不同晶态比条件下氢化纳米硅薄膜的力学性能

采用射频（radio frequency，RF，13.56MHz）和直流偏压双重激励源，在等离子增强化学气相沉积（plasma-cnhanced chemical vapor deposition，PECVD）系统下制备了康宁玻璃7059衬底上的氢化纳米硅薄膜保持射频功率、反应室气压、直流偏压值和衬底温度等工艺参数不变的情况下，主要改变硅烷稀释度（silanc concentration．sc）从1％到0．5％当SC减小时，薄膜的晶态比Xc反而出现了增大现象，表明较低的SC有利于薄膜结构中晶态成分的形成．当SC减小到0．5％时，气则出现最大值54．2％.文中具有不同薄膜晶态比的样品力学性能采用美Hysitron公司的Tribolndenter纳米压痕系统进行测量，薄膜的杨氏模量和硬度值利用Oliver和Pharr的解析方法得出．结果表明：当薄膜的Xc从50．5％增大到54.2％时，薄膜的杨氏摸量和硬度值都大大增加，这种现象的产生是由于不同Xc的薄膜具有不同的晶态微结构，因此薄膜的Xc值在很大程度上决定薄膜的力学性能.     

固相接枝聚丙烯的晶态结构和热行为

采用广角Ｘ射线衍射（ＷＡＸＤ）和差示扫描量热法（ＤＳＣ），研究了固相接板反应对聚丙烯晶态结构和热行为的影响。结果表明，聚丙烯用马来酸酐固相接枝后，晶面间距基本不变，微晶尺寸增大，熔点降低，结晶度略有提高。     

热致液晶共聚酯多相结构的研究

用差示扫描量热（ＤＳＣ），广角Ｘ射线衍射（ＷＡＸＤ）和偏光显微镜（ＰＬＭ）等方法对ＰＨＢ８０／ＰＥＴ热致液晶共聚酯的凝聚态结构进行了研究。结果表明，这种共聚酯的分子链序列分布并不是无规的，并具有ＰＨＢ富集相和ＰＥＴ富集相的多相性质，在这些富集相区内分别存在着由ＰＥＴ和ＰＨＢ组分所形成的晶态结构。此外，在共聚酯中还存在着由较长ＰＨＢ均聚序列所形成的不熔性晶态结构，对这种不熔性微晶产生的原因进行了分析     

溶胶-凝胶法制备纳米SrBi2Ta2O9的晶化过程和晶粒长大研究

以乙二醇为溶剂，醋酸为催化剂，部分无机盐代替醇盐的溶胶-凝胶工艺制备了不同平均晶粒尺寸的纯SrBi2Ta2O9(SBT)纳米粉末，晶相粉末晶粒大小为4—70nm．用XRD、TG．DTA、TEM系统研究了SBT纳米相的形成过程．通过改变干凝胶的热处理温度和热处理时间，研究了温度与时间参数对SBT晶粒长大的影响规律．研究表明，碳的燃烧和二氧化碳的蒸发对纳米团簇的长大具有一定的阻碍作用．SBT相的晶化行为分为金属．氧团簇向玻璃态转变和玻璃态到晶态的转变过程，玻璃态到晶态的转变温度区间为500—550℃．两个过程的长大激活能分别为：Ea1=0．709eV，Ea2=0．093eV．温度是晶粒长大的主要因素，热处理时间对晶粒长大影响不明显．     

液晶高分子

我们都知道自然界的物质有三种基本状态：晶态、液态、气态，其实还有很多我们不熟悉的其他状态，例如等离子态（plasmas）、非晶固态（amorphous solids）、超导态（superconductors）、中子态（neutron state）、液晶态（liquid erystals）。     

光色玻璃结构因子[Ψ]与材料改性的研究

本文研究了Ｒ２Ｏ（ＲＯ）－Ａｌ２Ｏ３－Ｂ２Ｏ３－ＳｉＯ２系光色玻璃基础组成、结构因子［Ψ］与光色玻璃饱和变暗透射率（ＴＤ）的温度系数ｆ（ＴＤ）（简称温度系数）的相互关系。研究结果表明，光色玻璃的温度系数ｆ（ＴＤ）随结构因子［Ψ］的变化具有一定的规律性。随着结构因子［Ψ］的增大，即当［Ψ］＝０．２８￣０．３５时，光色玻璃的温度系数ｆ（ＴＤ）出现了较小值。根据以上结构，探索并研制出了具有较好光色性能即     

ZrO2@Al2O3陶瓷涂层耐蚀性能研究

用溶胶－凝胶（sol-gel)法在不锈钢表面制备xZrO2.yAl2O3陶瓷涂层,用X射线衍射（XRD）和扫描电子显微镜能谱仪分析了涂层组成与结构;用金相显微镜观测了涂层的孔隙率;用浸泡法和高温抗氧化性试验研究了涂层的耐腐蚀性能。结果表明：xZrO2.yAl2O3涂层随二组分含量的趋近,结构从晶态转变成微晶与玻璃态混合组成,直至完全的玻璃化,涂层致密度提高,耐高温和耐腐蚀性能依次增强。     

镁基金属玻璃的形成能力及塑性研究进展

相对于晶态镁合金,镁基金属玻璃因其高强度、耐腐蚀性等特性,近年来引起了人们的普遍关注.然而它较低的玻璃形成能力及室温脆性却是其走向工业应用的瓶颈,因此该领域的研究主要集中于通过成分设计、添加第二相等方法来提高其玻璃形成能力和塑性.综述了其最新研究进展并提出了当前的研究重点.     

氮对纳米硅氮薄膜品化的影响

在电容式耦合等离子体化学气相沉积系统中，用高氢稀释硅烷和氮气为反应气氛制备纳米硅氮（ｎｃ－ＳｉＮｘ：Ｈ）薄膜结果表明：当Ｎ＿２／ＳｉＨ＿４气体流量比（Ｘｎ）从１增加为４时，薄膜的晶态年从５８％降至１４％，晶粒尺寸从１０ｎｍ降至５ｕｍ，Ｎ／Ｓｉ含量比从０．０３增至０．１２．当Ｘｎ≥５，则生成非晶硅氮（ａ－ＳｉＮｘ：Ｈ）薄膜．当Ｘｎ从１增加为１０时，薄膜暗电导率从１０￣（－５）（Ωｃｍ）￣（－１）降至１０￣（－１１）（Ωｃｍ）￣（－１），具有逾渗行为，这与薄膜的晶态率紧密相关．     

成纤过程中PAN纤维聚集态结构的形成

采用X射线衍射、声速法研究了成纤过程中PAN纤维晶态结构和取向态结构的变化规律。结合扫描电镜观察纤维的截面形态，研究成纤过程中PAN纤维聚集态结构的形成过程。结果表明，在成纤过程中，纤维晶态结构主要形成于凝固成型阶段，可以用两相模型（“准晶”区和无定型区）来描述；而取向态结构主要受两段牵伸控制，其中前牵伸对晶态结构的完善起到相当关键的作用，再牵伸则主要提高纤维的取向度；干燥致密化过程有利于晶区的生长和完善，同时固定了纤维的取向态结构。