镍钨合金镀层结构的研究

采用硫酸镍、钨酸钠和柠檬酸三钠为基本组分的镀液,通过电镀的方法在紫铜试片上沉积得到了镍钨合金镀层.讨论了电解液的组成、阴极电流密度、温度及pH值对镀层组成和结构的影响.根据X射线衍射试验结果,研究了镀层结构的形成过程.结果表明,该Ni-W镀层是以Ni为溶剂原子、W为溶质原子的置换型固溶体结构,随着镀层中W含量的增加,晶粒尺寸明显下降,晶粒逐渐细化.     

电沉积Ni—Cr—Fe—P非晶态耐蚀性合金镀层

通过正交试验和电镀实践，优化了镀液配方，获得了Ｎｉ－Ｃｒ－Ｆｅ－Ｐ非晶态合金镀层。对镀层进行了ＸＲＤ、金相分析、ＳＥＭ、能谱分析、热重和差示热分析及电化学分析测试，证明镀层具有远优于锈钢的高耐蚀性和抗氧化性。     

电沉积非晶态铬—铁合金镀镀层研究

研究了从三价铬的硫酸盐体系中电沉积Ｃｒ－Ｆｅ合金镀层的工艺以及镀层的形貌、结构和性能。利用该工艺获得了厚度３０μｍ以上、铁含量（２０－３０）％的Ｃｒ－Ｆｅ合金镀层。实验结果表明，该镀层表面结瘤状，含有大量微裂纹，为非晶态结构，具有可热处理性。在６００℃下热处理１ｈ后硬度最高可达１４００ＨＶ以上，因此，可作为经济、耐磨性镀层使用。     

电沉积镍—钨非晶态合金及其耐蚀性

研究了Ｎｉ－Ｗ非晶态合金的电沉积方法，讨论了电解液组成、温度和ＰＨ值对镀主结合的影响，用Ｘ射线衍射测定了镀结构，分析了非晶态的形成规律，用ＸＰＳ研究了蜚 晶态镀层的耐蚀性。     

电镀非晶态镍钨合金工艺研究

研究了电镀非晶态镍钨合金工艺,采用EDS、XRD等手段检测了镍钨合金镀层,并将工艺条件如电流密度Jc、镀液pH值、镀液温度等对镀层的影响进行了比较,得出非晶态镍钨合金电镀的最佳工艺:[W]/([W] [Ni])为0.6～0.8,Jc=6.0～12.0 A/dm2,温度55～65℃,pH=6.5～7.5.结果表明,W含量质量分数高于44%的镍钨合金镀层结构为非晶态;且在此工艺下易得到钨含量在44%以上的非晶态钨合金镀层.     

电沉积非晶态镍—磷合金镀层的性能及其应用

用电沉积方法研制了一种新型的Ni—P(含P9～11％Wt)合金镀层，通过X谢线检定其结构为非晶态，大量的性能试验表明，此镀层具有较优异的物理化学性能，可广泛应用于各种腐蚀性介质中，延长了使用寿命，经济效益显著。     

电沉积非晶态铬镀层及其耐蚀性

在低浓度铬酸溶液中，室浊罡获得了镜面光亮的铬镀层，Ｘ射线衍射，透射电镀选区电子衍射（ＳＡＥＤ）表明，镀层为非晶态。非晶态铬镀层在１ｍｏｌ／ＬＨＣｌ、１ｍｏｌ＝ＬＨ２ＳＯ４和３％ＮａＣｌ溶液中的俯腐蚀结果，与传统铬镀层相比，非晶态铬镀层具遥更为优良的耐蚀性能。     

钕铁硼永磁材料电镀Ni-P非晶态镀层

研究了钕铁硼永磁材料电沉积Ni-P合金非晶态镀层的镀液组成、工艺参数和工艺流程,分析了影响镀层性能的影响因素,包括电流密度、温度、镀液pH值及亚磷酸的含量等。测定了镀层与基体的结合强度;用中性盐雾试验评定了镀层的耐蚀性。结果表明,Ni-P非晶态镀层导磁率高,矫顽力低,化学稳定性好,耐蚀性优异,是钕铁硼永磁材料的一种理想保护镀层。     

电沉积非晶态镍—钼合金及其镀层结构的研究

研究了在柠檬酸盐镀液中实现Ｎｉ，Ｍｏ共沉积的电解条件，获得了含Ｍｏ量为１６．４１％－６１．３５％（ｗｔ）的Ｎｉ－Ｍｏ合金。讨论了金属浓度比、阴极电流密度、ＰＨ值、搅拌、温度等因素对合金成分的影响，考查了所得合金的Ｘ射线衍射结构，认为沉积的Ｎｉ－Ｍｏ合金随着Ｍｏ含量的增加为Ｎｉ基取代型固溶体、过饱和固溶体、非晶态。