反应条件下,可以预测改变其它变量的变化趋势,从而给渗透蒸发膜反应器的优化设计提供了理论依据  相似文献   

3.
进行了PAA(PolyacrylicAcid)-PSF(Polysulfone)交联复合膜的制备,研究了交联剂、添加剂对膜性能的影响,并通过扫描电镜观察了膜的断面结构.研究了PAA-PSF交联复合膜对低浓度有机醇类水溶液反渗透分离性能.发现对于1000×10-6乙醇水溶液截留率达到66.2%,透过流束可达0.9×10-6(m3·m-2·s-1).随醇的分子量的增加,截留率不断上升,对戊醇的截留率达94.3%,而透过流束则保持相对稳定.对不同结构醇类的分离性能研究表明,截留率存在有:tert->sec->iso->n-的规律.  相似文献   

4.
超负磁致伸缩晶体Sm—Fe,Sm—Dy—Fe和Sm—Dy—Fe—Al的研究   总被引:1,自引:0,他引:1  
本文研究了轻稀土负磁致伸缩SmFex(1.40≤x≤1.94),SmxDy1-xFey(0.84≤x≤0.92,1.80≤y≤1.90),Sm0.90Dy0.10(Fe0.95Al0.05)1.80晶体的制备,热处理及磁学性能,发现SmFex合金的λ-x曲线存在两个峰值,峰值的x点热处理发生的变化有一定的规律性,还比较了热处理前后,Sm-Fe、Sm-Dy-Fe和Sm-Dy-Fe-Al的相组成对性能  相似文献   

5.
本文研究了轻稀土负磁致伸缩SmFe_x(1.40<x<1.94),Sm_xDy_(1-x)Fe_y(0.84<x<0.92.1.80<y<1.90),Sm_(0.90)Dy_(0.10)(Fe_(0.95)Al_(0.05))_(1.80)晶体的制备、热处理及磁学性能,发现SmFe_x合金的λ-x曲线存在两个峰值,峰值的x点随热处理发生的变化有一定的规律性,还比较了热处理前后,Sm-Fe、Sm-Dy-Fe和Sm-Dy-Fe-Al的相组成对性能的影响。热处理用于改善磁致伸缩性能,并且制得了高磁致伸缩性能的SmFe_2和(Sm,Dy)Fe_2合金。  相似文献   

6.
为了研究真空系统中烘烤时对出气率与抽速关系的影响,在室温条件下未经烘烤和在室温条件下经过温度为100℃和250℃烘烤的情况下,对出气率与抽速的关系进行了测量。测量所得出气率q(Torr,l/s,cm^2)遵循指数规律:q=(Cs/A)^m,其中,c和m(0〈m〈1)为常数:S/A为抽气参数,其定义为抽速S(l/s)与真空容器表面积A(cm^2)之比,S/A的变化范围从2.46×10^-5到1.26  相似文献   

7.
本文报导了非故意掺杂InGaAsSb本底浓度的降低和掺Ten型GaSb和InGaAsSb的MBE生长与特性的研究结果。结果表明,通过生长工艺的优化,GaSb和InGaAsSb的背景空穴浓度可分别降至1.1×10~(16)cm~(-3)和4×10~(16)cm~(-3),室温空穴迁移率分别为940cm2/v.s和260cm~2/v.s。用Te作n型掺杂剂,可获得载流子浓度在10~(16)~10~(18)cm~(-3)的优质GaSb和InGaAsSb外延层,所研制的材料已成功地制备出D_λ~*=4×10~(10)cmHz~(1/2)/W的室温InGaAsSb红外探测器和室温脉冲AlGaAsSb/InGaAsSb双异质结激光器。  相似文献   

8.
Al-12.6%Si薄带双辊快速凝固成形试验研究   总被引:3,自引:0,他引:3  
运用双辊快速凝固方法将液态Al-12.6%Si合金直接制备成厚度为0.1 ̄0.5mm的薄带。介绍了这一方法的基本原理、特点和试验设备设计中的关键问题。辊面可控线速度Vr为2 ̄8.5m/s,薄带厚度正比于Vr^-1/2。薄带组织为细小的初晶α-Al和极细小的(α-Al+Si)共晶体,塑性和抗拉强度得到明显改善.  相似文献   

9.
用金属有机物气相外延方法在(0001)蓝宝石衬底上生长了AlxGa1-xN/GaN二维电子气结构。Al0.13Ga0.87N(700nm)/GaN(600nm)异质结的室温电子迁移率达1024cm^2/Vs,而GaN体材料的室温电子迁移率为390cm^2/Vs;该异质结的77K电子迁移率达3500cm^2/Vs,而GaN体材料的电子迁移率在185K下达到峰值,为490cm^2/Vs,77K下下降到  相似文献   

10.
磁控溅射Fe-N薄膜的结构和性能   总被引:3,自引:0,他引:3  
研究了氮流量对磁控溅射Fe-N薄膜的磁性和结构的影响.加氮薄膜的软磁性能明显优于纯铁的.当氮的流量为1.0mL·min~(-1)时,矫顽力 H_c达到最小值205A/m.当氮流量为0.8mL·min_(-1)时,饱和磁化强度达到M_s=2.36T.在 Fe-N薄膜中未发现γ’-Fe4N和 α”-Fe16N2.  相似文献   

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